「shape pattern」を含む例文一覧(3752)
＜前へ 1 2 .... 22 23 24 25 26 27 28 29 30 .... 75 76 次へ＞- An ABS resist pattern is formed on the projection and the surface of the exposed third carbon film, and a surface exposed from this ABS resist pattern is processed to add an ABS concave/convex shape.
そして、突起と第３カーボン膜が露出している表面上にＡＢＳレジストパターンを形成し、このＡＢＳレジストパターンから露出している表面を加工してＡＢＳ凹凸形状を付与する。 - 特許庁 - A stereoscopic processing part 46 generates the detailed shape data 36 of the object by applying stereoscopic processing of these pattern irradiation images 30 while excluding the projected mask pattern 28 from a target of stereoscopic processing.
ステレオ処理部４６は、投影されたマスクパターン２８をステレオ処理の対象から外して、複数のパターン照射画像３０をステレオ処理し、対象物の詳細形状データ３６を生成する。 - 特許庁 - The pattern 1 is made of a foamable polystyrene and formed as the same outer shape as a product, and in the inner part of the pattern 1, gas venting holes 12 penetrated in the hollow part 10 are arranged at the upper and the lower part.
模型１は、材質が発泡ポリスチレンで、製品と同一形状の外形に形成してあり、模型１の内部には、中空部１０に貫通する通気孔１２が上下に設けられている。 - 特許庁 - The front description information 105 is structured by forming letter information 105b and drawing pattern information 105c on straw-mat pattern information 105a which resembles the straw-mat shape on a surface of the packaging body 103.
表書き情報１０５は、包装体１０３の表面の菰形状を模した菰柄情報１０５ａ上に文字情報１０５ｂおよび図柄情報１０５ｃが形成されて構成されている。 - 特許庁 - A photoresist film 30 is formed on the inorganic insulating layer 23, subjected to light exposure of a pattern shape, and then subjected to a developing treatment with use of a developer to form a resist pattern 30B' in a developing step.
そして、この無機絶縁層２３上にフォトレジスト膜３０を形成してパターン状に露光した後に、現像工程において、現像液を用いて現像することでレジストパターン３０Ｂ’を形成する。 - 特許庁 - To provide an emboss processing apparatus capable of certainly forming a pattern having an embossed shape on the surface of a base material and reducing the strain/stress remaining in the pattern, and an emboss processing method.
基材表面に凹凸形状の絵柄を確実に形成することができ、かつこの絵柄にひずみ応力が残ることの少ないエンボス加工装置およびエンボス加工方法を提供する。 - 特許庁 - The spray nozzle 1 is provided with a nozzle base part 2, a nozzle tip part 3, a spray plate 4 for forming a flat pattern 10 and a hood 5 having a shape corresponding to the flat pattern 10 and covering the nozzle tip part 3.
噴霧ノズル１は、ノズル基部２と、ノズル先部３と、フラットパターン１０を形成する噴板４と、フラットパターン１０に対応した形状を呈してノズル先部３を覆うフード５と、を備えている。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing an electronic apparatus that cures a resist pattern while maintaining a shape just after lithography without deteriorating characteristics of a thin film transistor covered with the resist pattern.
レジストパターンで覆われた薄膜トランジスタの特性を劣化させることなく、リソグラフィー直後の形状を維持してレジストパターンを硬化させることが可能は電子機器の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a pattern inspection device and a pattern inspection method capable specifying a defect shape precisely without being affected by the spattering of copper, and to provide a printed circuit board inspected by the method.
銅の飛び散りに影響されず，欠陥形状について高精度に特定できるパターン検査装置およびパターン検査方法およびその方法により検査されたプリント配線板を提供すること。 - 特許庁 - To provide a droplet discharging apparatus capable of improving the shape controlling property of a pattern to be formed by drying liquid, a method for forming a pattern, a method for manufacturing an electro-optical apparatus, and the electro-optical apparatus.
液体を乾燥することによって形成するパターンの形状制御性を向上した液滴吐出装置、パターン形成方法、電気光学装置の製造方法、電気光学装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a building board which does not cause a deviation in the pitch of a irregular pattern formed by molding, which has few restrictions on the shape of the irregular pattern, and to which high designability can be imparted in combination with an inkjet coating.
成形による凹凸模様のピッチずれが発生せず、また、凹凸模様の形状の制約が少なく、インクジェット塗装と相まって高い意匠性を付与することができる建築板を提供する。 - 特許庁 - To provide a pattern formation method capable of easily and exactly forming a pattern on a substrate by comparting and forming recessed parts in a matrix shape on the substrate, arranging liquid droplets into the recessed parts properly selected and spreading the liquid droplets therein.
基板にマトリクス状に凹部を区画形成し、液滴を適切に選択した凹部に配置して広げることにより、基板に容易に正確なパターンを形成する、パターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - The driving pattern generation means 7 generates the driving pattern so as to cancel the distortions of the image due to the non-flat shape of the optical scanning face 21 when the observer views the screen 2 from the observation point.
駆動パターン生成手段７は、観測者が観測点からスクリーン２を見たときに、光走査面２１の非平面形状に起因した画像の歪みが相殺されるような駆動パターンを生成する。 - 特許庁 - To provide a pattern-forming method for improving a shape control of a pattern by improving matching precision of a landing position with a droplet and an irradiation position with laser light, and to provide a droplet discharge unit.
液滴の着弾位置とレーザ光の照射位置の整合精度を向上させて、パターンの形状制御性を向上させたパターン形成方法及び液滴吐出装置を提供する。 - 特許庁 - When a development is performed after the resist film 102 in which the pattern exposure is conducted is postbaked, a resist pattern 102a made of an unexposed part of the resist film 102 and having a good shape is obtained.
パターン露光が行なわれたレジスト膜１０２に対してポストベークを行なった後、現像を行なうと、レジスト膜１０２の未露光部よりなり、良好な形状を持つレジストパターン１０２ａを得られる。 - 特許庁 - The pattern film deposition apparatus 100 deposits a film on one side of a substrate 1 by the vacuum vapor deposition by a plurality of times to a predetermined pattern shape, and comprises a main mask 21 and an auxiliary mask 22.
パターン成膜装置１００は、真空蒸着により基板１の一面に複数回に分けて所定のパターン形状に膜を成膜するものであり、主マスク２１と補助マスク２２を備える。 - 特許庁 - To provide a positive type photosensitive resin composition having high exposure sensitivity even in a large film thickness, ensuring a good pattern shape and excellent in heat resistance, a method for producing a pattern and electronic parts having high reliability.
本発明は、厚い膜厚でも露光感度が高く、パターンの形状も良好な、耐熱性に優れるポジ型感光性樹脂組成物、パターンの製造法及び信頼性の高い電子部品を提供する。 - 特許庁 - Then, the shape or the outline of the front wheel in the image is collated with a pattern of the front wheel previously stored in a system (S4) and a steering angle is calculated based on the pattern collation result (S5).
そして、画像中の前輪の形状或いは輪郭と予めシステム内に記憶されている前輪のパターンとを照合し（Ｓ４）、パターン照合結果に基づいて操舵角を算出する（Ｓ５）。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing an exposure mask by which a resist pattern formed by a lithographic process can be finely processed with preferable pattern shape accuracy, and to provide a method for manufacturing a semiconductor device.
リソグラフィー処理によって形成されたレジストパターンを形状精度良好に微細化処理することが可能な露光マスクの作製方法および半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁 - Thus, by imparting a scaling correction and a shaft tilt correction to the drawing data, expressing a position and a shape of the pattern to be drawn, a data corresponding to a parallelogram first deformed pattern drawing region 43 is generated.
そこで描画すべきパターンの位置と形状を示す描画データに、スケーリング補正と軸傾き補正を施し、平行四辺形の第１変形描画領域４３に対応したデータを生成する。 - 特許庁 - To establish a constituting method for the installation pattern and excitation pattern of a transmitting coil which produces a magnetic field so as to expand the range and shape of a space wherein measurement is possible.
磁気式モーションキャプチャ装置において、測定可能な空間の範囲と空間形状を拡大するために、磁場を発生する送信コイルの設置パターンと励磁パターンの構成方法を確立する。 - 特許庁 - To obtain a good pattern shape when a resist pattern is formed using light having a wavelength of 1 nm band to 30 nm band or 110 nm band to 180 nm band as light for exposure.
露光光として１ｎｍ帯〜３０ｎｍ帯又は１１０ｎｍ帯〜１８０ｎｍ帯の波長を持つ光を用いてレジストパターンを形成する場合に、良好なパターン形状が得られるようにする。 - 特許庁 - A section perpendicular to a semiconductor substrate has a inverted T shape substantially, and an insulating film pattern thicker than a conducting layer pattern is formed on the semiconductor substrate between the conductive layer patterns.
半導体基板に垂直な断面が実質的に逆Ｔ字形状であり、導電層パターンよりも厚い絶縁膜パターンが導電層パターン間の半導体基板上に形成されている。 - 特許庁 - To provide a method for forming conductive pattern without deterioration in shape accuracy of printing patterns with initial formation of printing when selectively forming conductive patterns on the printing pattern.
印刷パターン上に選択的に導電性パターンを成膜する際、初期の印刷形成による印刷パターンの形状精度を損なうことなく導電性パターンを形成可能な方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a stable FRP molded object well following an uneven shape, capable of inexpensively forming a predetermined pattern and capable of clearly forming the boundary line of the pattern.
凹凸形状に良好に追従して安定した成形体が得られると共に、所定の模様を安価に形成しかつ模様の境界線を明瞭に形成し得るＦＲＰ成形体を提供する。 - 特許庁 - The surface shape of an original plate is detected in advance by digital cameras (1)26, (2)27, (3)28, referred to template data 23, and the pattern is discriminated (24), and ink-jet coating control 40 is done correspondingly to the discriminated pattern.
デジタルカメラ(1)２６、(2)２７、(3) ２８により原板の表面形状を事前に検出してテンプレートデータ２３と照合して柄識別２４して、識別された柄に応じたインクジェット塗装制御４０を行う。 - 特許庁 - To provide a resist composition and a resist pattern forming method superior in lithography characteristics and capable of forming a resist pattern of excellent shape, and to provide a high molecular compound suitable for the resist composition.
リソグラフィー特性に優れ、良好な形状のレジストパターンを形成できるレジスト組成物及びレジストパターン形成方法、並びに、該レジスト組成物用として好適な高分子化合物の提供。 - 特許庁 - To provide an imprint lithography method of transferring a projected/recessed pattern onto a resist layer at a low pressure and forming the projected/recessed pattern that is transferred in an exact shape on the resist layer.
低い圧力で型の凹凸パターンをレジスト層に転写することができ、また正確な形状で転写した凹凸パターンをレジスト層に形成することができるインプリントリソグラフィー方法を提供する。 - 特許庁 - A sub light scattering pattern 21 consists of two spot-shape patterns 21a and 21b, provided while being separated in a cross direction at a position deviated from the center line of a main light scattering pattern in the longitudinal direction.
副光散乱パターン２１は、前記主光散乱パターン１１の長手方向の中心線から外れた位置で、幅方向に離間して設けられた２つのスポット状パターン２１ａ，２１ａからなる。 - 特許庁 - A matching means of an indicative body recognizer executes the shape pattern-matching with a matching area set in the whole area of the one sheet of image data, sequentially starting from the highest recognition rate of indicative body pattern.
標示体認識装置のマッチング手段は、認識率の高い標示体パターンから順に、１枚の画像データの全領域に設定されたマッチング領域との形状パターンマッチングを実行する。 - 特許庁 - Also, a grounding conductor pattern 120 is also formed in a shape roughly the same as the power supply conductor pattern 110, has a folded part 121 and a grounding terminal 122 on one end.
また、接地用導体パターン１２０も給電用導体パターン１１０と略同一の形状に形成されており、折り返し部１２１を有するとともに一端に接地端子１２２を備えている。 - 特許庁 - To provide a film pattern formation method for forming a plurality of patterns different in shape in film pattern forming regions on a substrate, and to provide conducting film wiring or the like obtained by using the method.
基板上の膜パターン形成領域に、形状の異なる複数のパターンを好適に形成する膜パターンの形成方法と、該形成方法によって得られる導電膜配線等を提供する。 - 特許庁 - Both the first and second conductor patterns 12, 13 are formed as U-shaped patterns, and the shape and the direction of the second conductor pattern 13 are the same as those of the first conductor pattern 12.
第１及び第２の導体パターン１２、１３は共にコの字状のパターンとして形成されており第２の導体パターン１３の形状及び向きは第１の導体パターン１２と同一である。 - 特許庁 - Linewidth on an active layer is set so as to be Li in the mask pattern of the first layer, and set so as to be L' in the mask pattern of the second layer, and anisotropic etching using the mask pattern of the second layer and anisotropic etching using the mask pattern of the first layer are successively carried out so that a hat shape gate can be formed by self-align.
活性層上における線幅を、第１層のマスクパターンではＬｉ、第２層のマスクパターンではＬ’となるように設定し、第２層のマスクパターンを用いた異方性エッチング、第１層のマスクパターンを用いた異方性エッチングを順に行うことにより、ハットシェープゲートをセルフアラインで形成できる。 - 特許庁 - To provide a photosensitive composition which is used to form a pattern by ultraviolet exposure and development, enables to convert the formed pattern to a pattern of a forward tapered shape excellent in smoothness when the formed pattern is heat treated, and forms a coating film excellent in heat resistance and weatherability.
紫外線露光と現像とによりパターンを作製するために用いられる感光性組成物であって、作製したパターンに熱処理を行うことによって平滑性に優れた順テーパー形状のパターンに変化させることができ、かつ耐熱性と耐候性とに優れた塗膜を形成できる感光性組成物の提供。 - 特許庁 - This method of generating an uneven pattern is provided as a method of forming patterns in which uneven patterns in a template are filled with resist materials, and the depth of the uneven pattern formed in the template is adjusted or the uneven pattern is divided based on the relation between the size or shape of the uneven pattern and the charge time of the resist material.
テンプレートの凹凸パターンにレジスト材料を充填するパターン形成方法に用いられる凹凸パターンの生成方法であって、凹凸パターンの寸法又は形状とレジスト材料の充填時間の関係に基づいて、テンプレートに形成する凹凸パターンの深さを調整する、又は、凹凸パターンを分割する。 - 特許庁 - To provide a forming method for a flow pattern in a plastic bathtub which can form the flow pattern in an arbitrary shape and moreover can always form a pattern in an individual bathtub uniformly and with excellent reproducibility, and which can prevent the pattern from being discolored by hot water and further can bring about a profound feel of depth like marble.
流れ模様を任意の形で形成でき、しかも個々の浴槽における柄を常に均一にしかも再現性よく形成できるうえ、模様が熱水によって変色するのを防止でき、さらに大理石に似た奥行きのある深み感を発現できる、プラスチック浴槽における流れ模様の形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a metal pattern subjected to more homogeneous blackening treatment and a base material having a conductive layer pattern in the tone of color and shape having a sufficient degree of blackening for metal having a geometrical figure, and to provide the base material having a conductive layer pattern and an electromagnetic wave shielding member using the base material having a conductive layer pattern.
幾何学図形を有する金属に黒化度が十分なあるいは色調又は形状においてより均質な黒化処理が施された金属パターン及び導体層パターン付き基材の製造方法、導体層パターン付き基材並びにそれを用いた電磁波遮蔽部材を提供する。 - 特許庁 - This nano imprint mold forms a convexo-concave pattern 11 on a substrate 10 with resist, embeds a shape memory composition material 12 (NiTi alloy) on the above convexo-concave pattern, covers it with a film, and then peels off the film from the above convexo-concave pattern to obtain a mold 13 with the above convexo-concave pattern transcribed.
ナノインプリント用モールドであって、基板１０上にレジストで凹凸パターン１１を形成し、前記凹凸パターンに、形状記憶性を有する組成の材料１２（ＮｉＴｉ合金）を埋め込んで成膜した後、前記凹凸パターンから成膜部を剥離して前記凹凸パターンが転写されたモールド１３を得るようにする。 - 特許庁 - To provide a correcting method and a correcting device for a pattern, capable of correcting a pattern defect with high accuracy and capable of suppressing deterioration of, in particular, a non-rectangular pattern shape, in the case of pattern correction of a photomask, a wafer, or the like, used in a semiconductor manufacturing process.
本発明は、半導体製造工程で使用されるフォトマスクやウエハ等のパターン修正処理において、パターン欠陥を高精度に修正することができるとともに、特に非矩形形状のパターン形状の劣化を抑制することができるパターンの修正方法及び修正装置を提供することを課題とする。 - 特許庁 - To provide a laminated body which can form a pattern without being restricted to a photolithography technique, can suppress a cost because an inexpensive pattern formation method can be used, further, has a wide range of product application because size and shape of a wiring pattern can be freely designed, is capable of mass production and can make the wiring pattern invisible.
フォトリソグラフィー技術に限定されることなくパターンの形成が可能であり、安価なパターン形成方法を使用できるためコストを抑制でき、また、配線パターンのサイズや形状を自由に設計できるため、製品応用への範囲が広く、大量生産が可能な、配線パターンの見えない積層体を提供すること。 - 特許庁 - A sipe 20 carved in a tread pattern of a pneumatic tire 10 has a slender rectangular sectional shape in a tire top face part 20a and has a flask sectional shape in a tire bottom face part 20b.
空気入りタイヤ１０のトレッドパターンに刻まれたサイプ２０は、タイヤ表面部２０ａにおいては、細長い矩形断面形状であり、タイヤ底面部２０ｂにおいては、フラスコ断面形状である。 - 特許庁 - On a base sheet 10, by using a screen printing plate on which a shape whose peripheral edge is extended by 2 mm from a required pattern is made into a printing plate, the shape is printed with a releasing treating agent to form a releasing layer 12.
ベースシート１０上に、所要図柄より周縁が２ｍｍ拡張された形状を製版したスクリーン版により離型処理剤でその形状を印刷し、剥離層１２を形成した。 - 特許庁 - The exposure apparatus measures a shape of the reverse surface of the pattern surface of the mask 2 before a substrate 5 is exposed, and compares the measurement result with the measurement result of the shape stored in the storage part 11 in advance.
露光装置が、基板５の露光前に、マスク２のパターン面の裏面の形状を計測し、該計測結果と上記格納部１１に予め格納された形状の計測結果とを比較する。 - 特許庁 - The observation device 50 includes CIS 56 for observing the holding surface to hold a reticle having a pattern formed thereon, and a casing 53 for housing the CIS 56 and having a shape corresponding to the shape of the reticle.
観察装置５０は、パターンが形成されたレチクルを保持する保持面を観察するＣＩＳ５６と、ＣＩＳ５６を収容し、レチクルの形状に対応する形状を有する筐体５３と、を備えている。 - 特許庁 - Each sub array has a rectangular shape and the plurality of sub arrays with the same shape are aligned to constitute a square connection body, thereby attaining the diversity and closeness on the sub array pattern.
各サブアレイは長方形を有するが、同じ形状をもった複数のサブアレイを揃えて四角形の連結体を構成することにより、サブアレイパターン上において多様性及び密集性を実現できる。 - 特許庁 - A planar shape of each cathode electrode 18 of the LED chip 10 is formed in a circular shape having a diameter L2 not more than a diameter L1 of the circular junction face with a conductive pattern 28 of a bump 38.
ＬＥＤチップ１０の各カソード電極１８の平面形状は、直径Ｌ２がバンプ３８における導体パターン２８との円形状接合面の直径Ｌ１以下の円形状に形成されている。 - 特許庁 - The sewing machine photographs the head parts 511-514 of the marking needles 501-504 by an image sensor, recognizes the shape by image processing, specifies the sewing pattern corresponding to the shape, and executes sewing processing.
ミシンは、待ち針５０１〜５０４の頭部５１１〜５１４をイメージセンサで撮影し、画像処理によりその形状を認識し、形状に応じた縫製模様を特定して縫製処理を実行する。 - 特許庁 - To provide a laminate shaping apparatus capable of forming a pattern on the surface of a shaped material or producing a desired surface shape with a simple work in all of the shaping material and the shape.
全ての造形材質及び形状に於いて、造形物表面への模様の形成、或は所望の表面形状の作製を簡易な作業で実施できる積層造形装置を提供する。 - 特許庁 - Subsequently, the pattern measurement apparatus maps a basic shape to the image border line (step S304), and obtains a position of a measurement border line using the normal vector corresponding to the basic shape mapped to the image border line (step S305).
次に、画像輪郭線に基本形状をマッピングし（ステップＳ３０４）、画像輪郭線にマッピングされた基本形状に対応する法線ベクトルを用いて測長輪郭線の位置を求める（ステップＳ３０５）。 - 特許庁
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