「shape pattern」を含む例文一覧(3752)
＜前へ 1 2 .... 25 26 27 28 29 30 31 32 33 .... 75 76 次へ＞- To provide a semiconductor manufacturing method which can control the shape of a pattern corner part and restrain dispersion and deterioration of the characteristics of a semiconductor device.
パターンコーナー部の形状を制御し、半導体装置の特性のばらつき、劣化を抑えることが可能な半導体製造方法を提供する。 - 特許庁 - The shape of the peripheral mesh is changed and the tread pattern is changed from the moving direction and moving amount of the selected control point 26.
選択したコントロール点２６の移動方向及び移動量に基づいて、その周辺のメッシュの形状が変更され、トレッドパターンが変更される。 - 特許庁 - A large number of irregular projecting parts 9 of irregular shape are formed in a predetermined array pattern on an outer surface of at least a barrel portion 4 of the container body 1.
容器本体１の少なくとも胴部４の外面に、多数の不規則形状の凸部９を所定の配列パターンで形成する。 - 特許庁 - Each of the first and second reference pattern lines has a specified shape similar to another, and extended over the width of at least one servo track.
第１および第２基準パターンラインのそれぞれは、同一の所定形状を有し、少なくとも一つのサーボトラックの幅にわたって延在する。 - 特許庁 - To easily prevent any noise generation due to resonance in electronic equipment without changing the pattern of a substrate or the structure or shape of electronic equipment.
電子機器において、基板のパターン、電子機器の構造や形状を変えることなく、容易に共振によるノイズ発生を防ぐようにする。 - 特許庁 - In the list of chips, a deviation of the characteristic amount in the shape of cross-section of resist pattern of the FEM wafer for the adequate value is shown with color-display images.
チップ一覧表では、適正値に対するＦＥＭウェーハのレジストパターンの断面形状の特徴量の偏差を、色彩表示する。 - 特許庁 - Therefore, the lost foam pattern M is embedded in the molding sand S while holding the shape at the producing time without causing any deformation and damage.
従って、消失模型Ｍが変形したり損傷を受けたりすることがなく、製作時の形状を保って鋳砂Ｓ中に埋設される。 - 特許庁 - After the conductive paste is printed on a base material in a predetermined shape, a conductor pattern is formed preferably by pressing or wet-heat treatment.
前記の導電性ペーストを所定形状で基材に印刷した後、好ましくはプレス又は加熱加湿処理して導体パターンを形成する。 - 特許庁 - A colored film comprising the produced color paste is disposed every color in a desired pattern shape by an arbitrary number of colors to obtain the color filter in this invention.
さらに本発明のカラーフィルターは、該カラーぺーストからなる着色膜を所望のパターン状に任意の色数で各色別に設けたものである。 - 特許庁 - A first recess having a shape opening toward the outer periphery is formed on a board, and a conductive pattern is formed on a peripheral part of the first recess.
外周に向かって開口する形状の第１の凹部を基板に形成し、当該第１の凹部の周縁部に導電パターンを設ける。 - 特許庁 - The shape of every hole pattern 400 arranged therein is observed, thereby finding distortion during the alignment step.
この四隅に配置される各ホールパターン４００の形状を観察することにより、露光工程時におけるディストーションの発生の有無の観察を行う。 - 特許庁 - During the step of pressurizing the laminate 121 while heating it, the cushion sheets 51, 52 deform so that the shape of the conductor pattern 37 is transferred.
積層体１２１を加熱しつつ加圧する工程時、クッションシート５１，５２が導体パターン３７の形状が転写されるように変形する。 - 特許庁 - To provide a power amplifier module having an arrangement of a yoke which is suitable for reducing an outer shape dimension and mounting, and also of an expose trimming pattern.
外形寸法の縮小及び実装に適し、かつ、トリミングパターンを露出させたヨーク配置を持つ電力増幅モジュールを提供する。 - 特許庁 - To provide a chip antenna which adjusts the impedance or tuning frequency of an antenna element by changing the shape of a part of a conductive path pattern.
導電路パターンの一部の形状変更によってアンテナ素子のインピーダンスまたは同調周波数を調整したチップアンテナを提供する。 - 特許庁 - To provide a lens which can effectively utilize a shape of a light-emitting section of a light source at the time of forming of a light distribution pattern and has high design flexibility.
配光パターンの形成に光源の発光部の形状を有効に利用することができ、且つ設計自由度の高いレンズを提供する。 - 特許庁 - In the entire area on the circuit board 41, a pattern in a dot matrix shape wherein LED elements 42 and the light reflecting film 7 are mixed is formed.
回路基板４１上の全域においては、ＬＥＤ素子４２と光反射膜７とを混合したドットマトリクス状の模様を形成する。 - 特許庁 - The cross sectional profile of the core device of the light control pattern of the light guide plate molding die can be polygonal, V-shaped, semi-circular profile and other geometrical shape.
導光板成形用型の調光パターンのコア装置の断面形は多角形、Ｖ字形、半円形その他の幾何形状とされうる。 - 特許庁 - A dummy pattern 15 is formed in a linear shape at ≤0.2 mm interval along the sealing member between the display region and the sealing member 12.
そして、表示領域とシール部材１２との間にダミーパターン１５をシール部材にそって０．２ｍｍ以下の間隔にて線状に形成する。 - 特許庁 - To provide an illuminating unit capable of showing a complicated pattern in the casing of a game machine and responding to the outer wall surface of the case with a complicated shape.
ゲーム機の筐体に複雑な模様を表したり、複雑な形状の筐体外壁面にも対応可能なイルミネーション装置を提供する。 - 特許庁 - The pattern projected onto the specimen 7 is imaged by an imaging device 6 and processed by the PC body 1, to thereby measure the three-dimensional shape.
撮像装置６で、被検体７に投影されたパターンを撮像し、ＰＣ本体１で処理することによって、３次元形状を測定する。 - 特許庁 - The conductive pattern layer 6 is formed in a plane-view belt shape so as to make a fixed interval space in one direction as an axis direction.
導電パターン層６は平面視帯状に形成され、一方向を軸方向として一定の間隔をあけるように形成されている。 - 特許庁 - (b) Or a negative electrode 4 and a pattern of an electron injection blocking layer 10 are formed on a substrate 1 in a stripe form in a rectangular shape of cross section.
或いは基体１上には、陰極４および電子注入阻止層１０のパターンがストライプ状に断面矩形状に形成されている。 - 特許庁 - The pattern is then changed to a shape like (b) according to the optical unsharpness rates B1 and B2 on both sides of the boundary 12 of the sub-fields, where B1<B2.
そして、サブフィールドの境界１２の両側の光学的なボケ量Ｂ１とＢ２に応じて、（ｂ）のような形状にパターンを変更する。 - 特許庁 - Recesses are not produced between the data line 6a and the projecting pattern 81 and the boundary part between two pixel electrodes has a uniform projecting shape.
しかも、データ線６ａ及び凸パターン８１相互間も、窪みは発生せず、画素電極同士の境界において、一様な凸形状を有する。 - 特許庁 - On a semiconductor substrate 1, an MIM type capacitive element is formed with an electrode formed with a metal pattern of comb shape of wirings M1-M5.
半導体基板１上に、配線Ｍ１〜Ｍ５の櫛型形状の金属パターンで電極を形成したＭＩＭ型の容量素子が形成される。 - 特許庁 - To provide a nitride semiconductor laser element where the far-field pattern shape of a laser beam is satisfactory, and the laser beam of single mode can be obtained.
レーザ光のファーフィールドパターン形状が良好で、単一モードのレーザ光が得られる窒化物半導体レーザ素子を提供することである。 - 特許庁 - A manufacturing method for the semiconductor device contains a process for polishing a substrate forming a metallic wiring, a barrier metal or the insulating film in a pattern shape.
金属配線、バリアメタル、又は絶縁膜がパターン状に形成された基板を研磨する工程を含む半導体装置の製造方法。 - 特許庁 - To provide an antenna circuit substrate manufacturing method for obtaining an antenna substrate which is high in productivity, reduces costs and has the good shape of an antenna circuit pattern.
アンテナ基板を生産性高く、低コストで、またアンテナ回路パターンの形状がよいものを得るアンテナ回路基板の製造方法を提供する。 - 特許庁 - AUTOMATIC SHAPE MEASURING METHOD FOR PHOTOMASK PATTERN, ITS MEASURING INSTRUMENT AND PROGRAM, PHOTOMASK MANUFACTURING METHOD AS WELL AS MANUFACTURING METHOD FOR SEMICONDUCTOR DEVICE
フォトマスクパターン形状自動計測方法及びその装置及びそのプログラム及びフォトマスク製造方法及び半導体装置の製造方法 - 特許庁 - An antenna pattern 111 is formed in the surface of an antenna substrate 100 having a prescribed dielectric constant in a planar shape by using an antenna conductor.
所定の誘電率を有するアンテナ基板１００の表面にアンテナ導体を用いて平面状にアンテナパターン１１１が形成される。 - 特許庁 - Stamping includes pressing a stamping block having a shape and pattern that are the inverse of the desired optical element against the surface of a light emitting diode.
スタンピングは、所望の光学エレメントを逆にした形状及びパターンスタンピングブロックを発光ダイオードの面に対してプレスする工程を含む。 - 特許庁 - To provide a diffraction optical element with high reproducibility of the dimension and the shape of its pattern and with reduced difference in the optical characteristics between itself and the substrate.
パターンの寸法及び形状の再現性が高く、基板との光学特性の相違が低減された光学回折素子を提供する。 - 特許庁 - To provide an electron beam projection exposure system for efficiently determining the sectional shape of an electron beam for exposing to a pattern to be exposed to light.
露光すべき電子ビームの断面形状を、露光すべきパターンに対して効率よく定めることができる電子ビーム露光装置を提供する。 - 特許庁 - With such a determination of the continuous presentation pattern, the shape of a display part provided in a starting prize winning storage display area 5H is determined.
このような連続演出パターンの決定に伴い、始動入賞記憶表示エリア５Ｈに設けられた表示部位の形状が決定される。 - 特許庁 - To provide a method for forming an amorphous-carbon hard mask generating no bowing and thinning of a pattern when an amorphous-carbon film is worked in a hard mask shape.
アモルファスカーボン膜をハードマスク形状に加工する際、ボーイングやパターンの細りの起こらないアモルファスカーボンハードマスクの形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a method for processing a fine shape, capable of imparting a fine pattern by performing additional etching in a recessed portion formed on a base body.
基体に形成した凹部内に追加エッチングを行い、微細パターンを付与することを可能にした、微細形状の加工方法を提供する。 - 特許庁 - To avoid lowering the yield due to breaking of a resist pattern and prevent an etching liquid flow from being blocked in the gap between thick film patterns to accurately form a desired pattern over the entire substrate, when photosensitive layers on a substrate are exposed and developed to form a mask pattern and the substrate is etched with the mask pattern to form the pattern of the same shape as that of the mask pattern on the substrate.
基板上に形成された感光層に露光および現像によりマスクパターンを形成し、そのマスクパターンを用いて基板をエッチングすることにより、基板にマスクパターンと同一形状のパターンを形成する際に、レジストパターンの破れによる歩留の低下を防止する一方で、厚膜パターン同士の隙間でエッチング液の流れが阻害されることを防止し、基板全体にわたり所望のパターンを精度良く形成できるようにする。 - 特許庁 - To provide a method for producing a mold for casting where, even to a product shape requiring a complicated removal pattern such as a loose piece, pattern removal can be easily performed, and a mold having high dimensional precision can be efficiently produced.
「おいてこい」のような複雑な抜取模型が必要な製品形状に対しても、簡便に抜型でき、寸法精度が高い鋳型を効率良く製造できる鋳造用鋳型の製造方法を提供する。 - 特許庁 - The auxiliary conductor 11 is pattern-formed by forming a recessed part 14 matched with the pattern shape of the auxiliary conductor 11 on the open end face 6 and filling a conductive material 16a in the recessed part 14.
補助導体１１を、開放端面６に補助導体１１のパターン形状と一致する凹陥部１４を形成し、該凹陥部１４に導電材１６ａを充填することによりパターン形成するようにした。 - 特許庁 - To compensate, in a three-dimensional shape measuring apparatus which projects a light pattern onto an object by scanning a light beam with a vibrating mirror, for variations attributable to the environmental conditions of the projected light pattern among other factors.
振動ミラーにより光ビームを走査することで対象物上に光のパターンを投影する三次元形状計測装置において、投影する光のパターンの環境条件等による変化を補償する。 - 特許庁 - Consequently, resist can be left in an arbitrary shape and an arbitrary size, and pattern regions P which are hatched in Fig. 3 and coated with the resist and the non-pattern region NP between them which is not applied with the resist can be formed.
これにより任意の形状・大きさでレジストを残すことができ、図３にハッチングで示すようにレジストを塗布されたパターン領域Ｐと、その間のレジストを塗布されない非パターン領域ＮＰとを形成できる。 - 特許庁 - To provide a technique for preventing a transfer region, formed on the surface of a transferred body by transferring the pattern region of a printing plate, from being formed in trapezoidal shape which is spread longer than the pattern region.
印刷版のパターン領域が転写されることで被転写体表面に形成された転写領域が、パターン領域よりも伸び広がった台形状に形成されることを防止する技術を提供する。 - 特許庁 - A light source slit 150 has a slit pattern 154 and is mounted on the surface of the photodetector 130 where a photodetector array 132 is formed so that the slit pattern 154 overhangs, in an overhung shape at the light source 110.
光源スリット１５０はスリットパターン１５４を有し、スリットパターン１５４が光源１１０の上にひさし状に張り出すように、フォトディテクターアレイ１３２が形成された光検出器１３０の面に取り付けられている。 - 特許庁 - To provide a substrate processing method capable of forming an organic film pattern after an development process in the intended dimension and shape, even though the initial organic film pattern is damaged by an etching or exposed.
当初の有機膜パターンがエッチングによるダメージや露光を受けていたりするような場合であっても、現像処理の後の有機膜パターンを所望の寸法・形状にすることが可能な基板処理方法を提供する。 - 特許庁 - Accordingly, even if a certain pattern group is stained or gets defective, drawing processing is performed by using another pattern group having the same shape without replacing or washing the mask M itself.
このため、あるパターン群に汚れまたは欠陥が発生した場合にも、マスクＭ自体を交換または洗浄することなく、同一の形状を有する他のパターン群を使用して描画処理を行うことができる。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing a metal wire pattern by which an arbitraly shaped submicron order metal wire pattern is surely replicatively manufactured and the surface of the metal wire free from unevenness is formed into an excellent shape.
任意の形状のサブミクロンオーダーのメタルワイヤーパターンを確実に複製製造できるとともに、メタルワイヤーの表面を凹凸のない良好な形状に成形できるメタルワイヤーパターンの製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a method for forming an etching mask, a control program, and a program storage medium, which can form easily with sufficient precision an fine pattern etching mask of nonlinear shape without using a reticle of complicated pattern.
複雑なパターンのレチクルを用いることなく非直線状の微細なパターンのエッチングマスクを精度良く容易に形成することのできるエッチングマスクの形成方法、制御プログラム及びプログラム記憶媒体を提供する。 - 特許庁 - To prevent deterioration of a pattern shape for forming a pattern excellent in resolution and a depth of focus, when using a liquid for immersion exposure by improving a refractive index and a transmission factor in a far-UV area.
遠紫外領域における屈折率および透過率が高く、液浸露光用液体として使用した場合、パターン形状の劣化を抑え、より解像度および焦点深度の優れたパターンを形成できる。 - 特許庁 - If probe needle assemblies are arranged corresponding to each of the specific chip areas on the virtual cover pattern, the arrangement pattern can be obtained in the probe needle assembly having an appropriate spacing and a nearly circular outer shape.
仮想カバーパターン上の各特定チップ領域に対応させるようにしてプローブ針組を配置していけば、適宜間引かれ且つ略円形状の外形を有するプローブ針組の配置パターンを得ることができる。 - 特許庁 - To provide a chemically amplified photoresist which exhibits excellent sensitivity and resolution and gives a pattern having a good section shape when a fine resist pattern of 0.15-0.22 μm is formed using a KrF excimer laser.
ＫｒＦエキシマレーザーを用いて０．１５〜０．２２μｍのような微細なレジストパターンを形成する際に、優れた感度、解像度を示し、かつ断面形状の良好なパターンを与える化学増幅型ホトレジストを提供する。 - 特許庁
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