「resolution pattern」を含む例文一覧(1444)
＜前へ 1 2 .... 7 8 9 10 11 12 13 14 15 .... 28 29 次へ＞- To provide a positive radiation sensitive resin composition which is superior in line roughness, etching resistance, sensitivity and resolution and can stably form a high precision fine pattern.
ラインラフネス、エッチング耐性、感度、及び解像度に優れ、高精度な微細パターンを安定して形成可能なポジ型感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - Through the image of the chart pattern and the image of the reticle projected on the screen 18 in a magnified manner, the resolution and eccentricity of the test lens 12 are evaluated.
スクリーン１８に拡大投影されたチャートパターンの像及びレチクルの像によって、被検レンズ１２の解像度及び偏芯状態が評価される。 - 特許庁 - The dual-modulation scale track pattern improves the ratio of measurement range to resolution of the encoder without using additional scale tracks that would increase the widths of encoder parts.
２重変調スケールトラックパターンはエンコーダ部品の幅を増やす追加のスケールトラックを使用することなくエンコーダの測定範囲対分解能比を高める。 - 特許庁 - To provide a negative resist composition hardly causing a bridge in forming a pattern and providing a high resolution and a patterning method using the same.
パターン形成時にブリッジが発生しにくく、高い解像性を与えることができるネガ型レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a salt, a resist composition or the like which can form a pattern excellent in an outstanding resolution, a mask error factor and a focus margin.
優れた解像度、マスクエラーファクター及びフォーカスマージンを有するパターンを形成することができる塩及びレジスト組成物等を提供することを目的とする。 - 特許庁 - To provide a salt which is useful as an acid generation agent of a resist composition, capable of forming a pattern having excellent resolution and line edge roughness.
優れた解像度及びラインエッジラフネスを有するパターンを形成することができるレジスト組成物の酸発生剤として有用な塩を提供する。 - 特許庁 - To provide a defect inspecting device that embodies high resolution and a fast inspection speed for a technique for inspecting a pattern on a wafer by using an electron beam.
電子ビームを用いたウェハ上パターンを検査する技術において、高分解能で、かつ検査速度の高速化を実現する欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a radiation sensitive resin composition which has excellent resolution performance, a low LWR (Line Width Roughness), excellent pattern collapse resistance and excellent defectiveness.
解像性能に優れるだけでなく、ＬＷＲが小さく、パターン倒れ耐性に優れ、且つ、欠陥性にも優れる感放射線性樹脂組成物の提供。 - 特許庁 - In this situation, the array pitch of the output faces 15 arranged in the direction crossing the scanning direction of the polygon mirror 27 is made equal to resolution of an exposure pattern.
この場合、ポリゴンミラー２７の走査方向と交差する方向に配置する出射端１５の配列ピッチを露光パターンの分解能に等しくする。 - 特許庁 - A character segmenting part 2 segments character image data in which a character pattern is recorded from image data inputted from an image inputting part 1 in prescribed resolution.
所定の解像度で画像入力部１より入力された画像データから文字切出部２で文字パターンが記録された文字画像データを切り出す。 - 特許庁 - To provide a photosensitive resin composition capable of performing formation of a resist pattern by a direct drawing exposure method with satisfactory sensitivity and resolution.
直接描画露光法によるレジストパターンの形成を、十分な感度及び解像度で行うことが可能な感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - The fine patterns 130 are formed by using the defective opening which occurs when a fine exposure pattern is set against the resolution of an aligner.
この微細パターン１３０は、露光装置の解像度に対して微細な露光パターンを設定することによって生じる開口不良を用いて形成する。 - 特許庁 - To provide an absolute encoder which has high resolution without increasing the number of tracks, an absolute position detector, and a signal pattern arrangement generation method for absolute encoder.
トラック数を増やさなくても高分解能なアブソリュートエンコーダ、絶対位置検出装置、及びアブソリュートエンコーダの信号パターン配置作成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a photoresist composition superior in uniformity and for improving quality of pattern formation such as sensitivity, resolution, adhesion during development and developability.
均一性（ユニフォミティー）に優れ、感度、解像性、現像時の密着性や現像性などパターン形成の品質を向上するフォトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a negative resist composition for a thick film, which forms a high-resolution pattern having a high aspect ratio, and has high sensitivity and high storage stability.
高解像性、高アスペクト比のパターンを形成でき、かつ高感度で高い保存安定性を有する厚膜用ネガ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a resist composition which provides a pattern having satisfactory resolution and line edge roughness, and to provide a compound and a resin attaining the resist composition.
得られるパターンの解像度及びラインエッジラフネスが良好なレジスト組成物、これを実現する化合物及び樹脂を提供することを目的とする。 - 特許庁 - To provide a technology capable of specifying the position of a line pattern with higher accuracy (accuracy of a unit less than one pixel of a reading image pitch) than an image reading resolution.
ラインパターンの位置を、画像読取解像度よりも高い精度（読取画像ピッチの１画素未満単位の精度）で特定することができる技術を提供する。 - 特許庁 - To provide a salt forming a pattern of excellent resolution, shape and line-edge roughness, and a resist composition or the like containing the salt.
優れた解像度、形状及びラインエッジラフネスを有するパターンを形成することができる塩及び該塩を含むレジスト組成物等を提供することを目的とする。 - 特許庁 - To provide a high-speed, high-resolution column A/D converter having a noise reduction function to eliminate a fixed pattern noise, etc. by a small circuit scale.
高速・高分解能で、かつ固定パターン雑音なども除去するノイズリダクション機能を有したカラムＡ／Ｄ変換器を小さな回路規模で提供する。 - 特許庁 - To easily obtain higher resolution of an exposure pattern with an inexpensive proximity exposure type aligner without using an expensive projection exposure type aligner.
高価な投影露光方式の露光機を使用せずに安価な近接露光方式の露光機を使用して露光パターンの高解像度化を容易に実現する。 - 特許庁 - To provide an intaglio for printing wherein a high-resolution transfer pattern is formed by printing in good accuracy at simpler steps and to provide a method for manufacturing it.
より簡便な手順で、精度良好に高解像度の転写パターンが印刷形成された印刷用凹版およびその製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide an inexpensive photomask with high throughput improved in the resolution of a fine hole pattern in a binary photomask, and to provide a method for manufacturing the photomask.
バイナリフォトマスクにおける微細ホールパターンの解像性の向上を実現して、低コスト及び高スループット化であるフォトマスク及びその製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a compound for preparing a chemically amplified positive photoresist composition to give patterns having high resolution and good pattern profile.
優れた解像度及び形状を有するパターンを形成することができる化学増幅型ポジ型フォトレジスト組成物を得るための化合物を提供すること。 - 特許庁 - To provide a circuit pattern inspection apparatus suited for obtaining defective images with high resolution and high S/N with high efficiency at defective image capture time.
欠陥画像取得時に高分解能でかつ高Ｓ／Ｎの欠陥画像を高効率で得るのに適した回路パターン検査装置を提供すること。 - 特許庁 - To provide a scanning exposure apparatus using a variable forming mask, the apparatus that can perform exposure with optimum resolution according to a pattern.
可変形成マスクを用いた走査型露光装置であって、パターンに応じた最適な解像度で露光することができる走査型露光装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a phenol novolak resin forming excellent fine overcrowded or isolated pattern, and excellent in sensitivity, resolution and focal depth-width property, and a positive-type photoresist composition.
微細な密集、孤立パターンを良好に形成し、感度、解像性、焦点深度幅特性に優れるフェノールノボラック樹脂、ポジ型ホトレジスト組成物の提供。 - 特許庁 - To provide a method for forming a resist pattern with relatively large thickness and high resolution by using the light with short wavelength such as deep UV rays as an exposure source.
ｄｅｅｐＵＶ光のような短波長の光を露光源とし、比較的厚さが厚く、かつ高解像度のレジストパターンの形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a resist composition for electron beams or X-rays having high sensitivity and high resolution and giving an excellent square pattern profile.
高感度、高解像力を有し、矩形状の優れたパターンプロファイルを与えることができる電子線又はＸ線レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁 - To reduce necessary exposure at the time of forming a resist pattern even as a desired resolution is produced for a resist layer having a prescribed composition.
所定の組成を有するレジスト層に対して所望の解像度をもたらしつつも、レジストパターンを形成する際の必要露光量を低減させる。 - 特許庁 - To provide a chemical amplification type resist composition giving a resist pattern having excellent transparency to radiation, dry etching properties, sensitivity, resolution, flatness, heat resistance, etc.
放射線に対する透明性、ドライエッチング性、感度、解像度、平坦性、耐熱性等に優れるレジストパターンを与える化学増幅型レジスト組成物の提供。 - 特許庁 - To provide a radiation-sensitive positive resin composition excellent in line roughness, etching resistance, sensitivity and resolution to stably form a high-precision fine pattern.
ラインラフネス、エッチング耐性、感度、及び解像度に優れ、高精度な微細パターンを安定して形成可能なポジ型感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - To obtain ion implantation blocking performance sufficient in subjecting the microregions of a silicon substrate to selective high energy ion implantation and high pattern resolution performance.
シリコン基板の微細領域に選択的な高エネルギーイオン注入を行う場合に十分なイオン注入阻止性能と高いパターン解像性能を得る。 - 特許庁 - To provide a circuit pattern inspection device, suitable for very efficiently obtaining a high S/N defective image of high resolution, when the defective image is obtained.
欠陥画像取得時に高分解能でかつ高Ｓ／Ｎの欠陥画像を高効率で得るのに適した回路パターン検査装置を提供すること。 - 特許庁 - To provide a method for realizing a formation of a resist pattern having a minimum size of less than an exposure wavelength (1/2) by simultaneously satisfying a resolution and a focal depth.
解像度と焦点深度とを同時に満たし、露光波長の（１／２）未満の最小サイズを持つレジストパターンを形成し得る方法を提供する。 - 特許庁 - To obtain a copolymer for a photoresist that has excellent resist performances such as heat resistance, sensitivity, resolution, etc., and clearly and accurately forms a fine pattern.
耐熱性、感度、解像度等のレジスト性能に優れ、微細なパターンを鮮明且つ精度よく形成できるフォトレジスト用共重合体を提供する。 - 特許庁 - To provide a pattern defect inspection apparatus and an inspection method having enhanced pixel resolution and high defect detection performance, by excluding the noise due to radiation.
画素分解能を高め、また、放射線によるノイズを排除することで、欠陥検出能力の高いパターン欠陥検査装置及び検査方法を提供する。 - 特許庁 - To improve the resolution of a projecting optical system to a prescribed pattern shape, while satisfactorily suppressing light quantity loss and securing a prescribed focus depth.
光量損失を良好に抑え且つ所定の焦点深度を確保しつつ、特定のパターン形状に対して投影光学系の解像力を向上させる。 - 特許庁 - To provide a resist material for fabricating an LCD which forms a resist pattern with high resolution even under a low NA condition and has good linearity.
低ＮＡ条件下でも、高い解像度でレジストパターンを形成することができ、好ましくはリニアリティの良好な、ＬＣＤ製造用のレジスト材料を提供する。 - 特許庁 - To provide a color image sensor that can discriminate whether a color image copied in a dot pattern of 3 primary colors or the like is real or false without the need for high resolution.
高解像度を必要とせずに、３原色等のドットパターンでコピーされたカラー画像の真贋を判別することができるカラーイメージセンサを提供する。 - 特許庁 - To provide a negative radiation-sensitive resin composition which can form a rectangular pattern with high resolution and has superior sensitivity, developing property, size faithfulness, etc.
高解像度で矩形のパターンを形成でき、しかも感度、現像性、寸法忠実度等に優れたネガ型感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a defect inspection method capable of detecting a fine pattern with high resolution, and a device therefor, and a method of manufacturing a semiconductor substrate with a high yield.
微細なパターンを高い分解能で検出する欠陥検査方法、その装置及び半導体基板を高歩留まりで製造する方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing a color filter substrate that has an optical compensating function, has high resolution, and forms fine pattern.
光学補償機能を有するカラーフィルタ基板の製造方法において、解像度が良好で、さらに精細なパターンを形成することができる製造方法の提供。 - 特許庁 - To provide a positive type radiation sensitive composition, by which the high resolution and a pattern with the satisfied dimensional accuracy are obtained, and a manufacturing method of a stamper using the same.
高解像度、かつ、寸法精度のよいパタンが得られるポジ型感放射線組成物及びそれを用いたスタンパの製造方法を提供すること。 - 特許庁 - A pattern decision section 107 decides whether the remarked tile is suitable for resolution conversion or not based on the Cr, Rr and Dt and outputs the decision results.
パターン判定部１０７は、Ｃｒ、Ｒｒ、Ｄｔに基づき、注目タイルが解像度変換に適しているか否かを判定し、その判定結果を出力する。 - 特許庁 - To provide an NOR type flash memory which improves pattern resolution/dimension controllability by lithography is improved and ensures stable operation.
本発明は、ＮＯＲ型のフラッシュメモリ装置において、リソグラフィによるパターン解像性／寸法制御性を改善できるとともに、より安定した動作を可能にする。 - 特許庁 - To provide a positive resist composition satisfying all of high sensitivity, high resolution, a favorable pattern profile and favorable vacuum PED characteristics (post-exposure delay in vacuum).
高感度、高解像性、良好なパターン形状、及び良好な真空中ＰＥＤ特性を同時に満足するポジ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁 - Next, when thinning pixels of a binary image generated using the dither pattern to perform resolution conversion, scan lines to be thinned are not fixed but are thinned in zigzags.
次いで、そのディザパターンを用いて生成された二値画像の画素を間引いて解像度変換する際に、間引く走査ラインを固定にせずに、千鳥式に間引く。 - 特許庁 - To provide positive and negative chemically amplified resist compositions, having high resolution and high sensitivity and giving a resist pattern of superior shape.
高解像性及び高感度を有し、かつ優れた形状のレジストパターンを与えるポジ型及びネガ型の化学増幅型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a drawing apparatus capable of drawing a test pattern for adjusting alignment at a high speed and at a high adjusting resolution level, and to provide a drawing method.
アライメント調整用のテストパターンを高速且つ高い調整分解能レベルで描画可能な描画装置、および描画方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide an exposure mask capable of faithfully transferring a pattern using a constant amount of light, while improving the resolution limit of a transfer apparatus.
本発明は、転写装置の解像限界を向上せしめると共に、一定の光量で忠実なパターン転写を行うことのできる露光マスクを提供する。 - 特許庁
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