「reference patterns」を含む例文一覧(344)
＜前へ 1 2 3 4 5 6 7 次へ＞- For example, two layout patterns are prepared for every one layout type, and one layout pattern is selected from the two layout patterns in accordance with which of portrait-oriented and landscape-oriented the image data is on the basis of an up-down direction at the observation time as a reference.
例えば、１つのレイアウトタイプごとに２通りのレイアウトパターンを用意し、画像データが観測時上下方向を基準にして縦長／横長のいずれであるかに応じて、前記２通りのレイアウトパターンの中から１つのレイアウトパターンを選択する。 - 特許庁 - In the aligner with the variable-pattern forming devices 10a to 10e forming transfer patterns and projection optical systems PL1 to PL5 projecting the images of the transfer patterns formed by the forming devices on a photosensitive substrate, the aligner has a reference-mark display means for displaying reference marks in the forming devices and a measuring means for measuring the positions of the reference marks.
転写パターンを生成する可変パターン生成装置１０ａ〜１０ｅと、前記可変パターン生成装置により生成された転写パターンの像を感光性基板上に投影する投影光学系ＰＬ１〜ＰＬ５とを備える露光装置において、前記可変パターン生成装置において基準マークを表示させる基準マーク表示手段と、前記基準マークの位置を計測する計測手段とを備える。 - 特許庁 - The first correction value calculation step and the second correction value calculation step use results of reading reference patterns, and the reference sheet having the reference patterns formed thereon is preliminarily provided on the scanner so as to cover a read range of the first read step and that of the second read step, before the first correction value calculation step and the second correction value calculation step.
そして、前記第１補正値算出ステップ及び前記第２補正値算出ステップは、基準パターンの読み取り結果を用いるものであり、前記第１補正値算出ステップ及び前記第２補正値算出ステップの前に、前記基準パターンの形成された基準シートが、前記第１読み取りステップの読み取り範囲及び前記第２読み取りステップの読み取り範囲をカバーするように前記スキャナに予め設けられる。 - 特許庁 - The ideal pattern generation part 30 extracts and compares *>3 reference unit patterns Pi included in an inspected image S and selecting as the gradation value of the ideal pattern PR a gradation value regarding one of reference unit patterns Pi for every corresponding pixel according to specific reference, e.g. the selection of the 2nd gradation value from the smallest value to generate the ideal pattern PR.
理想パターン生成部３０は、被検査画像Ｓに含まれる３つ以上の基準単位パターンＰｉを抽出して比較し、たとえば下から２番目の大きさを有する階調値を選択する旨などの所定の基準に基づいて対応画素毎に基準単位パターンＰｉのうちの１の単位パターンに関する階調値を理想パターンＰＲの階調値として選択することにより、理想パターンＰＲを生成する。 - 特許庁 - A registration determination part 124 determines whether to register the received set to the holding part 130 in reference to the rhythm patterns already registered in the holding part 130.
登録判定部１２４は、受け付けられた組を保持部１３０に登録するか否かを、保持部１３０に既に登録されているリズムパターンを参照して、判定する。 - 特許庁 - When the variable display of the decorative patterns is to be started, when the count value of a time shortening counter matches with a time shortening end reference value, an under-time-shortening flag is cleared and an off state is attained.
飾り図柄の可変表示が開始されるときに、時短カウンタのカウント値が時短終了基準値と合致すると、時短中フラグがクリアされてオフ状態となる。 - 特許庁 - In the second step, the color pattern having the joint clearance P closest to the reference value of the plurality of color patterns having different set values of the joint clearance P is selected.
第二ステップでは、目地間隔Ｐの設定値が異なる複数の色柄パターンのうち前記基準値に最も近い目地間隔Ｐを有する色柄パターンを選択する。 - 特許庁 - A camera 200 photographs a board 100 for calibration on which a reference position 101, a surrounding pattern, a central pattern 103, and corner patterns 104 are formed from a prescribed position.
カメラ２００は、基準位置１０１、包囲パターン１０２、中央パターン１０３および角パターン１０４が形成された校正用ボード１００を所定の位置から撮像する。 - 特許庁 - The information is recorded to the hologram layer 225 by the interference patterns formed by the interference of the information light converging to positions different from each other and reference light for recording.
ホログラム層２２５には、互いに異なる位置で収束する情報光と記録用参照光との干渉による干渉パターンによって情報が記録される。 - 特許庁 - At first, reference patterns of specified characters stored in a memory and a plurality of character images recognized as the specified characters are read based on the operation by the user.
まず、ユーザによる操作に基づいて、メモリに格納されている特定文字の標準パターン及びこの特定文字として認識された複数の文字イメージを読み込む。 - 特許庁 - When the focusing inspecting unit 10 is set on the photographic film setting surface of a film carrier, respective parallel line patterns 22 to 25 are inclined with reference to the printing optical axis.
ピント調整検査器１０を、フイルムキャリアの写真フイルムセット面にセットすると、各平行線パターン２２〜２５が焼付光軸に対して傾斜した状態になる。 - 特許庁 - One of timings corresponding to the emitted light patterns is used as a correction channel CH to generate correction timing pulses of a delay time and a pulse width with a starting edge of the reference channel as the starting point.
発光パターンに応じたタイミングの１つを基準チャネルCHとし、基準チャネルの開始エッジを起点とする遅延時間、パルス幅の補正タイミングパルスを生成する。 - 特許庁 - Referring to the parameter of a reference value table set on the basis of the displacement vector, embroidery data for sewing the embroidery of the arrow patterns is created (S7 and S9).
変位ベクトルに基づいて設定された基準値テーブルのパラメータを参照して、矢印図柄を刺繍縫製するための刺繍データが作成される（Ｓ７、Ｓ９）。 - 特許庁 - One set of patterns PA1 to PA7 is formed on a transfer belt 6 so as to detect the color misalignment, then a change in the pattern (overlapping degree of a reference color and a color as the object to be detected) is read.
色ずれ検出には１セットのパターンPA1〜PA7を転写ベルト６上に形成しパターンの変化（基準色と検出対象色の重なり具合）を読取る。 - 特許庁 - In accordance with a plurality of in-plane repeated patterns, an evaluation value is calculated from the relation between a measured value for each total number of sheets in each pattern and the reference value as a whole.
複数通りの面内繰返しパターンに従い、それぞれのパターンにおける累計枚数での測定値と全体の基準値との関係から評価値を計算する。 - 特許庁 - In a speed display part 10a of the dial 10, four reference scale patterns 11 to 14 are formed at angle distance of 90° in order.
目盛り盤１０の車速表示部１０ａにおいて、４つの基準目盛りパターン１１乃至１４の各々は、順次、９０度の角度間隔にて形成されている。 - 特許庁 - The semiconductor device has a device region and a TEG region outside the device region, and a line-and-space pattern 21 in the TEG region 10 has a plurality of reference patterns 12 arrayed regularly at predetermined intervals and a specific pattern 13 arranged near the reference patterns 12.
本発明にかかる半導体装置は、デバイス領域と前記デバイス領域の外側に設けられたＴＥＧ領域とを備える半導体装置であって、ＴＥＧ領域１０のラインアンドスペースパターン２１は、所定の間隔で規則的に配列された複数の基準パターン１２と、基準パターン１２の近傍に配置された特異パターン１３とを有している。 - 特許庁 - A controller calculates a three-dimensional interference pattern for generating reproduction light corresponding to a desired three-dimensional image when a recording medium 1 is irradiated with reference light for reproduction, divides the three-dimensional interference pattern into partial interference patterns, and calculates reference light at the time of recording and information light at the time of recording as to the respective partial interference patterns.
コントローラは、記録媒体１に対して再生用参照光が照射されたときに所望の３次元画像に対応した再生光を発生させるための３次元干渉パターンを計算し、この３次元干渉パターンを部分干渉パターンに分割し、各部分干渉パターンについて、記録時参照光および記録時情報光を計算する。 - 特許庁 - In an image display method, proper texture patterns are produced to each color in the multi color image by using a continuously variable screening tool, the tool is produced by a mixture pattern from a set of reference screens, the reference screens correspond to, for example, selected reference colors in a color space not depending on a machine.
連続可変スクリーニングツールを用いてマルチカラー画像における各色に対し固有のテクスチャパターンを生成し、連続可変スクリーニングツールは１組の基準スクリーンからの混和パターンによって生成され、これら基準スクリーンは例えば、機械に依存しない色空間における選択された基準色に対応付けられる。 - 特許庁 - In this method, first series calibration spectra are calculated from at least one reference pattern, and each spectrum of which is calculated by using at least one known value of different structure parameter among individual reference patterns to be stored in central library without considering parameters of the system used for generation of the reference pattern.
第一系列の較正スペクトルが少なくとも１つの基準パターンから計算され、各スペクトルは基準パターンの生成に使用される装置のパラメータを考慮せずに個々の基準パターンの少なくとも１つの構造パラメータの異なる既知の値を使用して計算され、各スペクトルが中央ライブラリに記憶される。 - 特許庁 - On the green sheet 18, a first reference line L1 for dividing the first column A and the second column B and second and third reference lines L2 and L3 for dividing the first and second columns A and B into the respective first and second electrode patterns 16 and 17 are set.
グリーンシート１８には、第１の列Ａと第２の列Ｂとを分割する第１の基準線Ｌ１と、第１，第２の列Ａ，Ｂを第１，第２の電極パターン１６，１７毎に分割する第２，第３の基準線Ｌ２，Ｌ３とが設定されている。 - 特許庁 - A prescribed recording surface and prescribed reference light are set on the XYZ coordinate system, and interference fringe patterns formed on the recording surface by object light from the point light sources composing the respective original images and the reference light are obtained by calculation.
ＸＹＺ座標系上に、所定の記録面および参照光を設定し、各原画像を構成する点光源からの物体光と参照光とによって記録面上に形成される干渉縞パターンを演算によって求める。 - 特許庁 - The level of reflected waves obtained by transmitting radio waves to a detection area is collated with one or more reference patterns, specified on the basis of weather conditions such as light rain and heavy rain, so as to select and determine the reference pattern fitting to the actual weather condition.
検知領域に電波を送信して得られた反射波のレベルを、小雨や大雨などの天候条件に基づいて規定された１以上の基準パタンと照合し、実際の天候条件に適合した基準パタンを選択判断する。 - 特許庁 - A ground pattern 53 stipulating the reference potential of a reception circuit of the radio wave receiver 4 and a ground pattern 37 stipulating the reference potential of the meter circuit of a meter circuit board 3 are connected, so that the ground patterns 53 and 37 constitute an antenna part together with an antenna 6.
電波受信機４の受信回路の基準電位を規定するグランドパターン５３と、メータ回路基板３のメータ回路の基準電位を規定するグランドパターン３７とが接続されてグランドパターン５３、３７がアンテナ６とともにアンテナ部を構成する。 - 特許庁 - A group of mutually different reference patterns 16 and a basic pattern 18 are imaged by the second imaging device functioning as a master and each reference pattern 16 of the group is assigned uniquely to one relative position at the time.
互いに異なる参照パターン１６のグループと基本パターン１８を、マスタとしての役目をする第２の画像付け装置によって画像付けし、このときグループのそれぞれの参照パターン１６が１つの相対位置に一義的に割り当てられている。 - 特許庁 - Information light carrying and supporting the two-dimensional pattern information corresponding to data and reference light for recording modulated by phase modulation patterns are arranged on the hologram optical information recording medium in such a manner that the optical axes are aligned to the same line and the generated interference patterns are recorded.
ホログラム光情報記録媒体に、データに対応する２次元パターン情報を担持した情報光と位相変調パターンで変調された記録用参照光を光軸が同一線上となるように配置し、発生する干渉パターンを記録される。 - 特許庁 - Patterns Q1, Q2 of a plurality of image data G imaged in different times by a rear camera are acquired when the vehicle speed is less than the reference speed Vk, and the moving distance DM is found, based on the patterns Q1, Q2 (steps S1-6 to S1-14).
車両が前記基準車速Ｖｋ未満の時、後方カメラで異なる時間に撮像した複数の画像データＧのパターンＱ１、Ｑ２を取得し、そのパターンＱ１、Ｑ２に基づいて移動距離ＤＭを求める（ステップＳ１−６〜ステップＳ１−１４））ようにした。 - 特許庁 - A management device 4 manages game information in association with wiring patterns, so that it can recognize the change of game information due to wiring selection information (wiring patterns) and appropriately compares totaled game information with reference game information in change in an operation situation by the wiring patterns, nail adjustment, or determination of fraudulent practice.
管理装置４は、配線パターンに対応付けて遊技情報を管理するので、配線選択情報（配線パターン）による遊技情報の変化が把握可能となり、配線パターンによる稼動状況の変化、或いは釘調整や、不正判定を行う場合に、集計した遊技情報と基準となる遊技情報との比較を適切に行うことが可能となる。 - 特許庁 - Sine bright and dark patterns 122 wherein lightness is set based on a function determined by applying four rules of arithmetic to a plurality of different sine functions are displayed on a print surface of the position detection reference sheet.
位置検出基準シートにおける印刷面に、複数の異なる正弦関数を四則した関数に基づき明度が設定された正弦明暗模様１２２を表示させている。 - 特許庁 - The registration-patterns with different magnifications formed between continuous printing pages with different magnifications are read and converted into the reference magnification according to the magnification so as to calculate and hold the present position misalignment correction.
倍率の異なる連続印字ページ間で形成される倍率の異なるレジパターンを読み取り、倍率に応じて基準倍率に換算して現在の位置ずれ補正量を演算し保持する。 - 特許庁 - Furthermore, second density variation measuring patterns are created in synchronization with a roller home position sensor, and a second correction reference pattern is generated on the basis of the output signal of the density detector.
また、ローラホームポジションセンサに同期して第２濃度変動測定用パターンが作成され、濃度検出器の出力信号に基づいて、補正用第２基準パターンが生成される。 - 特許庁 - The holographic recording medium 1 comprises: a recording layer 12 on which are recorded interference patterns generated by interference of information light and reference light; and a cover layer 11 and a bottom substrate 13 adjacent thereto.
ホログラフィック記録媒体１は、情報光と参照光との干渉縞を記録するための記録層１２と、これに隣接するカバー層１１およびボトム基板１３を備えている。 - 特許庁 - To detect minute defects with improved sensitivity by preventing pseudo-defects from occurring because of minute variations of a pattern to be inspected for a method of inspecting defects for comparing inspection and reference patterns.
検査パターンと参照パターンとの比較を行う欠陥検査法に関し、検査対象パターンの微小な変動による擬似欠陥の発生を防ぎ、微小な欠陥を感度良く検出する。 - 特許庁 - Then, the number of the patterns (scales) from a reference point (moving start point) is detected and counted by a detector 3 attached to a movable part of the machine tool or the like of the measuring object.
次に、測定対象物である工作機械等の可動部に取り付けられた検出器３により、基準点（移動開始点）からのパターン（目盛り）の数を検出してカウントする。 - 特許庁 - The storage means 3 stores the images of the predetermined patterns 7 previously captured by the imaging means 2 in the detection area P before the deformation of the tires 6 as reference images.
記憶手段３には、タイヤ６の変形前に、検出エリアＰにおいて撮像手段２によって予め撮像された所定パターン７の画像が基準画像として記憶されている。 - 特許庁 - A plurality of patterns whose timings for starting of printing are shifted by a specified amt. to a reference dot are printed in a reciprocating scanning of a print head or a complementary printing by a plurality of heads.
プリントヘッドの往復走査または複数ヘッドによる相補的プリントにおいて、基準となるドットに対して、プリント開始タイミングを所定量づつずらした複数のパターンをプリントする。 - 特許庁 - Then, an optimum proximity effect correction coefficient and deviations of the patterns from design dimensions when drawn by using the proximity effect correction coefficient are calculated for every reference emission amount.
次いで、基準照射量毎に、最適な近接効果補正係数と、この近接効果補正係数を用いて描画したときのパターンの設計寸法からのずれとを算出する。 - 特許庁 - Then, the management server 52 determines the propriety of this reference to medical information at the medical information viewer 20 by referring to a predetermined behavior rule and the actual behavior patterns.
次いで、予め設定された行動ルールと前記行動パターンとを照合することによって前記医用情報ビューア２０における医用情報の参照の可否を判定する。 - 特許庁 - The individual reference position information of the plural attaching patterns A is so corrected as to be aligned as far as possible to the actual position information of the attaching positioning holes Hmn (n=1 to 6, m=1 to 4).
面付位置決め穴Ｈmn（ｎ＝１〜６、ｍ＝１〜４）の実際の位置情報に可及的に整合するように、複数の面付パターンＡの個々の基準位置情報が補正される。 - 特許庁 - According to an example of this invention, each pattern of N sectors and a reference pattern are written in an inner peripheral track respectively by a default clock frequency and the number of default clocks (number of write interval clocks between patterns).
本発明の一例において、内周側トラックに、Ｎセクタの各パターンをデフォルト・クロック周波数、デフォルト・クロック数（各パターン間の書き込み間隔クロック数）で基準パターンを書き込む。 - 特許庁 - Eight check points are set one cell apart from the center position obtained by calculation in the periphery of the center position, and a brightness pattern of nine points consisting of the calculated center position and eight peripheral check points is compared with nine reference patterns (a) to (i) to find the reference pattern coinciding with the brightness pattern.
計算にて求めた中心位置の周りに１セル分離れた８つの検査点を設定し、計算中心位置及び周囲の８つの検査点からなる９点の明暗パターンを、９つの参照パターン（ａ）〜（ｉ）と比較して合致するものを見つける。 - 特許庁 - Information recording layers of the optical information recording medium are irradiated with the information light and the reference light for recording from the same surface side and the information is recorded to the information recording layers by the interference patterns formed by the interference of the information light and the reference light for recording.
情報光と記録用参照光は、光情報記録媒体の情報記録層に対して同一面側より照射され、情報記録層に情報光と記録用参照光との干渉による干渉パターンによって情報が記録される。 - 特許庁 - A plurality of areas to be machined are defined on a surface of a machining object; patterns to be machined are defined in the respective areas to be machined; and reference marks each used as a reference of a position of the area to be machined are formed for each area to be machined.
加工対象物の表面に複数の被加工領域が画定され、該被加工領域の各々の内部に加工すべきパターンが画定されており、該被加工領域ごとに、当該被加工領域の位置の基準になる基準マークが形成されている。 - 特許庁 - Position information based upon a set point (e.g. a destination) and a reference position 307 of speech recognition data 301 are made to match each other, and speech patterns 303 of an administrative area name and a facility name corresponding to the matching reference position 307 are voiced out.
設定された地点（例えば目的地）に基づく位置情報と、音声認識データ３０１の基準位置３０７とをマッチさせ、そのマッチした基準位置３０７に該当する行政区画名称や施設名称の音声パターン３０３を音声出力させる。 - 特許庁 - Thus, the device uses (ts12-ts10)/2 being obtained from the actual measurement time difference between reference color patterns 13a and 13c as the reference value, therefore an influence of the difference in the traveling speed (v) can be reduced, even if the traveling speed (v) of the transporting belt 3 is not always constant.
このように、基準色パターン１３ａ、１３ｃ間の実測時間差から得た（ｔｓ１２−ｔｓ１０）／２を基準値としているので、搬送ベルト３の移動速度ｖは常に一定でないとしても、移動速度ｖの誤差の影響を低減できる。 - 特許庁 - In each information table, the rendition times of some rendition patterns are adjusted, so as to allow an average rendition time, which is obtained by adding the products of the appearing rates by registered rendition pattern with the rendition times concerning the whole rendition patterns, to coincide with a prescribed reference average time.
各情報テーブルは、登録されている演出パターン毎の出現率と演出時間との積をすべての演出パターンについて加算した平均演出時間が所定の基準平均時間と一致するようにいくつかの演出パターンの演出時間が調整されている。 - 特許庁 - Based on the displacement quantity of both patterns to be obtained by measuring an alignment mark for a light shielding pattern and an alignment mark for the phase shift pattern, displacement quantity of pieces of design data of both patterns is compensated and pattern defect inspection of a pattern to be inspected is performed on the basis of a reference pattern obtained by compensation of the displacement quantity.
遮光パターン用のアライメントマークと位相シフトパターン用のアライメントマークを計測して得られる両パターンの位置ずれ量に基づき、両パターンの設計データの位置ずれ量を補正し、それにより得られた参照パターンを基準として披検査パターンのパターン欠陥検査を行う。 - 特許庁 - A reflection tape 25 indicating a rotation reference position of the color wheel 18 is stuck to a position deviated from a normal position and if the purity of the right and left test patterns differs, the timing for setting the data for the right and left test patterns in the DMD 14 is so adjusted as to be made faster or slower.
カラーホイール１８の回転基準位置を示す反射テープ２５が正規位置からずれた位置に貼られており、左右のテストパターンの赤色の純度が異なる場合は、ＤＭＤ１４に左右のテストパターン用のデータを設定するタイミングを早くするように、または遅くするように調整する。 - 特許庁 - Using vector quantization technology, the image is transposed with either of a plurality of different pixel patterns for each of the blocks consisting of the number of predetermined pixels, and the index image expressed by an index value of each of the pixel patterns is decoded with reference to a code book in which the pixel pattern and the index value of the pixel pattern are associated.
ベクトル量子化技術を利用し、画像を所定画素数からなるブロック毎に複数の異なる画素パターンのいずれかに置き換え、各画素パターンのインデックス値で表わしたインデックス画像を、画素パターン及び画素パターンのインデックス値が対応付けられているコードブックを参照して復号する。 - 特許庁 - In the sheath material 1 used by being stuck on a backing for a building and having regular dimensions, the brick masonry-like or stone masonry-like patterns having different forms and dimensions are projected and arrayed irregularly on the face of the sheath material 1 while specific sites of the patterns are used as reference sections 21 and 31.
建物の下地に貼り付けて用いられる定型寸法の外装材１であって、該外装材１の化粧面は異なった形や寸法を持つ煉瓦積み調、石積み調の模様が凸設され、不規則に配列されるとともに、上記模様の特定部位が基準部２１、３１とされている。 - 特許庁
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