「process」を含む例文一覧(50000)

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  • This method for producing silicon carbide powder, containing a thermal treatment process for thermally treating silicon carbide powder under a vacuum atmosphere.
    炭化ケイ素粉体を、真空雰囲気下で熱処理する熱処理工程を含む炭化ケイ素粉体の製造方法である。 - 特許庁
  • To provide a system and process for graphical program configuration enabling a user to create complete computer programs.
    ユーザが完成されたコンピュータ・プログラムを作成することができるようにするグラフィカル・プログラム構成システムとプロセスを提供する。 - 特許庁
  • The method comprises processes to successively form transverse perforations (2a) by a laser process on a wounded sheet (2) being wounded into a roll shape.
    ロール状に巻き取られる巻取りシート(2)にレーザ加工により横ミシン目(2a)を順次形成する工程を含む。 - 特許庁
  • To provide a phase change ink particularly suitable for using in a process of phase change inkjet printing which requires energy saving.
    省エネルギーが要求される相変化インクジェット印刷プロセスに用いるのに特に適した相変化インクを提供する。 - 特許庁
  • To provide a semiconductor device which can be brought into a mirror package after an assembling process without replacing a bonding wire.
    ボンディングワイヤを入れ替えることなく、組み立て工程後にミラーパッケージとすることができる半導体装置を提供する。 - 特許庁
  • Then, an etching process is performed using the first mask pattern 121 and the second mask pattern 123 as etching masks.
    そして、第1マスクパターン121及び第2マスクパターン123をエッチングマスクとして使用してエッチング工程を実施する。 - 特許庁
  • In the succeeding foaming and molding process, the pre-molding is heated to be foamed to form the inorganic foamed molding.
    続く発泡成形工程では、予備成形体を加熱し、発泡させることにより無機質発泡成形体を形成する。 - 特許庁
  • Here, in this caulking process, the barrel part 31 is compressed and deformed so that the cylindrical shape remains at a part thereof.
    ここで、このかしめ工程において、バレル部31がその一部に円筒形状が残こるように圧縮変形する。 - 特許庁
  • To provide an image forming apparatus, wherein cost reduction of a tandem type process unit which is a consumable is attained.
    消耗品であるタンデム型プロセスユニットのコストの低減を図ることができる画像形成装置を提供すること。 - 特許庁
  • To provide a more effective system and method for increasing carbon dioxide during a gasification process of a carbonaceous material.
    炭素質物質のガス化工程中に二酸化炭素を増加させるための、より効果的なシステム及び方法を提供する。 - 特許庁
  • To provide a firing/treatment process of a gypsum plaster board waste material by which anhydrous gypsum can be recovered from such a waste material without decomposing gypsum.
    石膏ボード廃材からの無水石膏の回収を石膏を分解させることなく行う方法を提供する。 - 特許庁
  • In addition, if the name data them elves overlap one another, the overlap avoiding process is performed for eliminating the overlapping.
    なお、名称データ同士が重なり合う場合には、重なり回避処理を実行してその重なり合いを解消する。 - 特許庁
  • In the first process, the fish with skin is soaked in the alkali treatment solution until its weight becomes ≥101 wt.% than that before soaked.
    第1工程では、皮付き魚肉を浸漬前の101重量%以上となるまでアルカリ処理溶液に浸漬する。 - 特許庁
  • The use of the adhesive sheet can suppress the influence of frictional electrification caused in the manufacturing process of electronic parts.
    当該粘着シートの使用により電子部品製造工程で生じる摩擦帯電の影響を抑えることができる。 - 特許庁
  • Thereafter, a drying process 14 is effected in the non-oxidizing atmosphere and the solution is dried to form an amorphous silicon film.
    その後、非酸化雰囲気において乾燥工程14を行ない、溶液を乾燥させてアモルファスシリコン膜を形成する。 - 特許庁
  • In the final process, the bottom concrete slab 5 is cast-in molded between foot pieces 2a, 3a of the side concrete 2, 3.
    底部コンクリート版5を最終工程で側部コンクリート版2,3の脚片2a,3aの間に現場打ち成形する。 - 特許庁
  • A GPU 49 writes pixel data of the sub-polygons generated by the PPP 48 in a frame buffer 58 and executes a rendering process.
    GPU49は、PPP48が生成したサブポリゴンの画素データをフレームバッファ58に書き込み、レンダリング処理を行う。 - 特許庁
  • A water repellency imparting process for the semiconductor wafer, for example, a silicon wafer, may includes removing an oxide film from the surface.
    該半導体ウェーハの例としてのシリコンウェーハの撥水化処理は、表面の酸化膜除去を行うことを含んでよい。 - 特許庁
  • The subpixel of the triple magnified image after the filtering process is assigned to 3 emitting light elements that constitute one pixel and displayed.
    フィルタリング処理後の3倍画像データのサブピクセルを、1画素を構成する3つの発光素子に割り当てて、表示する。 - 特許庁
  • To provide an α2,3-sialic acid transferase (ST3GalIV) defective non-human animal and screening process using the same.
    α2,3-シアル酸転移酵素(ST3GalIV)欠損非ヒト動物およびそれを用いたスクリーニング方法の提供 - 特許庁
  • In an arrangement process, a second substrate 2 is arranged on the top face of a Peltier element 5 with a conductive paste 4 interposed therebetween.
    配置工程において、ペルチェ素子5の上面に、導電性ペースト4を介して第2の基材2が配置される。 - 特許庁
  • The semiconductor substrate is once stopped, and then rotated at a high speed to be dried (second drying process).
    その後一旦半導体基板を停止させ、高速で半導体基板を回転させ乾燥(第2の乾燥工程)させる。 - 特許庁
  • To provide polyester fiber woven fabric in low cost by suppressing wrinkle formation, even when the preset is omitted before the dyeing process.
    染色加工前のプレセットを省略してもシワの発生を抑え、低コストでポリエステル繊維織物を提供する。 - 特許庁
  • To provide a thermal forming system (10) and an active cooling process for actively cooling a workpiece (12) during the laser forming.
    熱成形システム(10)およびレーザ成形時に加工物(12)を能動冷却するためのプロセスを提供すること。 - 特許庁
  • To effectively perform temperature adjustments of substrates having metal joining portions and improve throughput of substrate joining process.
    金属の接合部を有する基板同士の温度調整を効率よく行い、基板接合処理のスループットを向上させる。 - 特許庁
  • By this, deterioration due to overheating of the rotor blade 21, and deposition of solids due to cooling of process gas can be prevented.
    このため、ロータ翼21の過熱による劣化と、プロセスガスの冷却による固体物の析出を防止することができる。 - 特許庁
  • To provide an optical filter which can be mounted to a planar optical waveguide element and can be manufactured according to an automatic process.
    平面導波路素子への実装、及び自動化工程により製造することが可能な光学フィルターを提供する。 - 特許庁
  • To provide an improved method and instrument for in-situ/noncontact temperature measurement in a semiconductor process.
    半導体プロセスでの原位置・非接触温度測定のための改善された方法および装置を提供することである。 - 特許庁
  • The product obtained by collecting and reusing the toner fine powder classified in a classification process in another cycle is added during melting and kneading.
    溶融混練時に、別サイクルの分級工程で分級されたトナー微粉を回収して再利用したものを添加する。 - 特許庁
  • PROCESS FOR COMMERCIALLY MANUFACTURING HAIR OR SKIN COSMETIC PRODUCT USING APPARATUS HAVING MICRO STRUCTURAL UNIT
    マイクロ構造ユニットを有する装置を使用した、頭髪‐又は皮膚化粧用製品を工業的に製造するための方法 - 特許庁
  • When the second members are constituted of a bimetal, since thermal expansion correcting plates are not needed, a welding process can be removed.
    第2のメンバ自体をバイメタルで構成すると、熱膨張補正板が不要になるから、溶接作業工程を省ける。 - 特許庁
  • METHOD FOR RECYCLING RUBBER ROLLER, RUBBER ROLLER RECYCLED BY THE METHOD, PROCESS CARTRIDGE HAVING RUBBER ROLLER, AND IMAGE FORMING APPARATUS
    ゴムローラの再生方法、再生方法により再生されたゴムローラ、ゴムローラを有するプロセスカートリッジおよび画像形成装置 - 特許庁
  • A capsuled body (capsuled with Pt or Ni) 38 is heated in an inert gas in a graphite crucible 42 in a preliminary heating process S15.
    予備加熱工程S15では、不活性ガス中において黒鉛るつぼ42内の被包体38が加熱される。 - 特許庁
  • To provide a game machine in which a process until lotting variable display patterns corresponding to finally stopped patterns is simplified.
    最終停止図柄に対応する変動表示パターンを抽選するまでの過程が簡素な遊技機を提供する。 - 特許庁
  • To easily adjust circumference of a spiral steel pipe while preventing defective offset of welding in the process of manufacturing the spiral steel pipe.
    スパイラル鋼管の製造工程において、溶接のオフセット不良を防止しつつ、周長を容易に調整可能とする。 - 特許庁
  • A cross-process edge detector 224 detects an edge constituting part of an object from the color component-separated image data.
    クロスプロセスエッジ検出器224は、オブジェクトの一部を構成しているエッジをその色成分別画像データから検出する。 - 特許庁
  • To establish a technique for automatically managing and controlling varied workflows even if the process is not defined individually.
    個別にプロセス定義をしなくても、多様化するワークフローの自動的な管理と制御を可能にする手法を確立する。 - 特許庁
  • Then, the measurement process is executed after the color corresponding to the detected color data is detected from the color image after correction.
    そして、補正後のカラー画像から被検出色データに対応する色彩を検出した後に、測定処理を実行する。 - 特許庁
  • When the threshold is larger than the level of analog signal and the signal RDM is no longer supplied, the process is advanced to the ST6.
    しきい値がアナログ信号のレベルよりも大きく信号RDMが供給されなくなるとST6に進む。 - 特許庁
  • To provide a strain sensor material by a simplified process and a strain measuring method by microscopic Raman spectroscopy.
    簡略化されたプロセスによるひずみセンサ材料、および顕微ラマン分光によるひずみ測定方法を提供する。 - 特許庁
  • This process is carried out for all the instructions of the three slots (S63-S65) and the sum of the humming distances is calculated (S66).
    その処理を3つのスロットの命令のすべてについて行ない(S63〜S65)、ハミング距離の和を求める(S66)。 - 特許庁
  • In addition, when a user loads the delivered cleaning sheet into the printer and depresses a cleaning button, the cleaning process of the thermal head is initiated.
    ユーザーが排出されたクリーニングシートを装填してクリーニングボタンを押下すると、サーマルヘッドのクリーニング処理が開始される。 - 特許庁
  • METHOD OF PREDICTING LINE WIDTH ROUGHNESS AND RESIST PATTERN FAILURE, PROGRAM, APPARATUS, AND USING THE SAME IN LITHOGRAPHY SIMULATION PROCESS
    ライン幅粗さおよびレジストパターン不良を予測する方法、プログラム、および装置、ならびにそのリソグラフィシミュレーションプロセスでの使用 - 特許庁
  • To provide dynamic selection of a software version without interruption to the supported process or service during a version change.
    バージョン変更の間、サポートされているプロセスまたはサービスの中断がないソフトウエア・バージョンの動的な選択を提供する。 - 特許庁
  • In the image forming method, the heating and pressing process is performed, after the image is formed using the image forming material.
    該画像形成材料を用いて、画像形成した後、加熱加圧処理することを特徴とする画像形成方法である。 - 特許庁
  • To enhance positional controllability and size uniformity of a very small structure without going through a complicated processing process at a high cost.
    複雑で高コストとなる処理工程を経ることなく、微小な構造の位置制御性およびサイズ均一性を高める。 - 特許庁
  • In the mixing and reaction process, the final pH value of the obtained titanium oxide precursor slurry is adjusted to be ≤7.
    混合反応工程での酸化チタン前駆体スラリーの最終pHを、7以下とする酸化チタン前駆体の製造方法。 - 特許庁
  • Then, as needed, a URL of the server to process the intranet information is added to the buried intranet information.
    そして、必要に応じて、その埋め込んだ網内情報に、網内情報を処理すべきサーバのURLを付加する。 - 特許庁
  • A supplement page creating process is performed to reconfigure as an unreduced image a page having a character size smaller than a threshold (S2103).
    閾値以下の文字サイズを持つページを非縮小画像として再構築する補填ページ作成処理を行う(S2103)。 - 特許庁
  • To provide a polymer material and a carbon material having novel physical properties and morphology prepared by a novel synthetic process.
    新規な合成プロセスで調製された、新規な物性、形態を有する高分子材料及び炭素材料を提供する。 - 特許庁
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