「shape pattern」を含む例文一覧(3752)
＜前へ 1 2 .... 19 20 21 22 23 24 25 26 27 .... 75 76 次へ＞- When an instruction pattern to the same shape is ended, and a learning control end instruction is given, the switches 24 and 25 are turned OFF.
同一の形状に対する指令パターンが終了し学習制御終了指令が出されると、スイッチ２４，２５をオフにする。 - 特許庁 - To accurately measure a three-dimensional shape of a photographic subject by using images acquired by irradiating the subject with pattern light.
被写体にパターン光を照射することにより取得した画像を用いて、被写体の３次元形状を正確に計測する。 - 特許庁 - To provide ink for transparent conductive film formation which forms a good pattern shape by a coating method using an inkjet printer.
インクジェットプリンタを用いた塗布法によって良好なパターン形状を形成できる透明導電膜形成用インクを提供する。 - 特許庁 - To provide a photoresist composition which improves the shape of a resist pattern, that is, rectangularity and film thickness reduction while retaining resolution.
解像性は維持しつつ、レジストパターンの形状、すなわち、矩形性および膜減りを改善したホトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁 - The symbol dictionary generating section 402 generates a symbol dictionary on the basis of the period, the phase, the shape and the size of the binary dot pattern.
シンボル辞書作成部４０２は、２値網点パターンの周期、位相、形状並びにサイズに基づいて、シンボル辞書を作成する。 - 特許庁 - To provide a technique by which a pattern shape of dots for regulating transmittance is specified and a uniform light source can be obtained.
透過率を調整するためのドットのパターン形状を規定し、均質な光源を得ることができる技術を提供すること。 - 特許庁 - To provide positive and negative chemically amplified resist compositions, having high sensitivity and giving a resist pattern of superior shape.
高感度を有し、かつ優れた形状のレジストパターンを与えるポジ型及びネガ型の化学増幅型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁 - To manufacture a punching metal having a non-hole pattern, wherein lacks a hole shape is omitted partially, at low cost and economically.
部分的に穴形状が欠落した非穴パターンを有するパンチングメタルを製造する際に、安価に加工でき、経済的にすること。 - 特許庁 - To suppress outgassing from a resist by exposing light and to obtain a pattern of increased fineness having a good shape.
露光光によりレジストから生じるアウトガスを抑制して良好な形状を有する微細化パターンを得られるようにする。 - 特許庁 - An electrode pattern 8 shape formed on the ITO heater 6 is arranged outside a display area of the liquid crystal panel.
ＩＴＯヒーター６上に形成されている電極パターン８形状を液晶表示パネルの表示領域外に配置する。 - 特許庁 - To simply transfer a pattern with no joint of a photomask on whole or a part of a mold with a three-dimensional shape.
３次元の形状を有する金型全体、又は一部にフォトマスクのつなぎ目がなく簡単にパターンを転写できるようにする。 - 特許庁 - The electrode pattern of the conductive paste is formed in a shape that an internal electrode 4 is not placed at each of the non-driving pillars 3.
導電性ペーストの電極パターンは、非駆動柱３に内部電極４が存在しないような形状になっている。 - 特許庁 - To provide a method for producing a checkered steel sheet using stainless steel with which the checker pattern height can be made high without deteriorating the sheet shape.
板形状を悪化させることなく縞高さを高くできるステンレス鋼を用いた縞鋼板の製造方法を提供する。 - 特許庁 - The phase shifter allows pattern formation of almost vertical shape with no taper.
本製造方法により製造された位相シフタは、テーパを有さない略垂直形状のパターン形成を実現させることが出来る。 - 特許庁 - To obtain a resist pattern having a satisfactory shape using exposure light having 140-160 nm for the wavelength.
１４０ｎｍ帯〜１６０ｎｍ帯の波長を持つ露光光を用いて良好な形状を持つレジストパターンが得られるようにする。 - 特許庁 - An image that includes the rugged shape is imaged to detect movement information of the medium by image processing including pattern matching.
この凹凸形状を含む画像を撮像して、パターンマッチングを含む画像処理によってメディアの移動情報を検出する。 - 特許庁 - To easily manufacture a one-way diffusion body even if the shape of the diffusion body is made large in size and the body has a complicated groove pattern.
形状が大型化したり、複雑な溝のパターンを持つ場合であっても、一方向拡散体を容易に作製すること。 - 特許庁 - To make the shape observation and dimension inspection of very fine pattern possible in an electron beam inspection device of a scanning electron microscope for example.
走査形電子顕微鏡などの電子ビーム検査装置において、微細なパターンの形状観察や寸法検査を可能とする。 - 特許庁 - Especially, at least one of the moisture permeable waterproof membrane and non-porous membrane is preferably provided as a pattern shape.
本発明では、特に上記透湿防水膜、無孔質膜の何れか一方がパターン状に設けられていることが好ましい。 - 特許庁 - The fixed shade 50 forms the partial shape of the light distribution pattern for a high-beam when the movable shade 48 is located at the receded position.
固定シェード５０は、可動シェード４８が退避位置にある場合にハイビーム用配光パターンの一部形状を形成する。 - 特許庁 - To provide a colored photosensitive resin composition capable of stably forming a colored pattern whose section has a forward tapered shape.
断面形状が順テーパー状の着色パターンを安定して形成しうる着色感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide an electronic rubbed copy imaging apparatus capable of easily recording a shape and a pattern or the like of an object by unmagnification with high accuracy.
被写体の形状，模様等を等倍で精度良く記録することが容易な電子拓本用撮像装置を提供する。 - 特許庁 - To provide an image forming apparatus capable of forming a pattern having a correct shape on a transfer material, and preventing erroneous detection.
正しい形状のパターンを転写材に形成することができ、誤検出を防止できる画像形成装置を提供する。 - 特許庁 - In the bar-code, an outline of a pattern composed of a plurality of straight lines constituting the bar-code corresponds to the shape of the readable character string.
バーコードは、これを構成する複数の直線からなるパターンの輪郭が可読性文字列の形状に一致している。 - 特許庁 - To obtain a frequency component processing unit which has filter characteristics in which a specific frequency component of an input signal has a desired pattern shape.
入力信号の特定周波数成分が所望パターン状のフィルタ特性を有する周波数成分処理装置を得る。 - 特許庁 - The luster adjusting resin layer either can be of uniform thickness or can be partially formed in a pattern shape to represent an uneven surface design.
艶調整樹脂層は均一厚さでも良いが、模様状に部分的に形成すれば表面凹凸意匠も表現できる。 - 特許庁 - To provide a method and a device which can easily extract the outline of even a pattern having a complicated outline shape.
複雑な輪郭形状を有するパターンであっても容易にその輪郭を抽出できる方法および装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a device and method of correcting a pattern defect on a substrate having a wide-ranging thickness and shape.
広範囲の厚さと形状を有する基板上のパターン欠陥部を修正する装置および修正方法を提供する。 - 特許庁 - A determination method for determining a replacement timing of a focus ring disposed around a substrate to improve in-plane uniformity of a pattern when the pattern is formed by etching a film on the substrate comprises a measurement step of measuring a shape or dimension of the pattern and a determination step of determining a replacement timing of the focus ring based on the shape or dimension of the measured pattern.
基板上の膜をエッチングしてパターンを形成する際に、該パターンの面内均一性を高めるために該基板の周囲に配置されるフォーカスリングの交換時期を判定する判定方法において、前記パターンの形状又は寸法を測定する測定工程と、測定した前記パターンの形状又は寸法に基づいて、前記フォーカスリングの交換時期を判定する判定工程とを備える。 - 特許庁 - A step for preparing the photomask provided with a first photomask pattern used for forming the protrusion and constituted of a pattern having a first shape consisting of a plurality of light shielding units and a second photomask pattern used for forming the spacer and constituted of a light shielding pattern having a second shape is performed and then a step for exposing and developing the photoresist layer using the photomask is performed.
突起を形成するのに用いられ、複数の遮光ユニットからなる第１形状を有するパターンから構成される第１フォトマスクパターンと、スペーサを形成するのに用いられ、第２形状を有する遮光パターンから構成される第２フォトマスクパターンとを備えてなるフォトマスクを準備するステップを行った後、このフォトマスクを用いてフォトレジスト層に露光現像を施すステップを実行する。 - 特許庁 - When a step of forming a resist pattern by processing a resist film formed on a workpiece and a step of etching the workpiece with the resist pattern as a mask under a predetermined etching condition are performed, a dimension and a shape (a film thickness and a taper angle) of the formed resist pattern are measured and the etching condition is adjusted based on the measured dimension and shape of the resist pattern.
被加工対象上に形成されたレジスト膜を加工してレジストパターンを形成する工程と、レジストパターンをマスクとして、所定のエッチング条件で被加工対象をエッチングする工程とを実行する際に、形成されたレジストパターンの寸法及び形状（膜厚及びテーパ角度）を測定し、測定されたレジストパターンの寸法及び形状に基づいて前記エッチング条件を調整する。 - 特許庁 - The apparatus comprises: a front member 1 including the outer shape of a first pattern and including a light transmission section 2 which has the shape of a second pattern; a light control film 4 which is arranged in an area corresponding to the light transmission section 2; and a main light source 6 arranged at the back of the light control film 4.
第１パターンの外形を持ち且つ第２パターンの形状の光透過部２を持つ前面部材１と、光透過部２に対応する領域に配置された光制御フィルム４と、光制御フィルム４の背後に配置された主光源６とを備えている。 - 特許庁 - Based on the coordinates information on the center calibration pattern A1 and known information on the shape in a photographed image for calibration, an initial parameter is obtained once by plane projection conversion so that the shape of the calibration pattern becomes a known square on a conversion image.
校正用撮影画像における中央の校正パターン（Ａ１）の座標情報と形状に関する既知情報に基づき、変換画像上において該校正パターンの形状が既知の正方形になるように平面射影変換にて一旦初期パラメータを求める。 - 特許庁 - The pattern shape is formed such that a ratio occupying in a direction parallel to the dicing line 4 is larger than a ratio occupying in a direction vertical to the dicing line 4, and includes a flowage region 13 facilitating flow of an etchant for forming the pattern shape.
このパターン形状は、ダイシングライン４に平行な方向に占める比率が、ダイシングライン４に垂直な方向に占める比率よりも大きく形成され、パターン形状を形成するためのエッチング液の流動を促す流動領域１３を含んでいる。 - 特許庁 - A board 7 for forming an electric element opposed to the surface of the transfer substrate is moved by synchronizing with the movement of the transfer substrate 5, and the nanowire 3 is transferred on the pattern shape area 8 of the board 7 corresponding to the pattern shape area 6 of the transfer substrate 5.
転写基材５の移動と同期して、転写基材の表面に対向させた電気素子形成のための基板７を移動させ、転写基材５のパターン状領域６に対応した基板７のパターン状領域８にナノワイヤ３を転写する。 - 特許庁 - To provide a patterning base plate for cell culture, allowing adhesion of cells onto a base material in a highly precise pattern shape and capable of being used for culturing the cells, and to provide a cell culture base plate formed by adhesion of the cells thereto in the highly precise pattern shape.
本発明は、基材上に細胞を高精細なパターン状に接着し、培養させるために用いられる細胞培養用パターニング基板や、細胞を高精細なパターン状に接着させた細胞培養基板等を提供することを主目的としている。 - 特許庁 - This carrier is a master carrier 1 of a disk shape having a transfer pattern 10 of a concentric circle shape corresponding to transfer information, Eccentricity quantity between an inner diameter center of an internal part 1a used for positioning and a center of the transfer pattern 10 is made 20 μm or less to 3μm or more.
転写情報に対応した同心円状の転写パターン１０を有する円盤状のマスター担体１で、位置決めに使用される内径部１ａの内径中心と、転写パターン１０の中心との偏心量を２０μｍ以下、３μｍ以上としてなる。 - 特許庁 - To provide a patterning base plate for cell culture, allowing adhesion of cells onto a base material in a highly precise pattern shape and capable of being used for culturing the cells, and to provide a cell culture base plate or the like formed by adhesion of the cells thereto in the highly precise pattern shape.
本発明は、基材上に細胞を高精細なパターン状に接着し、培養させるために用いられる細胞培養用パターニング基板や、細胞を高精細なパターン状に接着させた細胞培養基板等を提供することを主目的としている。 - 特許庁 - The plurality of reference patterns 12 has the same shape, and the specific pattern 13 is formed in a different shape from the reference patterns 12 or the layout relationship of the specific pattern 13 to the reference patterns 12 is different from the array of the reference patterns 12.
複数の基準パターン１２が同一形状で形成され、特異パターン１３が基準パターン１２と異なる形状で形成されているか、又は、特異パターン１３の基準パターン１２に対する配置関係が基準パターン１２間の配列と異なっているものである。 - 特許庁 - To provide a patterning base plate for cell culture, allowing adhesion of the cells onto a base material in a highly precise pattern shape and capable of being used for culturing the cells, and to provide a cell culture base plate formed by adhesion of the cells thereto in the highly precise pattern shape.
本発明は、基材上に細胞を高精細なパターン状に接着し、培養させるために用いられる細胞培養用パターニング基板や、細胞を高精細なパターン状に接着させた細胞培養基板等を提供することを主目的としている。 - 特許庁 - Further, the front end part 32a of the cover member 32 is formed in a contour shape along the outer circumferential shape of the pattern drum 34 and the front end part 32a is set so as to roughly match the outer circumferential surface of the pattern drum 34 when the cover member 32 is disposed.
更に、前記カバー部材３２の前端部３２ａを、前記図柄ドラム３４の外周形状に沿った輪郭形状に形成して、前記カバー部材３２の配設時に、その前端部３２ａが前記図柄ドラム３４の外周面に略一致するよう設定した。 - 特許庁 - To easily manufacture a master pattern by creating surface shape data for securing each fine expression with image data of a limited gradation width even with respect to a surface shape of a leather model including a leather tie-dyed pattern and a stitch thread having a height far apart from each other.
互いにかけ離れた高さの皮絞模様とステッチ糸を含む皮革モデルの表面形状でも、限られた階調幅の画像データで、それぞれ微細な表現が確保される表面形状データを作成してマスター型を簡便に製作可能とする。 - 特許庁 - The standard pattern is separated into the position detection pattern in which shape variation is not caused by allowed rotation around a representative point to be a symmetry center, and the angle detection pattern in which position variation is caused by rotation around the representative point.
標準パターンが、対称中心となる代表点の周りにおいて許容された回転では形状変化を生じない位置検出パターンと、代表点の周りでの回転により位置変化を生じる角度検出パターンとに分離される。 - 特許庁 - In the ink jet printing system, coating liquid such as the alignment layer is applied to a coating pattern region of the alignment layer or the like where a right-angle triangular pattern is extended in an arrangement for extending opposite sides of the rectangular shape in each corner part, of a rectangular basic coating pattern.
矩形状の基本塗布パターンの、各コーナ部において矩形の対向辺を延長する配置で直角三角形状パターンを延設した配向膜等の塗布パターン領域に、インクジェット印刷方式で配向膜等の塗布液を塗布する。 - 特許庁 - To provide a photosensitive polymer composition capable of forming a relief pattern excellent in pattern shape by development with an aqueous alkali solution without adding a dissolution inhibitor and to provide a method for producing a relief pattern and electronic parts using the same.
溶解阻害剤を添加することなく、アルカリ水溶液現像によってパタ−ン形状に優れたレリーフパターンを形成することを可能にする感光性重合体組成物並びにレリーフパターンの製造法及びそれを用いた電子部品。 - 特許庁 - In a step (S24) of selectively removing the dummy pattern, this pattern can be selectively removed, hardly changing the shape of a neighboring material SiO2, since the material of the dummy pattern has high selectivity to the neighboring material SiO2.
また、ダミーパターンを選択的に除去する工程（工程Ｓ２４）では、ダミーパターンの材料は周囲の材料、即ち、ＳｉＯ_2との選択比が高いので、ＳｉＯ_2の形状をほとんど変えることなく、ダミーパターンを選択的に除去することができる。 - 特許庁 - To provide a method of removing blur of a pattern image acquired by an SEM and easily and accurately measuring the three-dimensional shape of a pattern of a sample surface based on information of the height direction of a pattern acquired by another measuring machine such as an AFM.
ＳＥＭによって得られたパターン画像のボケを除去し、ＡＦＭなどの他の計測機で得られたパターンの高さ方向の情報と合わせ、試料表面のパターンの３次元形状を簡便にかつ精度良く計測する方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a device and method for inspection of a hard disk media, capable of reducing a stray light component included in spectral reflection intensity, and capable of accurately detecting a pattern shape on the pattern disk surface, or surely pattern defects.
本発明は、分光反射強度に含まれる迷光成分を低減し、パターンドディスク表面のパターン形状を精度よくまたはパターン欠陥を確実に検出できるハードディスクメディアの検査装置または検査方法を提供することである。 - 特許庁 - To provide a pattern forming method and a chemically amplified negative resist composition exhibiting a large depth of focus (DOF) and small line width roughness (LWR) and being capable of forming a pattern having a superior pattern shape and reduced bridge defects.
フォーカス余裕度（ＤＯＦ）が広く、線幅バラツキ（ＬＷＲ）が小さく、パターン形状に優れ、更にはブリッジ欠陥が低減されたパターンを形成できるパターン形成方法及び化学増幅型ネガ型レジスト組成物を提供することを課題としている。 - 特許庁 - An intermediate layer 4 is patterned along an ink channel pattern into a serrated shape 5 having a large number of much smaller protrusions and recesses to the channel pattern, and at least a part of the serrated pattern adheres to an ink channel-forming member 8.
中間層４がインク流路パターンに沿って、流路パターンに対してより微少な凹凸を多数有する鋸歯状５にパターニングされており、前記鋸歯パターンの少なくとも一部がインク流路形成部材８と密着する構成とする。 - 特許庁
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