「patterned」を含む例文一覧(3853)
＜前へ 1 2 .... 49 50 51 52 53 54 55 56 57 .... 77 78 次へ＞- After bonding, the sapphire growth substrate is removed by the substrate removing technology, and the InAlGaN layer is patterned and etched and a current injection type light emitting element is completed.
ボンディングの後、サファイア成長基板（３０）は、基板除去技術を使って除去され、その後それらのＩｎＡｌＧａＮ層がパターニング及びエッチングされて電流注入型発光素子が完成する。 - 特許庁 - Particularly, in a case where the electrode is formed by being patterned by a screen printing method, the defects of breaking or thinning are reduced, and the electrode having the lead part having the edge having satisfactory linearity can be provided.
特に、電極をスクリーン印刷法でパターニングして形成する場合には、断線や細りなどの欠陥が減少するとともに、エッジの直線性の良好なリード部を有する電極を得ることができる。 - 特許庁 - To provide an improved method which forms a polysilicon line having a substantially vertical profile, by plasma-etching the polysilicon layer on a thin SiO2 layer through a patterned SiO2 cap layer.
パターン形成されたＳｉＯ_2キャップ層を介して薄いＳｉＯ_2層の上のポリシリコン層をプラズマ・エッチングして、実質的に垂直なプロファイルを有するポリシリコン線を形成する、改良された方法を提供する。 - 特許庁 - A film capacitor (90) includes metalized portions (93) and (96) that are sectionalized, patterned and configured to provide interconnections (100) and (102) on only one face of a rolled or stacked film capacitor.
フィルムコンデンサ（９０）が、巻回または積層のフィルムコンデンサの一方の面だけの上に相互接続部（１００）、（１０２）を形成するように、区分けされ、パターニングされ、構成されている金属化部（９３）、（９６）を含む。 - 特許庁 - A method is disclosed for calendering a sheet or film having at least one patterned surface by passing a web of a polymer resin through the nip between a rigid roll and an elastic roll.
ポリマー樹脂のウエブを剛性ロールと弾性ロールの間のニップに通すことを伴う少なくとも一つの表面模様付の表面を持つシートまたはフィルムをカレンダーする方法が開示される。 - 特許庁 - Furthermore, the apparatus includes an actuator 14 that introduces a reticle or the substrate into a conditioned chamber 20, and an alignment system 8 which matches the reticle or the substrate with the patterned and projected beam of radiation.
さらに本装置は、レチクルまたは基板を調整室２０に導入するアクチュエータ１４と、レチクルまたは基板をパターン付与された放射投影ビームに整合させる位置合わせ装置８とを含む。 - 特許庁 - After forming a gate insulation film 5 on a semiconductor substrate 1, a conductor film 6 containing a metal element as a constituent element and a silicon film are formed on the semiconductor substrate 1 and then are patterned.
半導体基板１上にゲート絶縁膜５を形成してから、半導体基板１上に金属元素を構成元素として含む導体膜６およびシリコン膜を形成し、それらをパターニングする。 - 特許庁 - Further, the dummy electrodes 17 on the side of the display panel 10 are so patterned that the electrodes 17a and 17c at both ends conduct to each other and the electrode 17b in the center does not conduct to other electrodes.
さらに、表示パネル１０側のダミー電極１７は両端の電極１７ａ、１７ｃ間は導通し、中央の電極１７ｂは他の電極と非導通状態となるパターンとする。 - 特許庁 - To provide foamed wallpaper with unevennesses patterned by electronic irradiation and heating only, without pressure-shaping after foamed or printing foamable printing ink, and to provide a method for producing the same.
発泡後に加圧賦型することや発泡抑制インキを印刷することなく、電子線照射と加熱のみでパターニングされた凹凸が形成された発泡壁紙及びその製造方法を提供する。 - 特許庁 - The chucks is independently movable, and therefore, while one substrate is moved between the loading system and the projecting system, the other substrate can pass through the measuring system and the patterned beam.
チャックは独立に可動であり、そのため、１つの基板がローディング・システムと投影システムの間を移動される間に、もう１つの基板は計測システム及びパターン形成されたビームを通過することができる。 - 特許庁 - Grooves 500 are formed on a color filter of a liq. crystal display device by patterning and, with common electrodes formed on the same, a groove is formed on the common electrode in a patterned part of the color filter.
液晶表示装置のカラーフィルタをパタニングして溝５００を形成し、その上に共通電極を形成しカラーフィルタがパタニングされた部分において共通電極に溝を形成させる。 - 特許庁 - The light interference type color display has a transparent substrate, an inner front light diffusion layer, a plurality of first electrodes, a patterned supporting layer, a plurality of optical films, and a plurality of second electrodes.
透明基板、内側前方光拡散層、複数の第一電極、パターン化支持層、複数の光学的フィルム、および複数の第二電極を有する光干渉型カラーディスプレイが提供される。 - 特許庁 - To provide a cup-molded body applied to the bust cup part of a brassiere, a foundation or the like, having patterned lace fabric, and smoothly wearable without getting stuck with an outer garment worn thereon.
ブラジャーやファンデーションなどのバストのカップ部に適用のカップ成型体で、模様入りのレース生地を有し、上に着用するアウターに引っ掛かることなく、スムーズに着用ができるカップ成型体を提供する。 - 特許庁 - Then, those Pt film, ferroelectric film and Pt film are patterned by end batch etching, and a ferroelectric capacitor is structured by holding a ferroelectric film 33 between platinum electrodes 32 and 34.
そして、これらのＰｔ膜、強誘電体膜及びＰｔ膜を一括エッチングでパターニングし、白金電極３２，３４で強誘電体膜３３を挟んだ構造の強誘電体キャパシタを形成する。 - 特許庁 - A glass or an Si wafer having an optional pattern comprising a metal and formed thereon is used as the substrate to carry out the CVD method and the carbon nanotubes are selectively prepared only in the patterned part.
基板として、ガラス又はＳｉウェハー上に、前記金属からなる任意のパターンを形成したものを用いて上記ＣＶＤ法を行い、このパターン部のみに選択的に、カーボンナノチューブを作製する。 - 特許庁 - A projection system 108 comprises an array of lenses located at a spacing from a substrate 114 such that each lens in the array focuses a respective part of a patterned beam onto the substrate 114.
投影システム１０８は、アレイ内の各レンズが、基板１１４上にパターン化したビームの各部分の焦点を結ぶように、基板１１４からある間隔のところに位置するレンズのアレイを備える。 - 特許庁 - A nonporous anode oxidation film (MAO) 5 is formed by anodizing the surface of a wiring metal film formed on a substrate, and then the wiring metal film is patterned to form a gate electrode 4.
基板上に形成された配線金属膜の表面を陽極酸化することにより無孔質陽極酸化膜(ＭＡＯ)５を形成した後、配線金属膜をパターニングしてゲート電極４を形成する。 - 特許庁 - The patterned surface (62) includes a plurality of discrete protrusions (72) in both axial and circumferential directions around the downstream end portion (52) relative to the longitudinal axis of the turbine combustion liner (34).
パターン付き表面（６２）は、下流端部分（５２）の周りにタービン燃焼器ライナ（３４）の長手方向軸線に対して軸方向及び円周方向の両方に複数の離散的な突起（７２）を含む。 - 特許庁 - In order to form the groove DT on the back of the semiconductor wafer WF, after applying a resist film on the back of the semiconductor wafer WF, the resist film is patterned by using photolithography technology.
半導体ウェハＷＦの裏面に溝ＤＴを形成するには、半導体ウェハＷＦの裏面にレジスト膜を塗布した後、フォトリソグラフィ技術を使用することにより、レジスト膜をパターニングする。 - 特許庁 - The phase shifting mask has a mask substrate substantially transparent to the energy beam used and a patterned phase shifting layer disposed on the mask substrate and having openings therein exposing the mask substrate.
この位相シフト・マスクは、使用されるエネルギー・ビームに対しほぼ透明なマスク基板と、マスク上に付着されマスク基板を露出させる開口をその中に有するパターン化された位相シフト層とを備える。 - 特許庁 - A plurality of electrodes 5 for connection are patterned on a facing surface 21 of a facing substrate 2, and a TFT 6 is formed to connect a drain electrode 67 to each electrode 5 for connection.
対向基板２の対向面２１に複数の接続用電極５をパターニングするとともに、各々の接続用電極５にドレイン電極６７が接続されるようにＴＦＴ６を形成する。 - 特許庁 - In a mesa structure semiconductor laser 10, a stripe structure contact 18 is specified on the top of the mesa, and patterned dielectric coating to be used for providing significant waveguide property contains chalcogenide glass 16.
メサ構造半導体レーザ１０では、メサの頂部にストライプ構造コンタクト１８を規定し、有意な導波性を提供するために用いられるパターン化された誘電体コーティングは、カルコゲナイドガラス１６を含む。 - 特許庁 - To improve an insulating property between adjacent first electrodes and reduce side-etched portions when a piezoelectric body layer is patterned by a wet etching method in an inkjet head manufacturing method.
インクジェットヘッドの製造方法において、隣接する第1電極層間の絶縁性を向上させるとともに圧電体層をウェットエッチング法でパターニングする際におけるサイドエッチングされる部分を減らす。 - 特許庁 - This invention further relates to the thermoplastic resin that is chemically modified at the chain end groups with a plurality of end-capping agents and to the marble-patterned multicolor molded products dyed with acidic and/or basic dyes.
末端基が同じく複数エンドキャッピング剤で化学修飾された熱可塑性樹脂ならびに前記樹脂に染着された酸性及び／又は塩基性染料からなるマーブル模様多色成形品。 - 特許庁 - Then, the wiring layer 13 is patterned and wiring 13a is formed by performing dry etching by using chlorine gas with the auxiliary mask 15a and remaining photoresist 17a as the mask.
つぎに、補助マスク１５ａおよび残留しているフォトレジスト１７ａをマスクとして塩素系ガスを用いたドライエッチングを行うことにより、配線層１３をパタニングして配線１３ａを形成する。 - 特許庁 - The suitable materials for the patterned metal layer 102 include, but are not limited to, platinum, molybdenum, tungsten, tantalum, nickel, titanium, copper, chromium, gold, aluminum, silver or other conductive materials appropriate for the operating temperature.
パターン化金属層１０２に好適な材料には、限定はしないが、白金、モリブデン、タングステン、タンタル、ニッケル、チタン、銅、クロム、金、アルミニウム、銀、または動作温度に適合する他の導電性材料が含まれる。 - 特許庁 - He would sometimes wear stylish kimono with an apricot pattern or sometimes wear a gorgeous costume patterned with an impressed gold or silver leaf, and when the garments were worn out, he gave them to other people under the pretext of bringing them in contact with the Buddha's providence by the garments.
彼の行状は、ある時は小梅の小袖、ある時は摺箔の衣装など結構なものを着て、ぼろぼろになると、仏縁を結ぶと称して、これを人々に与えていたそうである。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス - The writing paper was imported from China during or before the Muromachi period, and 'gubiki' was done on the paper with white, hanada (light indigo blue), and filemot, then the paper was patterned with intertwined foliage, cranes flying in the clouds, and oleanders using mica powders.
料紙は、古渡りの唐紙で、白、縹（はなだ：薄い藍色）、朽葉色などの具引きを施した上に、雲母（きら）で唐草、雲鶴、夾竹桃（きょうちくとう）などの文様を刷り出したものである。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス - A lithographic equipment includes a projecting system for projecting an irradiating beam patterned on a substrate held on the substrate-holding member, and a driving system for moving the substrate-holding member along a track.
リソグラフィ装置は基板支持体上に保持された基板上にパターニングされた放射ビームを投影するための投影システムと、基板支持体を軌道に沿って移動させるための駆動システムとを含んでいる。 - 特許庁 - The liquid crystal display device is constituted by disposing a color filter patterned in a wavelength band region corresponding to at least two colors between first and second substrates and a semitransmissive reflection film and the fluorescent body at the lower part of the color filter.
第１の基板と第２の基板との間に、少なくとも２色以上の波長帯域にパターン化されたカラーフィルターと、前記カラーフィルターの下方に半透過反射膜と蛍光体を配置した。 - 特許庁 - The magnetic recording medium using a bit-patterned medium 10 having a plurality of bit carriers 15 made of magnetic substances disposed on a magnetic recording medium is provided with a magnetic head 20, a detection part 30, and a timing control unit 40.
磁性体からなるビット担体１５が磁気記録媒体上に複数配置されるビットパターンドメディア１０を用いた磁気記録装置は、磁気ヘッド２０と検出部３０とタイミング制御部４０とからなる。 - 特許庁 - It is possible to remove particles on the substrate by discharging a mist on the patterned substrate by use of a two-fluid nozzle that mixes a pressured gas and a medical fluid to thereby form a mist.
加圧された気体と薬液を混合し、ミストを形成する２流体ノズルを用いて、パターン形成された基板にミストを吐出する処理を行うことで、基板上のパーティクルを除去することができる。 - 特許庁 - A coated building board includes a building board 3 having a surface with a plurality of block patterned protrusions 2 each having inclined planes 1 at the periphery, to which a coating is applied by inkjet printing based on a printing data 4.
周囲に傾斜面１を有するブロック状凸部２を表面に複数設けて形成された建築板３に印刷データ４に基づいてインクジェット印刷して形成された塗装建築板に関する。 - 特許庁 - A patterned medium 210 has a plurality of discrete data islands 230 arranged inside a plurality of tracks, and the plurality of tracks are arranged inside a plurality of multi-track groups or "hypertracks".
パターン化媒体２１０は複数のトラック内に配置された複数の分離したデータアイランド２３０を有し、当該複数のトラックは複数のマルチトラックグループ或いは「ハイパートラック」に分かれて配置されている。 - 特許庁 - To provide a method for forming a high-quality thin-film transistor channel region by utilizing a patterned metal mask and a grain boundary filter region for forming a large-scale single-crystal silicon thin film.
パターニングされた金属マスクと粒界フィルタ領域とを利用して大規模な単結晶シリコン薄膜を形成することにより、高品質の薄膜トランジスタチャンネル領域を形成する方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a transfer sheet which keeps a patterned metal thin film excellent in corrosion resistance, wrinkles and adhesion defect hardly occur during producing and prevents wrinkles or cracks from occurring in a transfer layer under a high humidity environment.
パターン化された金属薄膜が耐腐食性に優れ、製造時にシワや密着不良などが生じ難く、高湿度環境下で転写層にシワやひび割れが発生しない転写シートを提供する。 - 特許庁 - Protein including a metal is patterned on a semiconductor substrate as a result of including steps for patterning a charged material, and adsorbing protein including a metal to the charged material.
電荷を帯びた材料をパターニングし、電荷を帯びた材料に、金属内包タンパク質を吸着させる工程を含むことにより、結果的に金属内包タンパク質を半導体基板にパターニングするものである。 - 特許庁 - In addition, the hidden letter part 14 is formed by studding a plurality of void dots 14-2 arranged in an annulus on a checker-patterned fine lines 14-1 formed in a checker pattern.
また、隠し文字部１４は、格子形状に形成された格子状細線１４−１の上に、円環形状に形成された白抜き網点１４−２を複数個点在させることで構成する。 - 特許庁 - By the above processes, the wiring layer 18 is patterned so that certain isolation is performed while installing the predetermined pattern in the predetermined region 10a which runs along the dicing line DL of the bottom of the opening 10w.
こうして、所定のパターンを有しつつ、かつ開口部１０ｗの底部のダイシングラインＤＬに沿った所定の領域１０ａで確実に分離するように、配線層１８がパターニングされる。 - 特許庁 - To provide patterned media for performing super-high density magnetic recording over 1 Tbit/inch^2, its recording method and a magnetic material for magnetic recording to which the manufacturing method can be applied.
１Ｔｂｉｔ／ｉｎｃｈ^２以上の超高密度で磁気記録を行うためのパターンドメディア及びその製造方法並びに該製造方法を適用可能な磁気記録用磁性材料の提供。 - 特許庁 - In the article having a body and the cover covering at least a part of the body part, the cover or the body includes a patterned optically anisotropic layer having two or more areas each having different birefringence in a pattern shape, the cover includes a polarizing layer 1 and when the patterned optically anisotropic layer is viewed through the polarizing layer 1, the patterns in the areas each having different birefringence are visualized.
本体部と、該本体部の少なくとも一部を覆う蓋部を有する物品であって、複屈折性が異なる領域をパターン状に２つ以上有するパターン化光学異方性層を前記蓋部及び／又は前記本体部に含み、前記蓋部は偏向層１を含み、偏向層１を介して前記パターン化光学異方性層を見たときに前記の複屈折性が異なる領域のパターンが可視化される物品。 - 特許庁 - In the nanoimprint method, a resin layer consisting of UV-curing resin is formed on a substrate, a mold having an irregularly patterned part is applied to the resin layer so that the irregularly patterned part comes into contact therewith, and then the resin layer is irradiated with UV-rays under an atmosphere containing a gas which impedes curing of the UV-curing resin thus curing the resin layer.
本発明に係るナノインプリント方法は、基材上に紫外線硬化樹脂からなる樹脂層を形成し、前記樹脂層に対して、凹凸パターン部を有するモールドを、前記凹凸パターン部が前記樹脂層に接触するように押し当て、紫外線硬化樹脂の硬化を阻害する気体を含む雰囲気下で、前記樹脂層に紫外線を照射して前記樹脂層を硬化させることを特徴とする。 - 特許庁 - A patterned magnetic recording medium with high surface flatness without resist residue is obtained by applying a resist, injecting ions, removing a usual resist mask layer 6 as well as a release layer 5a between the resist mask layer 6 and the magnetic recording layer 4 together with the resist residue 6a, and depositing a protective layer 5b on the magnetic recording layer 4 where an exposed magnetic recording area and a non-recording area are patterned.
レジスト塗布し、イオン注入後、通常のレジストマスク層６除去だけでなく、レジストマスク層６と磁気記録層４の間にある剥離層５ａをレジスト残り６ａとともに除去し、露出した磁気記録領域と非記録領域がパターン化された磁気記録層４に保護層５ｂを成膜することにより、レジスト残りを皆無にした、高表面平坦度のパターンド磁気記録媒体を得ることができる。 - 特許庁 - The method of fabricating the CMOS image sensor includes the steps of providing a substrate in which a predetermined process has completed; forming a patterned block layer on top of a region of the substrate where the photodiode is to be formed; using mask to implant ions into a remaining region except the region where the photodiode is to be formed, leaving the patterned block layer; and removing the mask.
本発明のＣＭＯＳイメージセンサの製造方法は、所定の工程が完了した基板を用意するステップと、該基板のフォトダイオードの形成される領域の上部にパターニングされたブロック層を形成するステップと、該パターニングされたブロック層を残した状態で、前記フォトダイオードの形成される領域を除く残りの領域に対して、マスクを用いたイオン注入を行うステップと、前記マスクを除去するステップとを含む。 - 特許庁 - In this decorating method which has a stage of applying an inorganic coating material consisting of an aqueous solution of water-soluble alkali metal silicate on the surface of a substrate 1, patterned parts containing a hardener which hardens the alkali metal silicate on at least a part of the surface of the substrate 1 are formed and, subsequently, the inorganic coating material is applied so as to cover at least the patterned parts.
基材１の表面に水溶性アルカリ金属珪酸塩の水溶液よりなる無機塗料を塗布する工程を有する加飾方法において、該基材の表面の少なくとも一部にアルカリ金属珪酸塩を硬化させる硬化剤を含有した模様部を形成し、次いで、少なくとも該模様部を覆うように前記無機塗料を塗布することを特徴とする無機塗料を用いた加飾方法。 - 特許庁 - The method of patterning a thin film includes a process for laminating a deposition film 30 on the thin film 20, a process for laminating a photo resist layer 40 on the deposition film, a process for patterning the photoresist layer by photolithography, and etching and patterning the deposition film by using the patterned photoresist layer, and a process for etching and patterning the thin film by using the patterned deposition film as a pattern mask.
薄膜２０上に、蒸着膜３０を積層する工程と、 前記蒸着膜上に、フォトレジスト層４０を積層する工程と、 フォトリソグラフィにより、前記フォトレジスト層をパターニングし、パターニングされた前記フォトレジスト層を用いて前記蒸着膜をエッチングしてパターニングする工程と、 パターニングされた前記蒸着膜をパターンマスクとして、前記薄膜をエッチングしてパターニングを行う工程と、を含むことを特徴とする。 - 特許庁 - To provide a diffraction structure formation body with a patterned metal reflecting layer formed by processing a metal reflecting layer in a fine pattern shape at a high speed and its manufacturing method, diffraction structure transfer foil using the diffraction structure formation body having the patterned metal reflecting layer, a diffraction structure sticker, diffraction structure transfer foil, and an information recording medium with the diffraction structure using the diffraction structure sticker.
細かいパターン状の金属反射層を高速で加工したパターン状の金属反射層を有する回折構造形成体とその製造方法、パターン状の金属反射層を有する回折構造形成体を用いた回折構造体転写箔、回折構造体ステッカー、及び回折構造体転写箔、回折構造体ステッカーを用いた回折構造体付き情報記録媒体を提供すること。 - 特許庁 - The silicon substrate surface is patterned for mirror formation, so that the mirror surface of the mobile micromirror may be constituted of a {100} face perpendicular to the silicon substrate through anisotropic wet etching, and the silicon substrate surface is patterned for V groove formation, so that respective groove faces of the input-side and output-side optical fiber holding V grooves is constituted of {111} planes through anisotropic wet etching.
ミラー形成のためのシリコン基板表面へのパターニングを、異方性ウェットエッチングによって、シリコン基板表面に垂直な｛１００｝面により可動マイクロミラーのミラー面が構成されるように施し、Ｖ溝形成のためのシリコン基板表面へのパターニングを、異方性ウェットエッチングによって、｛１１１｝面により入力側及び出力側光ファイバ保持Ｖ溝のそれぞれの各溝面が構成されるように施す。 - 特許庁 - A lithographic apparatus comprises: an illumination system configured to condition a radiation beam; a support formed to support a patterning device formed to impart a cross-sectional pattern to the radiation beam to form a patterned radiation beam; a substrate table formed to hold a substrate; and a projection system configured to project the patterned radiation beam onto an elongate target portion of the substrate.
リソグラフィ装置は、放射ビームを条件付けるようになされた照明システムと、パターン化された放射ビームを形成するべく放射ビームに断面パターンを付与するように構築されたパターニング・デバイスを支持するように構築されたサポートと、基板を保持するように構築された基板テーブルと、パターン化された放射ビームを基板の細長い目標部分に投射するようになされた投影システムとを備えている。 - 特許庁 - A lithographic apparatus comprises: an illumination system configured to condition a radiation beam; a support formed to support a patterning device (formed to impart a cross-sectional pattern to the radiation beam to form a patterned radiation beam); a substrate table formed to hold a substrate; and a projection system configured to project the patterned radiation beam onto a target portion of the substrate.
リソグラフィ装置は、放射ビームを条件付けるようになされた照明システムと、パターニング・デバイス（パターン化された放射ビームを形成するべく放射ビームに断面パターンを付与するように構築されている）を支持するように構築されたサポートと、基板を保持するように構築された基板テーブルと、パターン化された放射ビームを基板の目標部分に投射するようになされた投影システムとを備えている。 - 特許庁
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