「reference patterns」を含む例文一覧(344)
＜前へ 1 2 3 4 5 6 7- The slot machine 1 decides on winning by a random number lottery and displays a plurality of patterns corresponding to the result of the random number lottery in a main display 3, changes the display position of first to third reels R1, R2 and R3 displayed on the main display 3 from a reference layout.
乱数抽選によって入賞の有無が決定され、乱数抽選の結果に対応する複数の図柄がメインディスプレイ３に表示されるスロットマシン１において、メインディスプレイ３に表示される第１〜第３リールＲ１，Ｒ２，Ｒ３の表示位置を基準レイアウトから変更する。 - 特許庁 - To provide a human recognition system which recognizes the presence of a human by setting reference patterns indicating temperature distribution of the human according to external world information or positional information of a vehicle, a human recognition device, a storage device constituting the human recognition system and a human recognition method.
外界情報又は車両の位置情報に応じて、人間の温度分布を表す基準パターンを設定することにより、人間の存在を認識する人間認識システム、該人間認識システムを構成する人間認識装置、記憶装置、及び人間認識方法を提供する。 - 特許庁 - Whatever position a brush 4 exists at when power is supplied, the reference position 7 is detected only when 1st and 2nd wiring patterns 8 and 9 are changed to a conductive state from a non-conductive state continued as long as or longer than a specified distance by the brush 4.
電源投入時等におけるブラシ４の位置がいずれの位置にあっても、第１の配線パターン８および第２の配線パターン９がブラシ４によって、所定距離以上連続する非導通状態から導通状態へ変化するときにのみ基準位置７の検出を行う。 - 特許庁 - The amplifier C4 switches the amount of gain and the amount of DC offset according to the supply voltage Vc of a reference voltage source 4 between two different patterns, by switching the connecting state of a plurality of resistive elements 15-19 for specifying the amount of gain and the amount of offset by analog switches 20-23.
増幅部Ｃ４は、アナログスイッチ２０〜２３によりゲイン量とＤＣオフセット量を規定する複数の抵抗素子１５〜１９の接続状態を切り替えることにより、基準電圧源４の電源電圧Ｖｃに応じてゲイン量とＤＣオフセット量を２種類の異なるパターンで切り替える。 - 特許庁 - There are luminance value alteration sign patterns of a general system 103, and two kinds of concrete A 101 and B 102; and the concrete of the luminance value alteration sign pattern of the information elementary unit insert chip is determined and an image whose luminance value is varied by reference thereto is outputted.
輝度値変更符号パタンは、一般系１０３、具体はＡ１０１、B１０２の２種があり、挿入情報と画像上の位置に応じて、情報基本単位挿入チップの輝度値変更符号パタンの具体を決め、これを参照して画像の輝度値を変更した画像を出力する。 - 特許庁 - After calculating an edge direction θn and edge strength Vn by an edge extracting process, a correlation value CRR indicating correlation between the temporal change patterns of vibration strength of the plurality of frequency regions and a reference model indicating characteristics of knocking is calculated by a crosscorrelation/knocking determining part 43.
この後、エッジ抽出処理によりエッジ方向θn とエッジ強度Ｖn を算出した後、相互相関／ノック判定部４３で複数の周波数域の振動強度の時間変化パターンとノックの特徴を表す規範モデルとの相関性を表す相関値ＣＲＲを算出する。 - 特許庁 - Accordingly, even the coin having substantially the same figures and patterns as those of the genuine coin and made of material with approximately equal conductivity thereto is detected as the forged coin when the collision force does not satisfy a determination reference value, and the precision to discriminate the genuineness/spuriousness of the coin can be further enhanced.
従って、形状や模様がほぼ同一で、かつ真貨と導電率が近似した材料からなる硬貨に対しても、その衝突力が判定基準値を満たさない場合には偽貨として検出され、硬貨の真偽を識別する精度を従来よりも一層高めることができる。 - 特許庁 - The thermal printer converts monochromatic data of one bit per one dot received from a host computer into 8-bit data through bit rate conversion processing, develops a dot pattern on a memory, and compares a 9-dot matrix pattern including 8 dots surrounding each dot of outline with a plurality of reference dot patterns.
サーマルプリンタは、ホストコンピュータから受信した1ドットあたり1ビットの白黒データをビットレート変換処理により8ビットデータに変換するとともにメモリ上にドットパターンを展開し、アウトラインの各ドットを中心としてその周囲8ドットを含む9ドットマトリックスパターンを複数の参照ドットパターンと比較する。 - 特許庁 - The quantity of crosstalk to superimpose the radiation noise is discriminated and the electrostatic capacitor cells (correct electrostatic capacitor C300 and C301) of values based on this crosstalk quantity are arranged on the input terminal side of differential buffers of the reference signal line 220 in a grid-shaped pattern respectively longitudinally and laterally turning out two patterns.
放射ノイズが重畳するクロストーク量を判別し、このクロストーク量に基づいてた値の静電容量セル（補正静電容量Ｃ３００，Ｃ３０１）を、リファレンス信号ライン２２０の差動バッファの入力端子側に、二つのパターンをそれぞれ縦方向及び横方向で折り返した格子状パターンで構成して配置する。 - 特許庁 - At this point, a system control part 29 (optical recognition adjustment means) controls an optical recognition system (optical recognition parts 26, 27 and 28) so that the image patterns obtained by a photographing means are collated with the reference pattern obtained referring to an LUT 30 selected according to the switch thereby recognizing the game buttons operated by the players.
このとき、システム制御部２９（光認識調整手段）は、光認識系（光認識部２６、２７、２８）を制御し、撮影手段によって得られる映像パターンと、スイッチに応じて選択されるＬＵＴ３０を参照して得られる基準パターンとを照合して遊技者によって操作された遊技ボタンを認識する。 - 特許庁 - A shield cover 12 for covering semiconductor memory chips is set on the board and is connected to thereto via the reference potential connection patterns 15 and metal cover contacts 16.
メモリモジュールのプリント基板１１上に配置された高周波数の信号線上、及び／又は信号線の終端部の延長線上に基準電位接続パターン１５を設けると共に、半導体メモリチップを覆うシールドカバー１２を前記基板上に設けて、基準電位接続パターン１５と金属カバーコンタクト部品１６を介してシールドカバー１２を接続する。 - 特許庁 - A fingerprint pattern reconstruction part 33 in the verification block 3 reconstructs a fingerprint pattern when the fingerprint data is transferred, a fingerprint verification part 32 compares, verifies a fingerprint pattern for reference stored in a fingerprint data storage part 31 with a fingerprint pattern reconstructed by the fingerprint pattern reconstruction part 33 and decides whether or not the fingerprint patterns coincide.
照合ブロック３内の指紋パターン再構成部３３は転送されたとき指紋パターンを再構成し、指紋照合部３２が指紋データ格納部３１に記憶されている参照用指紋パターンと指紋パターン再構成部３３で再構成した指紋パターンとを比較照合して一致しているか否かを判定する。 - 特許庁 - A model selection reference is made selectable each time by the analytical person, by preparing not only an average prediction error but also the number or the like of a learning data bringing a threshold value or more of prediction error, when selecting the optimum division, out of the plurality of prepared division patterns, so as to construct the model reflected with the intention of the analytical person.
更に、複数個作成された分割パターンから、最適な分割を選ぶに際してモデル選択基準を平均予測誤差だけでなく、ある閾値以上の予測誤差となる学習データの個数等も準備して、解析者が都度、選択可能とすることで、解析者の志向を反映したモデルの構築を可能とする。 - 特許庁 - To provide a method of inspecting a color filter defect in a color filter substrate which allows extraction of contaminations and defects (singularities) such as white pins on the color filter substrate with high accuracy by simultaneously imaging a color filter pattern by a line sensor and setting an inspection area used as a reference, and comparatively inspecting adjacent repetitive patterns.
ラインセンサでカラーフィルタパターンを撮像すると同時に基準となる検査エリアを設定し、隣り合う繰り返しパターンを比較検査して、カラーフィルタ基板の異物、白ピン等の欠陥（特異点）を精度良く抽出するためのカラーフィルタ基板のカラーフィルタ欠陥検査方法を提供することを目的とする。 - 特許庁 - The control circuit 4 discriminates according to which pattern of two or more starting patterns the liquid crystal display is started and selects the temperature sensor for detecting the reference temperature from a plurality of temperature sensors S1, S2 mounted respectively on different substrates according to the discrimination result.
さらに，制御回路４が，液晶表示装置が起動した際に，複数の起動パターンのうちのいずれのパターンで起動したかを判別し，その判別結果に応じて，前記参照温度の検出用の温度センサを，それぞれ異なる基板に実装された複数の温度センサＳ１，Ｓ２の中から選択する。 - 特許庁 - However, the wiring of slower propagation than the reference propagation time is connected to the gold wire 8 to reduce inductance through the adjusting patterns 9a and 9b provided near the wiring to allow the wiring to form a parallel circuit, resulting in faster propagation time and reduced propagation time difference among wires.
逆に、基準とすべく伝播時間より遅く伝播する配線については、インダクタンスを小さくするために配線が並列回路となるように配線近傍に設けられた調整用パターン９ａ，９ｂを介して金線８を接続させ伝播時間を早めてやり、配線間の伝播時間差を低減させる。 - 特許庁 - In recording, inputted security information and authentication information are made respectively signal light and reference light and they are mingled respectively in the 2-dimensional space of a space light modulator 3 without separating an area and they are spatially modulated with a common frequency, and respective their space modulation patterns are supplied to the space light modulator 3.
記録時に、入力された機密情報を信号光、認証情報を参照光として、それぞれ空間光変調器３の二次元空間に領域を分けずに混在しかつ共通の周波数で空間的に変調し、それぞれの空間変調パターンを空間光変調器３に供給する。 - 特許庁 - To reduce propagation time difference of signals caused by difference in wiring lengths in the wiring formed on a substrate 15, a wiring of faster propagation than a reference propagation time is connected to adjusting patterns 9a and 9b provided near the wiring by a gold wire 8 for increased capacitance to delay propagation time.
基板１５上に形成された配線において、配線長の差に伴い生じる信号の伝播時間差を低減させるために、基準とすべく伝播時間より早く伝播する配線については配線近傍に設けられた調整用パターン９ａ，９ｂに金線８で接続しキャパシタンスを増加させ伝播時間を遅らせる。 - 特許庁 - A prescribed test pattern is inputted with reference to previously generated test data for an LSI 105 to the LSI 105, which is provided with both a plurality of shift registers 200 and an indeterminate mask device 220 for masking output of a shift register 200 to be masked, on the basis of randomly generated mask patterns and control signals.
複数のシフトレジスタ２００と、ランダムに生成したマスクパターンと制御信号とに基づいて、マスク対象となったシフトレジスタ２００の出力をマスクする不定マスク器２２０と、を備えたＬＳＩ１０５に、あらかじめ作成したＬＳＩ１０５用のテストデータを参照して、所定のテストパターンを入力する。 - 特許庁 - The fuel injection control device for the Diesel engine to work with the low compression ratio adopts selectively one of various fuel injection patterns including execution of one or two times of pilot injections by making reference to a control map in which four regions decided by the relation between the total amount of fuel injection Q and the engine speed NE are set previously.
低圧縮比ディーゼルエンジンの燃料噴射制御装置は、総燃料噴射量Ｑ及びエンジン回転数ＮＥの関係によって決定づけられる４つの領域が予め設定された制御マップを参照し、最多２回のパイロット噴射の実行を伴う各種の燃料噴射パターンを選択的に採用する。 - 特許庁 - To provide an electric wiring board design support device that has a net creation means 4 and a design rule checking means 5 and that can set a reference value for design rule checks according to the characteristics of each wiring pattern and efficiently and accurately perform design rule checks on the wiring patterns, and to provide a design rule checking device.
ネット生成手段４とデザインルールチェック手段５を有する電気配線板設計支援装置において、各配線パターンの特性に応じてデザインルールチェックの基準値が設定でき、配線パターンのデザインルールチェックが正確かつ効率的に実施可能な電気配線板設計支援装置及びデザインルールチェック装置を提供する。 - 特許庁 - The method comprises separately ligating fragments of a reference polynucleotide and a target polynucleotide to identical or substantially identical arrays of polynucleotide probes having single-stranded overhangs constituting complete or substantially complete n-mer sets and comparing their hybridization patterns.
参照ポリヌクレオチドのフラグメントおよび標的ポリヌクレオチドのフラグメントを完全もしくは実質的に完全なｎ量体セットを構成する一本鎖のオーバーハングを有する同一または実質的に同一なポリヌクレオチドプローブのアレイに、別々にライゲーションし、そしてそれらのハイブリダイゼーションパターンを比較する工程を包含する。 - 特許庁 - To provide an apparatus for creating an anisotropic reflection medium with high and uniform brightness by drawing each curve as a dashed line in reference to the density of the curve near a generated group of curves in the anisotropic reflection medium for processing scratch patterns in a three-dimensional manner.
スクラッチパターンを立体加工する異方性反射媒体において、生成した曲線群の近傍の曲線の密度を参照しながら各曲線を破線として描画することにより、高輝度で均一な輝度の異方性反射媒体を作成する異方性反射媒体作成装置等を提供する。 - 特許庁 - The linear patterns of two directions of a chart 24 are projected to a sensor 5 through the lens system F, and a coma flare quantity is calculated from the illuminance distribution of a chart image in an X-direction and a Y-direction and is compared with a reference data previously measured, so that a driving amount at this time, namely the eccentric correcting amount of the lens F1 is obtained.
このときの駆動量すなわちレンズＦ_1 の偏心補正量は、チャート２４の２方向の直線パターンをレンズ系Ｆを介してセンサ５に投影し、チャート像のＸ方向およびＹ方向の照度分布からコマフレア量を算出し、予め計測された参照データと比較することで求める。 - 特許庁 - In the method of manufacturing the optical master disk for forming projecting and recessed patterns by developing an exposed photoresist, the photoresist layer is irradiated with the second harmonic of solid laser as reference beam in the development and the developing process is finished based on the level of a diffracted light in the projecting and recessed pattern.
露光されたフォトレジスト層を現像し凹凸パターンを形成する光ディスク原盤の製造方法において、上記現像の際にフォトレジスト層に対して固体レーザの第２高調波を参照光として照射し、上記凹凸パターンにおける回折光のレベルに基づいて現像工程を終了させる。 - 特許庁 - A resist pattern PK in black as a reference color and one of resist patterns PC, PM and PY in cyan, magenta and yellow are formed in respective detection positions of resist sensors 32a to 32c arranged at intervals in a main scanning direction, and the positional deviation of each color from black in a main scanning direction and a subscanning direction is obtained.
主走査方向に離間して配置されたレジストセンサ３２ａ〜３２ｃの各検出位置に、基準色である黒のレジストパターンＰＫ及びシアン、マゼンタ及びイエローの各色ごとのレジストパターンＰＣ・ＰＭ・ＰＹのうちの１つをそれぞれ形成し、黒に対する他の各色ごとの主走査方向及び副走査方向の位置ずれ量を取得する。 - 特許庁 - The patterns of a plurality of products are respectively imaged before pattern matching inspection is performed and, after the position correcting processing is performed with respect to a plurality of the taken-in pattern images, superposing processing and the binarization processing related to the brightness levels in the respective pixels of the superposed pattern image are performed to obtain the reference image used in the inspection of the product pattern.
パターンのマッチング検査を行う前の複数の製品から、パターンをそれぞれ撮像し、取り込まれた複数のパターン画像に対して位置補正処理を行った後、重ね合わせ処理を行い、重ね合わされたパターン画像の各画素において輝度レベルに関する２値化処理を行い、製品パターン検査に用いる基準画像を得る。 - 特許庁 - To provide an embroidery machine forming an embroidery pattern on a work cloth in such a manner as having a preset and predetermined positional relation with at least two reference marks, forming the embroidery pattern and a printed pattern on the work cloth in a preset and predetermined positional relation and improving the quality of the combined patterns.
加工布において少なくとも２つの基準マークに対して予め設定された所定の位置関係となるように刺繍模様を形成し、加工布に刺繍模様と印刷模様とを予め設定された所定の位置関係となるように形成し、これら複合模様の品質を高めることができる刺繍ミシンを提供する。 - 特許庁 - The reduction pattern selection section 17 selects a reduction pattern from among the plurality of reduction patterns in the storage section 16 in accordance with baseline consumption acquired by the reference amount acquiring section 14 and final predictive power consumption determined by the use planned amount arithmetic section 15 in such a manner that use of resources within the unit term achieves the use reduction target.
削減パターン選択部１７は、単位期間における資源の使用が使用削減目標を達成するように、基準量取得部１４で取得されたベースライン消費量と、使用予定量演算部１５で求められた最終予測消費電力量とに応じて、記憶部１６の複数の削減パターンから削減パターンを選択する。 - 特許庁 - The character reading system is provided with an image pickup means which picks up images of individual patterns from workpieces and outputs image pickup signals; a pattern collating means for obtaining binary image data from the image pickup signals and collating the data with a stored reference pattern; and a statistical means which performs a statistical process on the results of collation by the pattern collating means.
ワークから前記個別パターンの撮像を行い撮像信号を出力する撮像手段と、撮像信号から２値画像データを得て予め記憶している基準パターンと照合するパターン照合手段と、パターン照合手段において照合の結果の統計処理を行う統計手段とを設けたことを特徴とする文字読取システムを提供する。 - 特許庁 - The image adjustment device calculates the positions of respective measurement points in respective display images based on respective reference patterns in the imaging range and performs control for adjusting at least one of the first and second display images based on the image information of positions in the imaging range which correspond to the positions of measurement points in respective display images.
画像調整装置は、撮像範囲内の各基準パターンを基準に各表示画像内における測定点の位置を算出し、該各表示画像内の測定点の位置に対応した撮像範囲内の位置における画像情報に基づいて第１の表示画像及び第２の表示画像の少なくとも１つを調整する制御を行う。 - 特許庁 - The read reference patterns are displayed on a recognition result character display part 310 in the recognition screen form 300, and the read plurality of character images are displayed on a prescribed positions on a character image display part 320 and a character image list display part 330 adjoining or close to the recognition result character display part 310 in order.
そして、読み込まれた標準パターンを確認画面フォーム３００内の認識結果文字表示部３１０に表示させると共に、読み込まれた複数の文字イメージをこの認識結果文字表示部３１０に隣接または近接する文字イメージ表示部３２０、及び文字イメージ一覧表示部３３０の所定位置に順次表示する。 - 特許庁 - The method has the first process for extracting a single or plurality of feature points from the image of the search object, and the second process for searching for the feature pattern based on a positional relation between each feature point extracted in the first process and reference points predetermined for the preset feature patterns.
このとき、探索対象の画像から、単数または複数の特徴点を抽出する第１の工程と、前記第１の工程で抽出した特徴点の各々と、前記所定の特徴パターンに対して予め決められた参照特徴点との位置関係に基づいて、前記特徴パターンを探索する第２の工程とを有する。 - 特許庁 - In the case of N<M, the flag F=1 is set and the electrostatic charging state of toners for colors is beforehand restored only when the number L of image formation times in the monochromatic mode after the previous image formation (including the formation of reference patterns for image stabilization regulation) in the color mode is greater than a prescribed value P (Yes in S402 and No in S403).
Ｎ＜Ｍである場合には、Ｍ≦２Ｎで、かつ、前回にカラーモードでの画像形成（画像安定化調整用の基準パターンの形成含む）後のモノクロモードでの画像形成回数Ｌが所定値Ｐよりも大きい場合にのみ（Ｓ４０２でＹｅｓ、Ｓ４０３でＮｏ）フラグＦ＝１にし、カラー用トナーの帯電状態を事前に回復させておく。 - 特許庁 - METI formulated a map with reference to an axis that classifies consumption propensity based not only on age and income but also on other variables, dividing Asian consumers into eight categories by grouping those with relatively similar values on the map. METI then identified the specific consumption patterns of consumers in each category.
年齢や所得だけでなく、それ以外の価値観を基礎とした消費性向を分類する軸を設定した図（マップ）を作成し、そのマップ上で価値観が相対的に近いグループをカテゴリー化することによりアジア各国の消費者を8 つのカテゴリーに分類し、それぞれのカテゴリーに属する消費者が具体的にどのような消費パターンであるかを明らかにした。 - 経済産業省 - Only the part to which a voltage is applied is taken as EMI countermeasures, and by making the EMI filter 83 not to intervene the signal transfer parts 82C, 82D that constitute the other grounding cables, the EMI filter 83 is prevented working as an impedance component on the grounding cables, so that the reference potentials of printed patterns connected by the ground cables can be made equal.
電圧が印可される部分のみＥＭＩ対策を施すことができ、他の接地線を構成する信号伝達部材８２Ｃ、８２ＤにＥＭＩフィルタ８３を介在させないことで、ＥＭＩフィルタ８３が接地線上のインピーダンス素子として作用することも防止でき、接地線で接続されるプリントパターン同士の基準電位を揃えることができる。 - 特許庁 - A Pachinko game machine 10 includes a performance determination means 132 that selects one of a plurality of kinds of performance patterns indicating respectively different expectation degrees as the expectation degrees for a jackpot, and that also selects the performance pattern according to reference which is set so as to more frequently select the performance pattern having the relatively higher expectation degree as the number of holding is smaller at the time of pattern determination.
ぱちんこ遊技機１０は、大当りの期待度としてそれぞれ異なる期待度を示す複数種類の演出パターンからいずれかを選択するとともに、そのパターン決定時点での保留数が少ないほど高頻度で相対的に期待度の高い演出パターンが選択されるよう定められた基準にしたがって演出パターンを選択する演出決定手段１３２を備える。 - 特許庁 - 11.1. Support the search and examination activities of the Office through the following activities: (a) Maintain and upkeep classification systems whether they be national or international such as the International Patent Classification (IPC) system; (b) Provide advisory services for the determination of search patterns; (c) Maintain search files and search rooms and reference libraries; and (d) Adapt and package industrial property information;
11.1次の活動を通じて，庁の調査及び審査の活動を支援すること (a)国内分類体系であるか国際特許分類(IPC)体系であるかを問わず，分類体系を維持し，かつ，保全すること (b)調査の手法の決定に対する助言サービスを行うこと (c)調査資料及び調査室並びに参考図書室を維持すること (d)工業所有権情報を調製し，及び纏めること - 特許庁 - An expected value generation circuit 22 generates an expected value pattern on the basis of output patterns of the reference semiconductor integrated circuits 32A, 32B, and 32C, and a determination circuit 24 compares the expected value pattern generated by the expected value generation circuit 22 with an output pattern of the semiconductor integrated circuit 34 to be tested to determine whether the semiconductor integrated circuit 34 to be tested passes or fails the test.
期待値生成回路２２で、基準の半導体集積回路３２Ａ、３２Ｂ、３２Ｃの出力パターンに基づいて期待値パターンを生成し、判定回路２４で、期待値生成回路２２で生成された期待値パターンとテスト対象の半導体集積回路３４の出力パターンとを比較することにより、テスト対象の半導体集積回路３４のパス／フェイル判定を行う。 - 特許庁 - The component for optical communication comprises a submount 13 holding the optical semiconductor element 12, and a substrate 11 mounting a lens 15 for condensing the light being emitted from the optical semiconductor element 12 or the light being received by the optical semiconductor element wherein recognition patterns 23a and 23b proving a positional reference when the submount 13 is mounted on the substrate 11 are formed by etching.
光通信用部品は、光半導体素子１２が保持されたサブマウント１３と、光半導体素子１２から発光される光又は光半導体素子に受光される光を集光するレンズ１５とが搭載された基板１１を備え、基板上１１にサブマウント１３を搭載する際の位置基準を与える認識パターン２３ａ、２３ｂをエッチングにより形成する。 - 特許庁 - When a medium disposed with various patterns detected by multiple detecting parts detecting multiple types of feature quantities from paper sheets respectively is inserted, the respective detecting parts detect the multiple types of the feature quantities from the medium and compare the feature quantities detected by the medium with a prescribed reference value so as to determine the state of the device.
この発明は、紙葉類から複数種類の特徴量をそれぞれ検出する複数の検知部にて検知される種々のパターンが配置された媒体が投入された場合、前記各検知部が前記媒体から複数種類の特徴量を検出し、前記媒体から検出した特徴量と所定の基準値とを比較して装置の状態を判定するようにしたものである。 - 特許庁 - When dividing or merging elements while using an error index and a reference value, in addition to an isotropic dividing pattern for dividing all edges as divided patterns or auxiliary dividing pattern for allowing undevided edges, a similar dividing pattern is used for a prism element and a hexahedron element for providing an element form similar to the undivided element by bisecting a rectangular interface.
誤差指標と基準値とを用いて要素を分割または統合する際に、分割パターンとして全てのエッジが分割される等方的分割パターンや分割されないエッジを許容する補助的分割パターンの他に、プリズム要素と六面体要素に対しては四辺形界面を二等分して分割前の要素と相似的な要素形状を得る相似的分割パターンを用いる。 - 特許庁 - Then, the system controller 104 positions a plurality of pieces of image data generated by performing imaging a plurality of times for an exposure time shorter than a proper exposure time while changing an imaging visual field with the area of matched patterns by pattern matching as reference, adds the respective positioned image data and generates image data corresponding to a visual field wider than an imaging visual field of a CCD 103.
続いて、システムコントローラ１０４は、撮像視野を変えながら適正露出時間よりも短い露出時間で複数回撮像することで生成した複数の画像データに対して、パターンマッチングにより一致した領域を基準にして位置合わせを行い、位置合わせ後の各々の画像データを加算し、ＣＣＤ１０３の撮像視野よりも広い視野に対応した画像データを生成する。 - 特許庁 - The ink discharge state judging system, the printing apparatus and the ink discharge state judgment method use the printing block pattern for ink discharge state judgment which is equipped with a region adjacent to the periphery of any of printing block patterns of each ink color, or a reference blank region formed by exposing a printing medium surface of a partial region inside the printing block pattern of each ink color.
本発明に係るインク吐出状態判定システム、印刷装置及びインク吐出状態判定方法は、各インク色の前記印刷ブロックパターンのいずれかの周囲にそれぞれ隣接する領域又は各インク色の前記印刷ブロックパターン内部の一部領域の前記印刷媒体表面を露出させて形成された参照空白領域を備えた本発明に係るインク吐出状態判定用印刷ブロックパターンを使用するものである。 - 特許庁
