「resolution pattern」を含む例文一覧(1444)
＜前へ 1 2 .... 8 9 10 11 12 13 14 15 16 .... 28 29 次へ＞- To provide a positive photoresist composition having excellent resolution and edge roughness of line pattern and hardly causing developing defect in the manufacture of a semiconductor device.
半導体デバイスの製造において解像力、ラインパターンのエッジラフネスに優れ、現像欠陥の少ないポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁 - To devise the structure of a silicone elastomer stamp where one or more irregular pattern are formed so that print resolution is improved greatly.
１つ以上の凹凸パターンが形成されたシリコーン・エラストマー・スタンプについて、印刷解像度が大幅に高められるようにその構造を工夫すること。 - 特許庁 - To form a high resolution and high accuracy chemically amplified resist film pattern having excellent dry etching resistance and small edge roughness in electron beam lithography.
電子線リソグラフィにおいて、ドライエッチング耐性に優れ、エッジラフネスが小さい、化学増幅型高解像度・高精度レジスト膜パターンの形成を可能にする。 - 特許庁 - To provide a phenol novolak resin excellent in sensitivity, resolution and focal depth-width property when fine overcrowded or isolated pattern is formed, and a positivetype photoeresist composition.
微細な密集、孤立パターンを形成時に、高感度、高解像性、焦点深度幅特性に優れるフェノールノボラック樹脂、ポジ型ホトレジスト組成物の提供。 - 特許庁 - When doubling resolution with respect to both horizontal and vertical directions and also binarizing the gradation, the binarized interpolation pattern of 2×2 pixels is prepared.
水平垂直の両方向について解像度を２倍にするとともに階調を２値化する場合には、２×２画素の２値化補間パターンを用意しておく。 - 特許庁 - CROSSLINKABLE HIGH RESOLUTION PHOTORESIST COMPOSITION USABLE TOGETHER WITH DEVELOPING SOLUTION WHICH IS AQUEOUS SOLUTION HAVING HIGH BASE CONCENTRATION AND PHOTORESIST PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME
高塩基濃度水溶液の現像液とともに使用でき、架橋可能な高解像度フォトレジスト組成物、および該組成物を用いるフォトレジスト・パターンの形成方法 - 特許庁 - To provide a positive type photoresist composition for exposure with far UV having improved exposure margin and defocus latitude in the resolution of a contact hole pattern.
コンタクトホールパターン解像における露光マージン及びデフォーカスラチチュードが改善された遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁 - To suppress the lowering of a resolution by generating a plurality of different exposure wavelengths and selecting or combining the exposure wavelength depending on a transfer pattern.
複数の異なる露光波長を発生させ、転写パターンに応じて露光波長を選択若しくは組み合わせることにより解像度の低下を抑える。 - 特許庁 - To provide a pattern forming resist having high sensitivity to UV and ionizing radiation and also having high resolution.
本発明の目的は、紫外線、電離放射線に対して高感度でかつ高解像性を有するパターン形成用レジストを提供しようとするものである。 - 特許庁 - To obtain a photoactive compound having a high sensitivity even to a short wavelength light source and useful for forming a pattern in a high resolution in a photoresist use.
レジスト用途において、短波長の光源に対しても高感度であり、高解像度でパターンを形成するのに有用な光活性化合物を得る。 - 特許庁 - To provide a photomask film for easily, inexpensively and safely forming a resist pattern having a thin line without inducing resolution failure in adhesion exposure.
密着露光において容易で安価、かつ安全に、解像不良を発生することなく微細線のレジストパターンを形成できるフォトマスクフィルムを提供する。 - 特許庁 - As a result, the degradation of the pattern resolution caused by the exposure light component non-vertically entering into the photomask surface can be prevented.
その結果、フォトマスク面に非垂直入射する露光光成分などに起因して生じるパターン解像度の低下を抑制することが可能となる。 - 特許庁 - To provide a black polyimide composition having excellent positive photosensitive characteristics and good resolution during pattern formation and facilitating the production of a black matrix.
ポジ型感光特性に優れてパターン形成時の解像性が良好であり、ブラックマトリックスの製造を容易にする黒色ポリイミド組成物の提供。 - 特許庁 - To provide a new negative type photosensitive resin composition developable with a dilute alkali solution and capable of supplying a high sensitivity and high resolution resist pattern.
希アルカリ溶液にて現像可能な、高感度、高解像度のレジストパターンを供給することができる新規なネガ型感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide an alkali developable photosensitive resin composition excellent in sensitivity, resolution, transparency, adhesiveness, alkali resistance or the like and capable of forming a fine pattern with high accuracy.
感度、解像度、透明性、密着性、耐アルカリ性等に優れ、微細パターンを精度良く形成できるアルカリ現像性感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a resist material for manufacture of an LCD with which a resist pattern can be formed with high resolution even under the condition of low NA (wherein NA is the numerical aperture of a lens).
低ＮＡ条件下でも、高い解像度でレジストパターンを形成することができる、ＬＣＤ製造用のレジスト材料を提供すること。 - 特許庁 - To provide a new black photosensitive resin composition having a large development margin and high resolution and capable of forming a colored pattern with high sensitivity.
広い現像マージンおよび高い解像度で、かつ高感度で、着色パターンを形成し得る、新たな黒色感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a chemical amplification type resist material which ensures a high resolution, good resist pattern profile and improved storage stability.
レジストパターン形状が良好で、保存安定性も向上し、高い解像性、良好なパターン形状、保存安定性が得られる化学増幅型レジスト材料の提供。 - 特許庁 - To provide a resin for a photoresist composition good in resolution and characteristics of line edge roughness, a photoresist composition using the resin and a method for forming a resist pattern.
解像性、ラインエッジラフネス特性が良好なホトレジスト組成物用樹脂、およびこれを用いたホトレジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To obtain an apparatus a method for X-ray beam exposure system, with which a pattern of high resolution can be obtained, using X rays within a range of 0.45 to 0.7 nm.
０．４５ｎｍ〜０．７ｎｍの範囲内のＸ線を用いて高解像度のパターンが得られるＸ線露光装置やＸ線露光方法を得ること - 特許庁 - To provide an aligner with which inexpensive and sure exposing operation is secured while forming the circuit pattern image of a high resolution on a substrate by using an image display means securing a wide display region without deteriorating the resolution.
解像度を劣化させずに広い表示領域を確保した画像表示手段を用い解像度の高い回路パターン像を基板上に形成させながら安価でかつ確実な露光動作を確保した露光装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a photosensitive element which suppresses filiform undeveloped parts (deficiency of resolution) which occurs in a part where the interval between resist patterns is narrow while maintaining superior resolution, and can form a resist pattern whose side face shape is good.
優れた解像度を有しつつ、レジストパターン間が狭い箇所で起こる糸状現像残り（解像度不足）を低減し、且つ、レジストパターン側面の形状が良好なレジストパターンを形成することが可能な感光性エレメントを提供すること。 - 特許庁 - The monitor can be recognized to have a display color resolution of 24 bits if the pattern can be recognized when the test image T is displayed on the monitor otherwise the monitor can be recognized to have a display color resolution of 16 bits or less.
このテスト画像Ｔをモニタに表示し、パターンが確認できればそのモニタの表示色分解能は２４ビットであり、パターンが確認できなければ、そのモニタの表示色分解能は１６ビット以下であると認識できる。 - 特許庁 - To generate an optical wavefront control pattern for displaying a stereoscopic image under a handy device or environment without requiring high precision device, by reducing restrictions, such as spatial resolution (spatial resolution) of an imaging element, such as a CCD camera.
ＣＣＤカメラ等の撮像素子の空間分解能（空間解像度）等の制約を減らし、高精度なデバイスを必要とせずに、手軽な装置や環境の下で、立体映像を表示するための光波面制御パターンを生成する。 - 特許庁 - Particularly in a low resolution, a compound light quantity at two or more light emitting points is used to draw the dot pattern, reducing the light quantity distribution difference and obtaining a stable image quality irrespective of the high or low degree of resolution.
特に、低解像度において、２以上の発光点の合成光量でドットパターンを描画するようにしたため、光量分布差を軽減することができ、高解像度、低解像度に関わらず、安定した画質を得ることができる。 - 特許庁 - The resist composition is excellent in heat resistance, can form a pattern in an appropriate thickness when the column spacers of a liquid crystal display element are formed and has good flatness and resolution, a good residual film rate and good pattern stability.
本発明に係るレジスト組成物は耐熱性に優れるだけでなく、液晶表示素子のカラムスペーサ形成時適切な厚さにパターン形成が可能で、平坦性、解像性、残膜率、パターン安定性が良好である。 - 特許庁 - To provide chargeable powder for the formation of a circuit with which a circuit pattern having high resolution without fog and good electric characteristics can be produced even when the powder is used for printing the circuit pattern by an electrophotographic method.
電子写真法によって回路パターンを印刷する際に使用しても、カブリのない高解像度で、かつ良好な電気特性を示す回路パターンを作製することができる回路形成用荷電性粉末を提供する。 - 特許庁 - To provide a surface measuring device uninfluenced by a pattern even in the case of a sample having the pattern formed on the surface, capable of realizing a wider effective measuring area compared with a resolution of height information.
表面にパターンが形成された試料の場合でも前記パターンの影響を受けず、かつ、高さ情報の分解能に比べて広い有効計測面積が可能となる表面測定装置を提供すること。 - 特許庁 - When forming an optical disk using this metal die 4, the concavo-convex pattern is reverse transferred to obtain an optical disk having a pattern matching the optical disk signals of high density, high resolution and high reliability.
この成形金型４を用いて光ディスクを成形すれば、凹凸パターンが反転転写され、高密度高精細高信頼性の光ディスク信号に相当するパターンを有する光ディスクとすることができる。 - 特許庁 - To provide a photosensitive paste composition superior in photocurability and resolution and capable of fabricating a pattern high in aspect ratio and precision and to provide a plasma display panel(PDP) having the desired calcined pattern formed by using this paste composition.
光硬化性や解像度に優れ、高アスペクト比かつ高精度のパターン加工を可能にする感光性ペースト組成物及びそれを用いて所望の焼成物パターンを形成したプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）を提供する。 - 特許庁 - To prevent deterioration of a pattern shape for forming a pattern excellent in resolution and a depth of focus, when using a liquid for immersion exposure by improving a refractive index and a transmission factor in a far-UV area.
遠紫外領域における屈折率および透過率が高く、液浸露光用液体として使用した場合、パターン形状の劣化を抑え、より解像度および焦点深度の優れたパターンを形成できる。 - 特許庁 - To provide a chemically amplified photoresist which exhibits excellent sensitivity and resolution and gives a pattern having a good section shape when a fine resist pattern of 0.15-0.22 μm is formed using a KrF excimer laser.
ＫｒＦエキシマレーザーを用いて０．１５〜０．２２μｍのような微細なレジストパターンを形成する際に、優れた感度、解像度を示し、かつ断面形状の良好なパターンを与える化学増幅型ホトレジストを提供する。 - 特許庁 - To provide a photosensitive resin composition with which it is possible to form a high resolution resist pattern with low line edge roughness, and which is used as an upper layer resist of a two layer resist process and a method for forming the resist pattern.
低ラインエッジラフネスで、高解像度なレジストパターンを形成することが可能となり、２層レジストプロセスの上層レジストとして用いることができる感光性樹脂組成物及びレジストパターンの形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition for forming a pattern excellent in sensitivity, resolution and roughness characteristics and having a good shape, and to provide a method for forming a pattern using the composition.
感度、解像度及びラフネス特性に優れ且つ良好な形状のパターンを形成可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition excellent in sensitivity, resolution, roughness property, pattern configuration, temporal stability and outgassing property, and to provide a pattern forming method using the composition.
感度、解像性、ラフネス特性、パターン形状、経時安定性及びアウトガス特性に優れた感活性光線性または感放射線性樹脂組成物及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide an actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition exhibiting enhanced resolution, roughness characteristic, pattern configuration and outgassing performance without detriment to sensitivity, and to provide a method of forming a pattern using the composition.
感度を損なうことなく、解像性、ラフネス特性、パターン形状及びアウトガス特性を改良した感活性光線性または感放射線性樹脂組成物及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide an actinic-ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition excellent in sensitivity, resolution, roughness properties, pattern shape, temporal stability and outgassing properties, and to provide a method of forming a pattern using the composition.
感度、解像性、ラフネス特性、パターン形状、経時安定性及びアウトガス特性に優れた感活性光線性または感放射線性樹脂組成物及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide an actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition which has excellent resolution and I-D bias and which allows a pattern of a favorable shape to be formed, and to provide a method of forming a pattern using the composition.
解像力及び疎密特性に優れ且つ良好な形状のパターンを形成可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive composition excellent in resolution, line edge roughness and etching resistance, and excellent in sensitivity and a pattern profile; and to provide a pattern forming method using the composition.
解像度、ラインエッジラフネスおよびエッチング耐性に優れ、かつ感度及びパターン形状に優れる感活性光線性または感放射線性組成物およびそれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide a positive resist composition having high sensitivity and high resolution, ensuring uniform resist pattern size in a substrate surface and having a wide margin for PEB, and to provide a resist pattern forming method using a chemically amplified positive resist composition.
高感度、高解像性で、基板面内で均一なレジストパターンサイズが得られ、広いＰＥＢマージンを有するポジ型レジスト組成物及び化学増幅型ポジ型レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁 - To provide a resist composition superior in line width roughness, and further in resolution and defocusing latitude in contact hole pattern formation and superior in exposure margin, and to provide a pattern forming method using it.
ラインウィズスラフネスが良好なレジスト組成物、また更にコンタクトホールパターン形成において解像力及びデフォーカスラチチュード、露光マージンにも優れたレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a polyester film for a minute pattern photoresist which is superior in transparency, slipperiness, scratching resistance, wrinkle resistance, jag on the side of a resist pattern and resolution, hardly generating defects and has ease of handleability.
透明性、易滑性、耐けずれ性、耐しわ性に優れ、レジストパターンの側面のギザ性および解像度に優れかつ欠陥が少なく、取り扱い性が容易な微細パターンフォトレジスト用ポリエステルフィルムを提供すること。 - 特許庁 - The image of the pattern of the known size generated by the reflection of the transmission light in the body is photographed by an image read means 3 as an image, and the resolution of the image is found using the image of the pattern as a reference.
透過光が物体で反射することにより生ずる寸法が既知の該パターンの像を画像取込み手段３により画像として撮影し、パターンの像を基準として、画像の分解能を求める。 - 特許庁 - Therefore, a deterioration of pattern fidelity in the transferred image of a pattern formed on a photosensitive object W can be made negligibly small, so that the exposure system can be improved in resolution.
従って、感光物体Ｗ上に形成されるパターンの転写像におけるパターン忠実度の劣化を無視できる程度に抑えることが可能となり、露光装置の解像度の向上を図ることが可能となる。 - 特許庁 - To provide a material for controlling a resist pattern profile, avoiding a reverse tapered profile of a resist pattern without decreasing resolution, and also to provide a method for manufacturing a semiconductor device, and a method for manufacturing a magnetic head.
解像性を損なうことなく、レジストパターン形状が逆テーパ形状となることを回避可能なレジストパターン形状制御材料、半導体装置の製造方法、及び磁気ヘッドの製造方法の提供。 - 特許庁 - To provide a photosensitive resin composition excellent in photosensitivity, resolution and adhesion, a photosensitive element, a method for producing a resist pattern using the element and a method for producing a printed wiring board using the pattern.
本発明は、光感度、解像度及び密着性に優れる感光性樹脂組成物、感光性エレメント、及びこれを用いたレジストパターンの製造法とプリント配線板の製造法を提供することを目的とする。 - 特許庁 - To provide an alkaline development type photosensitive resin composition that enables the formation of a pattern with good resolution upon development with an aqueous alkaline solution without adding a dissolution inhibitor and a method for forming a pattern using the alkaline development type photosensitive resin composition.
溶解阻害剤を添加することなく、アルカリ水溶液現像によって解像度の良好なパターンを形成することを可能にするアルカリ現像型感光性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 - 特許庁 - A pattern is formed under the conditions that the resolution R [μm] of dots in the scanning direction in the pattern to be formed on a work and the scanning shift distance S [μm] during one time of pixel switching are in the relation of S>R.
ワーク上に形成されるパターンのスキャン方向のドットの分解能Ｒ［μｍ］と一回の画素スイッチングの間のスキャン移動距離をＳ［μｍ］とした時に、Ｓ＞Ｒとなる様に設定してパターンを形成する。 - 特許庁 - To obtain the resolution sufficiently coping with the fining tendency in the case of exposing a pattern by using extreme ultraviolet light, and to avoid defects such as a difference from line width and positional deviation of the pattern.
極短紫外光を用いて露光を行う場合に、微細化の進展に十分に対応可能な解像性を得られるようにし、さらには線幅の相違やパターンの位置ずれ等といった不具合を招かないようにする。 - 特許庁 - Resolution of an area of an end edge at the flat surface part 3 side of the design pattern in the recession part 2 and an area of an end edge at the recession part 2 side of the design pattern in the flat surface part 3 becomes lower than that of the other area.
凹部２における意匠模様の平面部３側の端縁の領域と、平面部３における意匠模様の凹部２側の端縁の領域では、他の領域よりも解像度が低くなっている。 - 特許庁
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