「reference patterns」を含む例文一覧(344)
＜前へ 1 2 3 4 5 6 7 次へ＞- The image forming position for a measurement color is corrected based on the first judgement result of the judging means when issuing the test command (when detecting the position of a pattern) in addition to the positional deviation of patterns 93 and 95 to a reference position.
そして、基準位置に対するパターン９３，９５の位置ずれ量に加えて、テスト指令時（パターンの位置の検出時）における判断手段の第１判断結果に基づき測定色の画像形成位置を補正する。 - 特許庁 - A plurality of speed patterns are prepared to be stored in a ROM 11 corresponding to variation in a dynamic characteristic of the linear motor 2 or the elastic spring as a reference of a moving speed which is the target variation amount in the feedback controlling.
ＲＯＭ１１には、フィードバック制御において目標変化量とする移動速度の基準として、リニアモータ２や弾性バネの動特性に係るばらつきに応じて、複数の異なる速度パターンが用意されている。 - 特許庁 - In a storing mode, a first/second complex reference beam and a modulated object beam are converged on a storing location to generate a sequence of first/second interference patterns to be sequentially stored on a holographic medium.
格納モードにおいて、第１及び第２複素参照光と変調物体光を一定の格納位置に収斂させ、ホログラフィック媒体上に順次格納される第１及び第２干渉縞のシーケンスを順次生成する。 - 特許庁 - Further, the original reading apparatus detects distances from the reference position to the ends of an original at both sides of the square patterns 9D through the scanning of the image sensor and discriminates that the image sensor is tilted when the detected distances are not equal.
また、イメージセンサの走査により四角パターン９Ｄの両側における基準位置から原稿側端部までの距離を検出し、各検出距離が等しくなければイメージセンサが傾いていると判定する。 - 特許庁 - In this system and method, the reference of a boundary base is compared and discriminated so that it is not necessary to have scratch-out patterns having special shapes, and that it is possible to detect various scratch-out styles over a wide extent.
本システムおよび方法は、境界ベースの基準を比較して区別するので、特別な形のスクラッチアウトパターンを有する必要がなく、広範囲にわたる様々なスクラッチアウトスタイルの検出を可能にする。 - 特許庁 - A triplet pattern with the most functionality with an object block is extracted based on the difference calculation of a pixel value from the object block and the reference block from 68 triplet patterns constituted of three representative points 221a, 221b, and 221c in a searching range 232 provided in a reference frame image.
参照フレーム画像内に設けられた探索範囲２３２内の３つの代表点２２１ａ、２２１ｂ、２２１ｃから構成された６８個のトリプレットパターンの中から、対象ブロックと参照ブロックとの画素値の差分演算に基づいて、対象ブロックと最も相関性の高いトリプレットパターンを抽出する。 - 特許庁 - A pattern for measurement configured of a reference phase transmitting part 3e and a phase difference transmitting part 3f whose phase difference with the reference position transmitting part 3e is in a degree other than 180° is projection-exposed to the surface of a semiconductor wafer applied with a resist simultaneously with a pattern to be exposed, and developed so that resist patterns for measurement can be formed.
基準位相透過部３ｅ及び基準位相透過部３ｅとの位相差が１８０度以外の位相差透過部３ｆで構成された測定用パターンを、露光対象のパターンと同時にレジストを塗布した半導体ウェーハの表面へ投影露光し、現像処理して測定用レジストパターンを形成する。 - 特許庁 - When a winning lottery is made in the demonstration display mode, performance image data stored in a winning image table and reference information related to the performance image data are read by an image display control section, identification patterns are varyingly displayed on a liquid crystal display and the read performance image and reference information are demonstratively displayed.
デモ表示モードで入賞抽選が行われると、当たり用画像テーブルに格納された演出画像データと、この演出画像データに対応させた参考情報が画像表示制御部に読み出され、液晶ディスプレイには識別図柄の変動表示と共に、読み出された演出画像と参考情報がデモ表示される。 - 特許庁 - A hologram 1 which is mainly composed of plural concentric circles by a reference beam made incident perpendicularly on the one surface of the disk and is reconstitutable to patterns 3 around the reference beam 2 as a center axis is formed in the central part or at the intersected points of two intersecting symmetrical lines on at least the one surface of the disk.
ディスクの少なくとも片面の中心部又は２本の交差する対称線の交点には、上記片面に直角に入射する参照ビーム２によって主に複数の同心円から構成され、且つ上記参照ビーム２を中心軸とするパターン３に再生可能なホログラム１を形成している。 - 特許庁 - To provide an image forming device where plural reference toner patterns of specified colors are formed on the specified surface of a member moving in a specified direction and the density of each reference toner pattern is detected by a sensor, in which an image interval is shortened and whose image forming speed is high.
所定方向に移動する部材所定面上に複数の所定色の基準トナーパターンが形成され、各基準トナーパターンの濃度がセンサにより検出される画像形成装置であって、従来より像間隔を短くでき、それだけ従来より画像形成スピードの速い画像形成装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a traveling control device that can raise possibility of creating a travel route which makes a vehicle traveling from a reference position to a target position, while suppressing the number of travel route patterns prepared beforehand.
予め用意しておく走行経路パターンの数を抑制しつつ、車両を基準位置から目標位置まで走行させる走行経路を生成する可能性を向上させることができる走行制御装置を提供すること。 - 特許庁 - Check patterns CP1-CP3 consisting of a gradation pattern are printed by the not yet adjusted printer and the gradation pattern image is scanned by the sensor S thus specifying the position x where the density matches to the reference density.
その未調整のプリント装置によってグラデーションパターンからなるチェックパターンＣＰ１〜ＣＰ３を印刷するとともに、このグラデーションパターン画像をセンサＳにより走査して、基準濃度と濃度の一致する位置ｘを特定する。 - 特許庁 - The device is made to respectively compare these reading image patterns with reference data, and to select a means for performing accurate calibration or a simple calibration among plural calibration means for calibrating the image quality of output images, based on those comparison result.
この読取画像パターンを基準データと比較し、その比較結果に基づいて、出力画像の画質を校正する複数の校正手段のうち精密な校正を行う手段または簡易な校正を行う校正手段を選択する。 - 特許庁 - In a storing mode, first and second complex reference lights and the modulated object light are converged on a certain storing position, and the sequence is generated to sequentially store first and second interference patterns on a holographic medium.
格納モードにおいて、第１及び第２複素参照光と変調物体光を一定の格納位置に収斂させ、ホログラフィック媒体上に順次格納される第１及び第２干渉縞のシーケンスを順次生成する。 - 特許庁 - Thus, the structures of arbitrary angles different from an integral multiple of 45°, for reference coordinates 101, 102 can be formed, and patterns of arbitrary angles with desired edge roughness can be drawn in a short period of time.
露光装置の基準座標系１０１、１０２に関して、４５°の整数倍とは異なる任意の角度の構造体を形成することが可能になり、任意の角度をもつパターンを所望のエッジ粗さで、短時間に描画可能となる。 - 特許庁 - In this case, the control part 230 selects the musical pieces for the exercise patterns having the BPM values within the allowable BPM difference value with respect to the reference BPM value, combines the selected musical pieces to generate the musical composition for the exercise program.
この際、制御部２３０は、基準ＢＰＭ値に対して許容ＢＰＭ差分値内のＢＰＭ値を有する運動パターンの楽曲を選択し、この選択した楽曲を組み合わせることにより、運動プログラム用の楽曲を作成する。 - 特許庁 - Even when an interval of measured patterns is deviated, the deviation does not give any effect on the light emitting position of the phosphors by specifying the light emitting position based on the reference position of the coordinate system calculated for each measurement pattern.
測定パターン毎に算出した座標系の基準位置に基づき発光位置を特定することにより測定パターンのパターン間隔がずれている場合にもそのずれが発光螢光体の発光位置に影響しないようにした。 - 特許庁 - In processing for obtaining light quantity correction information, first density variation measuring patterns (MP1 to MP4) are created in synchronization with a drum home position sensor, and a first correction reference pattern is generated on the basis of an output signal of a density detector.
光量補正情報取得処理では、ドラムホームポジションセンサに同期して第１濃度変動測定用パターン（ＭＰ１〜ＭＰ４）が作成され、濃度検出器の出力信号に基づいて、補正用第１基準パターンが生成される。 - 特許庁 - A data processing means 7 is previously provided with theoretical spectra to reference shapes and specifies the line widths or cross-sectional profiles of the patterns to be measured 11 by retrieving the theoretical spectrum most close to the spectrum of detected diffracted light.
データ処理手段７は、予め基準形状に対する理論スペクトルを備え、検出された回折光のスペクトルに最も近い理論スペクトルを検索することにより、被測定パターン１１の線幅あるいは断面形状を特定する。 - 特許庁 - Then, based on the reference infrared absorption patterns and the infrared absorption pattern of the film to be measured, multi-variate analysis by the PLS (partial least squares regression) method is made, and based on the result of the analysis, the film-forming temperature or the like is calculated.
次に、参照用赤外線吸収スペクトルパターンと、被測定膜の赤外線スペクトルパターンとに基づいて、ＰＬＳ法による多変量解析を行なった後、解析の結果に基づいて、成膜温度などを算出する。 - 特許庁 - According to positional relationship between the same patterns obtained by the same continuous pattern extracting means 106, correction formula computing means 107 compute a correction formula for registration of the image to be processed and the reference image.
補正式算出手段１０７は、同一連続パターン抽出手段１０６により得られた同一パターンの相互の位置関係に基づき、処理対象画像と前記参照画像との位置合わせのための補正式を算出する。 - 特許庁 - The number of outputs of the cylinder signal discrimination signals Phase, Phase 2 are counted between reference crank angle positions detected as missing of position signals POS to carry out a cylinder discrimination based on combination patterns of the number of the output of the cylinder signal discrimination signals Phase 1, Phase 2.
そしてし、ポジション信号ＰＯＳの歯抜け位置として検出される基準クランク角位置間で、気筒判別信号Phase1，Phase2の出力数をカウントし、気筒判別信号Phase1，Phase2の出力数の組み合わせパターンから気筒判別を行う。 - 特許庁 - In this tandem-type image forming apparatus, the image forming condition is decided on the basis of each result of detecting the density pattern of respective reference patterns of pattern blocks PB1 and PB2, obtained by repeating the pattern block formation twice on a transfer transport belt 60.
転写搬送ベルト６０上にパターンブロックを２回繰り返して形成して得たパターンブロックＰＢ１、ＰＢ２における各基準パターン像の濃度パターンを検知した結果に基づいて、作像条件を決定させるようにした。 - 特許庁 - A face pattern recognizing part 106 recognizes the face patterns of the persons 107 and 108 by collating the face pattern detected by the part 104 with the reference face pattern stored previously in a face pattern storing part 105.
顔パターン認識部１０６は、顔パターン検出部１０４で検出された顔パターンを、顔パターン記憶部１０５にあらかじめ記憶された基準の顔パターンと照合することにより、人物１０７，１０８の顔画像を認識する。 - 特許庁 - Resist patterns corresponding to at least two exposure shots are extracted, and the resist pattern corresponding to at least one shot is compared with a master pattern as an inspection reference so as to inspect whether a defect is present in the resist pattern or not and to extract a defective portion.
ここでは、レジストパターンを少なくとも２ショット分取り出し、この内の少なくとも１ショット分のレジストパターンと、検査の基準となるマスタパターンとを比較して上記レジストパターンの欠陥の有無を検査し欠陥個所を抽出する。 - 特許庁 - An image converting means 213 and an image pattern storing means 214 divide the extracted image data one after another into a plurality of reference patterns A-H including a plurality of pixels, store them and compare them with a decision pattern of isolated pixels.
この抽出画像データから画像変換処理手段２１３および画像パターン記憶手段２１４により順次複数の画素を含む複数の参照パタンＡ〜Ｈに分割記憶し、孤立画素の判定パターンと比較する。 - 特許庁 - A reference pattern database 15 stores a plurality of reference patterns for each peripheral environment and a scene judgment part 12 judges an environment around its own vehicle by using outputs from a navigation device 30, a camera 31, an illuminance sensor 32, a timer 33, a light switch 34, a wiper switch 35, a raindrop sensor 36, an external communication device 37, and a VICS receiver 38.
基準パターンデータベース１５が、周辺の環境別に複数の基準パターンを記憶し、シーン判定部１２がナビゲーション装置３０、カメラ３１、照度センサ３２、タイマ３３、ライトスイッチ３４、ワイパースイッチ３５、雨滴センサ３６、外部通信装置３７、ＶＩＣＳ受信装置３８の出力を用いて自車両周辺の環境を判定する。 - 特許庁 - Many watermarking systems make use of correlation for calculating a detection metric, which means that several reference patterns are generated at encoder side and one or more of them are embedded inside a content signal, dependent on a message to be embedded.
多くの電子透かしシステムは、検出メトリックを計算するために相関を利用し、これは、埋め込まれるべきメッセージに依存して、幾つかのリファレンスパターンがエンコーダサイドで生成され、それらの１以上は、コンテンツ信号に埋め込まれることを意味する。 - 特許庁 - Alignment marks PMOL, PMOR, FXYO1-FXYO4 for measuring the position of the wafer are formed on the wafer W by exposing alignment patterns PM, FM, provided on a reticle reference plate PL fixed onto a reticle stage RSTG for supporting a reticle.
ウエハの位置を測定するためのアライメントマークＰＭＯＬ，ＰＭＯＲ，ＦＸＹ０１−ＦＸＹ０４を、レチクルを支持するレチクルステージＲＳＴＧ上に固定されたレチクル基準プレートＰＬに設けたアライメントマークパターンＰＭ，ＦＭを露光することによりウエハＷに形成する。 - 特許庁 - A grade determination part 16c determines a grade of the primary liver cancer in reference to grade opacification patterns memorized in a grade opacification pattern memory part 15c, when the result by the classification determination part 16b is determined that the object is the primary liver cancer.
種別判定部１６ｂによる判定結果が原発性肝癌であった場合、分化度判定部１６ｃは、原発性肝癌の分化度を分化度染影パターン記憶部１５ｃが記憶する分化度染影パターンを参照して判定する。 - 特許庁 - Then, each of the pattern RMp1-RMp4, RMs1, and RMs2 is illuminated with exposing lights, and projected images passing through the projecting optical system of the patterns are detected through openings on a reference board arranged on a wafer stage by a light-receiving sensor.
そして、各パターンＲＭｐ１〜ＲＭｐ４、ＲＭｓ１、ＲＭｓ２を露光光により照明し、そのパターンの投影光学系を通過した投影像を、ウエハステージ上に配設された基準板上の開口部を介して受光センサで検出する。 - 特許庁 - To quickly judge whether or not an image pattern in a two-dimensional image is matched with a reference image pattern without using any frame memory, and to judge whether or not the both patterns are matched with each other based on the two-dimensional image obtained with a small time interval which is close to a real time.
二次元画像内の画像パターンと基準画像パターンとの異同を、フレームメモリを用いることなく、高速で判定し、小さい時間間隔で得られかつリアルタイムに近い二次元画像に基づいて両パターンの異同を判定可能にすること。 - 特許庁 - With reference to at Table for coincidence counting patterns created in Step S1-S4, output information of coincidence counted radiation is divided into information on true coincidence counting and information on accidental or scattering coincidence counting (Step T2).
ステップＳ１〜Ｓ４で作成された同時計数パターン用テーブルを参照して、同時計数された放射線の出力情報を真の同時計数に関する情報と偶発あるいは散乱同時計数に関する情報とに分離する（ステップＴ２）。 - 特許庁 - The image patterns to be projected by a projection part 20 (projection means) are projected changing the angle of projection to the left or right position relative to the players according to a control input from the reference position of a switch provided at an arbitrary position on the operation surface of the operating part.
操作部の操作面上、任意の位置に設けられたスイッチの基準位置からの操作量に応じ、投影部２０（投影手段）によって投影される映像パターンの投影角度を遊技者に相対して左右の位置に変更して投影する。 - 特許庁 - Finally, a positioning means 6 arranges the image of a frame including other plural predictive images relative to a background of the reference frame by using the pixel value of the calculated sampling point, so that patterns are connected continuously, to thereby form the sprite.
最後に、位置合わせ手段６にて、上記で計算した標本点の画素値を用いて基準フレームの背景に対して他の複数の予測画像を含むフレームの画像を、絵柄が連続して接続されるように配置してスプライトを生成する。 - 特許庁 - The determination means 4 compares the images captured in the detection area P with the reference images stored in the storage means 3, and determines the deformation states of the tires 6 on the basis of the changes of the predetermined patterns 7 between the two kinds of images.
判定手段４は、検出エリアＰにおいて撮像された画像と、記憶手段３に記憶された基準画像とを比較し、当該２つの画像における所定パターン７の変化に基づいて、タイヤ６の変形状態を判定する。 - 特許庁 - The wafer identification information is acquired by detecting the displacement amount in the reference layer when the correction amount is determined through wafer alignment treatment in the exposure process for forming the patterns of the first hierarchy and the subsequent on the wafer, and by being based on the detected result.
ウエハ識別情報は、ウエハ上に形成される第一階層以降のパターンを形成する露光工程において、前記ウエハの位置合わせ処理で補正量を求める際に、基準層でのずらし量を検出し、検出結果に基づいて取得する。 - 特許庁 - To improve user's operation convenience of an image pickup device by solving troubles of carrying a recording medium or the like in which reference patterns are recorded separately from the main body of the device and consequently to generate image pickup data of high quality all the time by reliably performing distortion correction.
基準パターンが記録された記録媒体等、本体とは別に携帯するような煩わしさを解消することで、ユーザーの使い勝手を向上し、その結果、ディストーション補正の実施を確実に行うことで、常に高品質の撮像データを生成する。 - 特許庁 - The vibration waveform identification part 15 determines whether or not the touch input operation is normal by comparing the waveform pattern of the detected operating vibration with reference waveform patterns of operating vibrations caused upon normal operations which are stored in a waveform pattern storage part 16.
この振動波形識別部１５は、検出された操作振動の波形パターンと、波形パターン記憶部１６に記憶されている正常な操作時に生じる操作振動の基準波形パターンと、を比較することで、当該タッチ入力操作が正常か否かを判断する。 - 特許庁 - The phase shift interferometer comprises: an illumination optical system 200 for emitting P wave and S wave; a collimate lens 110; a reference half mirror 120; a pinhole plate 130 having a pinhole 131; and a phase shift interference pattern acquiring section 300 for making object light included in a luminous flux passing the pinhole 131 interfere with the reference light at four different phases, and for acquiring interference patterns of differential phases.
Ｐ波とＳ波とを発射する照明光学系２００と、コリメートレンズ１１０と、参照ハーフミラー１２０と、ピンホール１３１を有するピンホールプレート１３０と、ピンホール１３１を通過する光束に含まれる物体光と参照光とを４つの異なる位相で干渉させて異なる位相の干渉縞を得る位相シフト干渉縞取得部３００と、を備える。 - 特許庁 - The layout pattern data correction system for correcting the layout patterns of circuits by using simulation has means (53, 54 and 55) for correcting the layout pattern data in case a difference in level produced by an OPC reaches a prescribed reference value or above, by redividing the edge of the object for correction by repeating the division until the above difference in level attains the reference value or less.
シミュレーションを用いて、回路のレイアウトパターンを補正するレイアウトパターンデータ補正装置において、ＯＰＣにより発生する段差が、所定の段差の基準値以上となる場合に、段差が段差の基準値未満となるように繰り返し補正対象のエッジを再分割して、レイアウトパターンデータを補正する手段（５３、５４、５５）を有するレイアウトパターンデータ補正装置である。 - 特許庁 - Base sequence data recorded by one base one byte is rearranged, unified sequence data (a) recorded by three bases one byte is made, and then, reference sequence data wherein the sequence of the unified sequence data is varied a little in accordance with a plurality of repetitive patterns is made, the unified sequence data is compared with the respective reference sequence data, and an overlapped partial sequence is retrieved.
１塩基１バイトで記録された塩基配列データに対して、再配置を行い、３塩基１バイトで記録された統合配列データ（ａ）を作成した後、複数の反復パターンに応じて、統合配列データの配列を若干変化させた参照配列データを作成し、統合配列データと各参照配列データを比較することにより、重複する部分配列を探索する。 - 特許庁 - The final required deceleration change pattern, Pattfin (x) is produced on the basis of a reference average deceleration change pattern, Pattnormave (J) corresponding to a stop position approaching path J, on which the vehicle is now traveling, among each of reference average deceleration change patterns respectively stored/learnt in a backup RAM every stop position approaching path in advance based on the actual braking operation by the driver.
この最終要求減速度変化パターンPattfin(x)は、運転者による実際の制動操作に基づいて予め停止位置接近経路毎に個別にバックアップＲＡＭに記憶・学習されている各基準平均減速度変化パターンのうち車両が現在走行している停止位置接近経路Jに対応する基準平均減速度変化パターンPattnormave(J)に基づいて作製される。 - 特許庁 - This pattern defect inspection device includes a nearest 8 chips, which are adjacent to the detected image and positioned diagonally in the lateral and vertical directions while putting the detected image between them, and has a means creating an average reference image from images of the same shape patterns by statistical computing and a means detecting the defect by comparing the detected image with the average reference image.
このパターン欠陥検査装置は、検出画像に隣接する少なくとも検出画像を挟んだ左右上下斜めに隣接する最近接８チップを含んで同一形状のパターンの画像から統計的演算処理により平均参照画像を生成する手段と検出画像を生成された平均参照画像と比較して欠陥を検出する手段とを備える。 - 特許庁 - Discharging/non discharging ink from a plurality of ink discharge recording elements is controlled in accordance with a pixel density distribution pattern and its gradation value with reference to a first table indicating a correspondence between a plurality of inks and gradation values of recording pixels according to pixel density distribution patterns and their gradation values, and a second table indicating combinations of the density distribution patterns of recording pixels and ink discharge recording elements correspondingly to the gradation values.
画素濃度分布パターンとその階調値とに応じ、複数のインクと記録画素の階調値との対応を示す第１のテーブル、および記録画素の濃度分布パターンとインク吐出記録素子との組み合わせを、階調値に対応させて示す第２のテーブルとを参照して、画素濃度分布パターンとその階調値とに応じて、複数のインク吐出記録素子からのインク吐出／非吐出を制御する。 - 特許庁 - After the reading of images of all inspecting positions is ended, a reference image separately prepared is compared with the inspection image in an image processing unit 45, and the slippage of a field connection part or the like is detected from the relative positions of these patterns.
すべての検査箇所の画像の取り込みが終了した後、別途用意した基準画像と検査画像とが、画像処理ユニット４５で画像比較され、検査領域における基準画像に対応したパターンが抽出され、これらパターンの相対位置からフィールド接続部等のずれが検出される。 - 特許庁 - When a recognition mode is selected, the imaging image taken in an image input part 13 is transmitted to an inspected pattern registration part 15, and matching processing is performed between the reference patterns 41, 42,..., 4n taken out from a designated candidate taking-out part 17 and the imaging image transmitted from the inspected pattern registration part 15 in a comparison part 18.
一方、認識モードが選択されると、画像入力部13に取り込まれた撮像画像は被検査パターン登録部15に送られ、比較部18にて、指定候補取出し部17から取り出された基準パターン41，42，…，4nと、被検査パターン登録部15から送られた撮像画像との間でマッチング処理が行われる。 - 特許庁 - In the detection of a fingerprint, a pattern data representing the pattern of the fingerprint detected is loaded and when an input fingerprint data is compared with a registered finger print data, authentication is made in reference to the pattern data to enable the wiping out of errors attributed to the patterns detected, thereby improving the authentication function of the fingerprints.
指紋を検出する際、その検知形態を表す形態データを取り込み、入力指紋データと登録指紋データとの比較の際に、形態データを参照して認証することにより、検知形態による誤差を払拭させることができ、指紋の認証機能を向上させている。 - 特許庁 - Then, a reticle stage where the exposure mask is mounted, or a wafer stage where the reference wafer for alignment is mounted is finely adjusted so that patterns 12 and 12' for correction of misalignment in θ are superimposed on the positioning line 13 perpendicular to the orientation flat direction of the referential wafer.
パターンが転写される半導体基板と同一の寸法を有する位置合わせ基準ウェハにおいて、位置合わせ基準ウェハの中心を通りオリエンテーションフラットに垂直な直線状の位置合わせマークと、位置合わせ基準ウェハの中心を示す位置合わせマークとを有する位置合わせ基準ウェハ。 - 特許庁 - When losing patterns for changing the variation pattern table (special pattern J) are stopped and displayed on a special pattern 1 or special pattern 2 display device in a latent probability-variation game state, a Pachinko machine 100 changes a group of reference tables to a group of 000 numbered variation pattern tables of a probability-variation defined type.
パチンコ機１００は、潜伏確変遊技状態で変動パターンテーブル変更用はずれ図柄（特図Ｊ）が特図１または特図２表示装置に停止表示された場合に、参照テーブル群を確変確定系の０００番台の変動パターンテーブル群に変更する。 - 特許庁
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