「shape pattern」を含む例文一覧(3752)
＜前へ 1 2 .... 27 28 29 30 31 32 33 34 35 .... 75 76 次へ＞- To provide a neural network capable of additionally learning a new learning pattern without holding the existing learning patterns by predicting a distribution shape of learning patterns and reconfiguring patterns within the range of the distribution shape.
学習パターンの分布形状を予測し、その範囲内のパターンを再構成することによって既存の学習パターンを保持することがなく新規学習パターンを追加学習できるニューラルネットワークを提供する。 - 特許庁 - The synthetic pattern 86 is made by synthesizing a plurality of first uneven patterns 84 having a linear shape long in one direction , and a plurality of second uneven patterns 85 of concave lens shape which are arranged at random.
合成パターン８６は、一方向に長い線状をした複数の第１凹凸パターン８４と、ランダムに配列された凹レンズ状の複数の第２凹凸パターン８５とを合成することによって作製されている。 - 特許庁 - This makes light illuminated forward through the opening section 20b form a light distribution pattern in a shape corresponding to the opening shape of the opening 20b at a place adequate to the overhead sign illumination.
これにより、開口部２０ｂを介して前方へ照射される光によって、オーバヘッドサイン照射に適した位置に、該開口部２０ｂの開口形状に対応した形状の配光パターンを形成するようにする。 - 特許庁 - As a result, a crossed part 921 is slowly hardened and adapted to each of first pattern elements 91 and the uncrossed part 922 is hardened quickly to prevent the second pattern element 92 from being out of shape, so that the lattice pattern can be adequately formed on the substrate 9.
その結果、交差部９２１を緩やかに硬化させて第１パターン要素９１となじませ、非交差部９２２を速やかに硬化させて第２パターン要素９２の形状が崩れることを防止し、基板９上に格子状のパターンを適切に形成することができる。 - 特許庁 - To provide a chemical amplification type positive photoresist composition having superior sensitivity and resolution, capable of giving a good section shape of a resist pattern and less susceptible to a light proximity effect, that is, ensuring a small size difference between an isolated resist pattern and a dense resist pattern.
感度、解像性が優れ、かつ良好なレジストパターン断面形状を与えることができるという特性に加えて、光近接効果による影響の少ない、すなわち孤立レジストパターンと密集レジストパターンのサイズの差が少ない化学増幅型ポジ型ホトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁 - A fine slit pattern structure of a predetermined shape is executed in respective printing elements and/or dots of a line drawing and/or a dot pattern on a basic image A expressing the face image of a person by continuously changing the printing element width or the diameter of the line drawing and/or the dot pattern.
線画及び／又はドットパターンにおける画線幅や直径を連続的に変化させて人物の顔画像を表現した基本画像Ａに対して、前記線画及び／又はドットパターンのそれぞれの各画線内及び／又は各ドット内に一定形状の微小スリットパターン構造を施す。 - 特許庁 - This method for punching and cutting to mold a dough of complicated shape pattern from an intermittently moving-confectionery dough of longer length is characterized by dividing the pattern of the dough into plural patterns followed by punching and cutting to mold each divided pattern at each different position.
この発明は、間欠移動する長尺菓子生地から複雑な形状模様の生地を打抜、打刻成形する方法において、前記生地の模様を複数に分割し、各分割模様毎に別位置で打抜、打刻成形するこをと特徴とした菓子生地の打抜、打刻方法によりその目的を達成した。 - 特許庁 - To provide a resist pattern which does not give rise to intermixing at the boundary between an upper layer resist layer and a lower layer resist layer and consequently has a good shape, a method of forming this resist pattern, a patterning method of a thin film by using this resist pattern and a method of manufacturing a thin-film magnetic head.
上側レジスト層と下側レジスト層との界面でインターミキシングが起きず、従って良好な形状を有するレジストパターン、このレジストパターンの形成方法、このレジストパターンを用いた薄膜のパターニング方法及び薄膜磁気ヘッドの製造方法を提供する。 - 特許庁 - The illuminator 10 has an optical element which includes a first optical pattern having a light transmittance differentiated in accordance with a distance from intersection with an emission light axis and a second optical pattern including a transmissive part having a shape corresponding to a desired irradiation pattern in the emission direction of the light source.
照明装置１０は、さらに光源の出射方向に、出射光軸との交点からの距離に応じて光透過率が異なる第１の光学パターンと、前記照射パターンに対応する形状の透光部を含む第２の光学パターンと、を具備する光学要素とを具備する。 - 特許庁 - The dappled pattern on the molten material surface is not changed to this shape in the case of being the short time, and since the pattern is shifted with the same speed as the flowing speed of the molten material, the flowing speed of the molten material flowing out from the molten iron tapping hole can directly be measured by measuring the shifting speed of the pattern.
溶融物表面のまだら模様は、短時間であればその形状を変えることなく、溶融物の流速と等しい速度で模様が移動していくので、模様の移動速度を測定することにより出銑口から流出した溶融物の流速が直接測定できる。 - 特許庁 - An opening 22 for a land is in a perfect circle shape and is smaller than the area of a copper pattern 16 for the land, a part of the edge of the copper pattern 16 for the land and a part of the edge of the opening 22 for the land are formed at the same position, and a copper pattern 18 for wiring is formed next to them.
ランド用開口部２２が真円形状であり、ランド用銅パターン１６の面積よりも小さく、ランド用銅パターン１６の縁部の一部分とランド用開口部２２の縁部の一部分とが同じ位置に形成され、その横に配線用銅パターン１８が形成されている。 - 特許庁 - To provide a resist composition which suppresses occurrence of shape anomaly and can form a fine and high-definition resist pattern with good dimensional accuracy, and to provide a resist pattern forming method by which a fine and high-definition resist pattern can be efficiently formed with good dimensional accuracy, and a method for manufacturing a semiconductor device.
形状異常の発生を抑制し微細かつ高精細なレジストパターンを寸法精度よく形成可能なレジスト組成物、微細かつ高精細なレジストパターンを効率的かつ寸法精度よく形成可能なレジストパターンの形成方法、及び半導体装置の製造方法の提供。 - 特許庁 - To provide a forming method of a fine pattern with improved size precision which does not gives rise to a failure in a pattern shape etc. due to the uneven adhesion of reaction products etc., manufactured when a mask pattern such as a resist is used, to the resist.
本発明は半導体装置の製造工程において、レジストなどのマスクパターンを用いる際に発生する反応生成物等のレジスト等への不均一な付着によるパターン形状等の不良を生じさせず、また、寸法精度が良好な微細パターンの形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁 - To obtain the shape of the pattern of a mask to be illuminated with exposing lights as a target value in each part on a substrate at the transfer of the image of the pattern to the substrate, while overlapping the mutually peripheral parts of the image of the pattern of the mask.
露光光で照明されるマスクのパターンの像の周辺部どうしを互いに重ね合わせつつ基板上に転写する際、パターンの形状が基板上の各部分において目標値となるように形成することができる露光方法及び露光装置を提供する。 - 特許庁 - By having a structure in which a perfect Cr shading part is a self-alignment type, a dicing mark part is a Cr recessing type and a pattern part is a HT pattern, the resist shape on the wafer after photomask pattern exposure can be improved and the defect detection sensitivity in the photomask defect inspection can be sufficiently obtained.
完全Ｃｒ遮光部はセルフアライン型、ダイシングマーク部はＣｒ後退型、パターン部はＨＴパターンという構造を有することにより、フォトマスクパターン露光後のウェーハ上のレジスト形状を良好にし、かつフォトマスク欠陥検査時における欠陥検出感度を十分に得ることができる。 - 特許庁 - On the other hand, an imaging portion 602 shoots an image including the irradiation pattern produced by the emitted pattern lights, and an image processing portion 603 detects a fault on the surface of the inspection object on the basis of changes of the shape of the irradiation pattern included in the shot image.
一方、撮像部６０２は、照射されたパターン光により生成される照射パターンを含む画像を撮影し、画像処理部６０３は、前記撮影された画像に含まれる照射パターンの形状の変化に基づいて前記検査対象物の表面の欠陥を検出する。 - 特許庁 - The antenna 1 is constituted of a dielectric substance 11 in the shape of a rectangular column, a power supply pattern 12 which is set on the surface of the dielectric substance 11 and is connected to a supply point 9, and a loading conductor pattern 13, which is set on the surface of the dielectric substance facing the power supply pattern 12.
アンテナ１が、角柱状の誘電体１１と、誘電体１１の表面に設置されて給電点９と接続される給電パターン１２と、給電パターン１２と対向する誘電体１１の表面に設置された装荷導体パターン１３によって構成される。 - 特許庁 - By the configuration, since the absorption part pattern has the forward tapered shape, the interruption of the exposure light by the absorption part pattern at the edge part of the absorption part pattern is suppressed, and the influence of the projection effect by the incident angle of the exposure light is suppressed.
本発明の構成によれば、吸収部パターンが順テーパ形状を備えるため、吸収部パターンのエッジ部において露光光が吸収部パターンに遮られることを抑制することが出来、露光光の入射角度による射影効果の影響を抑制することができる。 - 特許庁 - To provide a stamper for pattern transfer in which the edge shape of a pattern formed on the surface thereof by film deposition or etching has satisfactory linearity, and capable of corresponding to a fine pattern accompanying the increase of the density and capacity in an information recording medium or the like, and to provide its production method.
成膜又はエッチングによりスタンパ表面に形成されたパターンの端形状が良好な直線性を有し、情報記録媒体等の高密度、高容量化に伴う微細パターンに対応可能な、パターン転写用スタンパ及びその製造方法を提供する。 - 特許庁 - The cross-sectional shape of the surface design in the projected and recessed pattern 7 is provided with: a flat pattern central part 71; recessed parts 72 formed on both sides of the pattern central part 71; and projecting parts 73 each formed adjacently to the outside of the recessed part 72.
凹凸パターン７における表面図柄の断面形状は、エッチング用ガラスをエッチングしたことにより、平坦状の模様中心部７１と、模様中心部７１の両脇に形成された凹部７２と、凹部７２の外側に隣接形成された凸部７３とを備えている。 - 特許庁 - In the ensign portion 3 of such a constitution, even if the layer 4 printed with the oily ink is diffused and stained due to aging change, the shielding layers 5 specify the edge of the pattern, and hence the pattern shape is still maintained so that the watermark pattern is not blurred.
かかる構成の透かし標章部３にあって、経時変化により油性インキにより印刷された透かし模様層４が拡散して、滲んでも、遮光性のある縁取り模様層５が模様の周縁を規定しているから、模様形状が画然として維持され、透かし模様がぼけない。 - 特許庁 - To provide a method which allows industrial production of a steel sheet with an uneven pattern at low cost without lowering durability of a work roll, regardless of an uneven pattern shape, when manufacturing the steel sheet with the uneven pattern, which requires functionality, such as design, slip resistance, or the like, by multistage rolling.
意匠性や滑り止めなどの機能性が要求される凹凸模様鋼板を多段圧延によって製造するにあたり、凹凸模様形状によらずワークロールの耐久性を落とすことなく、低コストでの凹凸模様鋼板の工業生産を可能とする方法を提案する。 - 特許庁 - A light shielding pattern 6 is formed in a region, which is on the semiconductor IC chip mounting face 1a and on which the semiconductor IC chip 2 is mounted, in such a way that the light shielding pattern is matched with the shape of a gap part 8, in which the wiring pattern 3b for the rear-side signal is not arranged.
上記半導体ＩＣチップ実装面１ａ上であって、かつ上記半導体ＩＣチップ２が実装される領域には、上記裏側信号用配線パターン３ｂが配置されていない隙間部８の形状に合わせて、遮光パターン６が設けられている。 - 特許庁 - Wherein the refraction member comprises a prism array formed by arranging in series the prism pattern of a V shape with its tip directing to the edge of the light guide plate, and further is possible to form light projecting units in part of the prism pattern for preventing light that propagates around each optical axis of the point-like light sources from being entirely reflected on the prism pattern.
前記屈折部材は、頂点が前記導光板の縁側を向くV字状のプリズムパターンが反復配列されたプリズムアレイを含み、前記点光源の光軸の付近の光が前記プリズムパターンにより全反射されることを防止する投光部をさらに備えうる。 - 特許庁 - Pattern data 91 bought so far by a user are indicated in the shape of an icon on a bought pattern list data image screen 90, and a download button 92 is displayed on a not yet downloaded or redownloadable bought pattern so as to select whether or not to download the data.
購入済模様リストデータ画面９０には、利用者がこれまでに購入した模様データ９１がアイコンの形で示され、まだダウンロードしていなかったり、再度ダウンロード可能である購入済模様については、ダウンロードボタン９２が表示されてダウンロードするか否かを選択できるようになっている。 - 特許庁 - To form a metal pattern into an accurate shape, related to a method where a photosensitized plating resist is coated on the surface of a circuit board after a catalyst layer is formed, which is exposed into a prescribed pattern and then developed, and the patterned plating resist is used for a metal pattern by electroless plating.
回路基板の表面に触媒層を形成してから感光性のメッキレジストを塗布し、これを所望パターンに露光してから現像し、これでパターニングされたメッキレジストを利用して金属パターンを無電解メッキにより形成する方法において、金属パターンを正確な形状に形成する。 - 特許庁 - Also, by arranging the main seal pattern 2 by bending it in the corrugated shape in the line width of a conventional straight pattern, the peeling load of the main seal pattern 2 per unit area of glass is improved and the serious defect of seal peeling is hardly induced in the process of cutting stuck glass into a panel individual piece size.
また、本シールパターン２を従来の直線パターンの線幅で波状に曲げて配置することにより、ガラスの単位面積当たりの本シールパターン２の剥離荷重が向上し、貼り合わせガラスをパネル個片サイズに切断する工程において、シール剥離という重大欠陥を誘発しにくくなる。 - 特許庁 - To enable molding sand to fill into a high density state in a sand filling space, even when a pattern part on a pattern plate has a complicate shape without causing the so-called a bridging phenomenon, in a molding device for a mold provided with the pattern plate, a molding flask, an upper supplemental flask and a sand filling means.
模型板と、鋳枠と、盛枠と、砂充填手段とを備えた鋳型造型装置において、いわゆる棚吊現象を起こしたりすることがない上に、模型板の模型部が複雑形状の場合にも鋳物砂を砂充填空間に高密度状態に充填することができるようにする。 - 特許庁 - In an area where the second transparent conductive pattern 19 overlaps with the auxiliary capacitance line 12, contact holes 41 and 51 through which the pixel electrode 61 and the first transparent conductive pattern 39 are made conductive are provided and an island shape pattern 35 including a semiconductor layer is provided on the gate insulating film 15.
第２透明導電パターン１９が補助容量線１２と重なる個所には、画素電極６１と第１透明導電パターン３９とを導通させるコンタクトホール４１，５１が設けられるとともに、ゲート絶縁膜１５上に、半導体層を含む島状パターン３５が設けられる。 - 特許庁 - When the arrangement pattern is changed, the game device specifies a ring shape puzzle element group by defining the group of the puzzle elements, where the same kind of attributes are set and which are adjacently arranged in a closed ring shape among the respective puzzle elements in the prescribed area, as the ring shape puzzle element group.
配置パターンが変更されると、ゲーム装置は、所定領域内の各パズル要素のうちで、同一種類の属性が設定されており、かつ、閉じた環状に隣接配置されているパズル要素の群を環状パズル要素群として、当該環状パズル要素群を特定する。 - 特許庁 - A shape extraction circuit 22 estimates the kind and the degree of the distortion of the reading target face including the inclination or the curvature of the reading target face on the basis of a position of the marker light on the marker image, and a shape pattern is estimated from the kind and the degree of the distortion and is stored in a shape storage memory 23.
形状抽出回路２２は、マーカー画像上でのマーカー光の位置に基づいて読取対象面の傾きまたは湾曲を含む読取対象面の歪の種類その程度を推定し、この歪の種類と程度から形状パターンを推定して形状記憶メモリ２３に記憶する。 - 特許庁 - When the arrangement pattern is changed, the game apparatus specifies a ring shape puzzle element group by defining the group of the puzzle elements, where the same kind of attributes are set and which are adjacently arranged in a closed ring shape among the respective puzzle elements in the prescribed area, as the ring shape puzzle element group.
配置パターンが変更されると、ゲーム装置は、所定領域内の各パズル要素のうちで、同一種類の属性が設定されており、かつ、閉じた環状に隣接配置されているパズル要素の群を環状パズル要素群として、当該環状パズル要素群を特定する。 - 特許庁 - To provide an optical shape-measuring apparatus for solving the problem of deterioration in shape measurement accuracy, by preventing the deterioration in the S/N of the quantity of light, in an optical shape measurement method for obtaining an illumination angle from information on the quantity of light of pattern light irradiated.
照射角度を、照射されたパターン光の光量の情報から求める光学的形状測定方法において、光量のＳ／Ｎの劣化を防止して、形状測定精度が劣化するという問題を解消した光学的形状測定装置を提供すること。 - 特許庁 - Either or both algorithms are used, in a method for determining incident polarization by fitting mathematically a pattern shape or matching with a database or in a method for determining incident polarization from a frequency component acquired by performing Fourier transform of the pattern shape, as an analysis procedure of a two-dimensional intensity distribution pattern observed by a light-receiving element array.
受光素子アレイによって観測される２次元強度分布パターンの解析手法として、パターン形状を数学的にフィッティングするか、またはデータベースとのマッチングを行うことにより入射偏波を求める方法、もしくはパターン形状をフーリエ変換し、その周波数成分から入射偏波を求める方法の、どちら一方または両方のアルゴリズムを用いる。 - 特許庁 - To provide a composition for an antireflection coating which prevents lowering of the dimensional accuracy of a pattern caused by interference of multiply reflected light in a photoresist film and enables formation of a resist pattern free of deterioration in the pattern shape such as T-top or round top shape adverse to an etching process caused chiefly by intermixing of a chemically amplified resist and an antireflection film.
フォトレジスト膜内における多重反射光の干渉によりもたらされるパターン寸法精度の低下を防止し、且つ化学増幅型レジストと反射防止膜とのインターミキシングなどにより引き起こされる、エッチング工程に不都合なＴ−トップ、ラウンドトップなどのパターン形状の劣化を起こさないレジストパターンを形成することのできる反射防止コーティング用組成物を提供する。 - 特許庁 - The layout apparatus extracts each of a first pattern graphic and a second pattern graphic forming the same node from the graphic of the respective two layers, extracts an AND graphic in which the first pattern graphic and the second pattern graphic are ANDed, and generates a contact via in a prescribed shape according to a prescribed inclusion reference inside the AND graphic.
レイアウト装置は、各２つの層の図形データから同一ノードを形成する第１パターン図形及び第２パターン図形をそれぞれ抽出し、第１パターン図形及び第２パターン図形を論理積処理した論理積図形を抽出し、論理積図形内に、所定の内包基準に従って所定形状のコンタクトビアを生成する。 - 特許庁 - On the basis of data of defect inspection obtained in a process for forming a circuit pattern in a wafer 1 and of the shape of a circuit pattern wherein a poor conductive region 7a is found by a VC inspection, when performing DSA by using the data of VC inspection after forming the circuit pattern, a rectangular DSA region 8 is formed so as to surround the circuit pattern.
ウェハ１に配線パターンを形成する過程で得られる欠陥検査のデータと、配線パターン形成後のＶＣ検査のデータを用いてＤＳＡを行う際、ＶＣ検査によって導通不良領域７ａが見つかった配線パターンの形状を基に、その配線パターンを囲むようにして矩形形状のＤＳＡ領域８を設定する。 - 特許庁 - When the pattern printed film 3 is thermally bonded to the resin substrate sheet 1 under pressure, the pattern 2 of the pattern printed film 3 is partitioned and a positioning line 1 drawn on the surface of the pattern printed film 3 in a vertical direction from the end part thereof in a shape recognizable easily and certainly at a glance is added to be used.
絵柄印刷フィルム３を樹脂基材シート上に熱圧着する際に、少なくとも１ヶ所以上の一定間隔毎に上記絵柄印刷フィルム３の絵柄２を区切り、容易、かつ、確実に一目で認識できる形状で、同絵柄印刷フィルム３の表面上にその端部から垂直方向に描かれる位置決め線１を付加して使用する。 - 特許庁 - A subject to be exposed is exposed by lightning a mask having a pattern of contact holes and an auxiliary pattern smaller than the pattern of contact holes with a light that forms an effective light source having an empty center of non circular shape, and projecting the pattern of contact holes on the subject to be exposed using a projecting optical system.
コンタクトホールパターンと当該コンタクトホールパターンよりも寸法が小さな補助パターンとを有するマスクを、中央が非円形形状に抜けた有効光源を形成する光で照明し、前記コンタクトホールパターンを投影光学系で被露光体に投影することにより、当該被露光体を露光することを特徴とする露光方法を提供する。 - 特許庁 - A processing method for a substrate in which development is carried out after pattern exposure includes a shaping stage of shaping the resist pattern shape, so that the side wall 111 of the resist pattern 110 having been developed swells toward a groove and a swell 116 which swells toward the groove and curves concavely toward the groove is formed at a corner 115 at the bottom of the resist pattern.
パターンの露光処理の後に現像処理が行われる基板の処理方法において，現像処理後のレジストパターン１１０の側壁部１１１が溝側に膨出し，かつレジストパターンの底部の角隅部１１５に，溝側に膨出してかつ溝側に凹に湾曲する膨出部１１６が形成されるように，レジストパターン形状を整形する整形工程を有する。 - 特許庁 - In the signal transmitter 1 in which at least a pair of signal transmission terminals TI and TO and a conductive pattern PA for connecting them are formed on the front surface A and a ground pattern PB is formed on a rear surface B, the ground pattern PB formed on the rear surface B is formed in a shape superposed on the conductive pattern PA through the substrate 10.
少なくとも一対の信号伝送端子ＴＩ、ＴＯと、これらを接続する導電パターンＰＡとを表面Ａに形成し、裏面ＢにはグランドパターンＰＢを形成した信号伝送装置１であって、裏面Ｂに形成されたグランドパターンＰＢは、導電パターンＰＡに対応して、基板１０越しに重合した形状にしている。 - 特許庁 - To provide an imaging apparatus capable of changing the white balance of an image such as making more blue the sky in the upper part of a screen in accordance with a specific pattern shape.
画面上部の空をより青くするなど、特定パターン形状に従って画像のホワイトバランスを変更することができる撮像装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a positive resist composition which simultaneously satisfies high sensitivity, high resolution, a good pattern shape and good stability to PED (post-exposure delay) in vacuum.
高感度、高解像性、良好なパターン形状、及び良好な真空中ＰＥＤ特性を同時に満足するポジ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁 - The plotting is started from an auxiliary seal part 23 outside the seal pattern in the closed loop shape and the plotting is ended at the auxiliary seal part 23 different from the auxiliary seal part 23 where the plotting is started.
閉ループ状シールパターンの外の補助シール部23から描画し始め、かつ描画し始めた補助シール部23と異なる補助シール部23で描画し終わる。 - 特許庁 - Then, an approximate curve (the inherent contour line of a shape indicated by the embroidery pattern) of a curve connecting the contour points is computed for every block (S103).
続いて、各ブロック毎に各輪郭点を結ぶ曲線の近似曲線（刺繍模様が表す形象本来の輪郭線）を算出する（Ｓ１０３）。 - 特許庁 - According to this orchid leaf cutter, the orchid leaf end can be cut with a desired curved shape, and the end pattern of the orchid leaf can be formed by one operation.
蘭葉カッターによれば、蘭葉末端を所定の曲線形状できれいに切断可能で、かつ、一回の操作で蘭葉の末端もようを形成できる。 - 特許庁 - A shape of the chip is made anisotropic, or a ruled line and a mark are formed on the chip, so as to decide the direction of the diffraction grating pattern direction by an appearance of the chip.
チップの外観によって回折格子パターン方向が判定できるように、チップの形状を異方性にしたり、罫書きやマークをチップに形成した。 - 特許庁 - To obtain a fine pattern having a proper shape, by preventing an acid generator contained in a resist from leaching in a liquid, in immersion lithography.
液浸リソグラフィにおいて、レジストに含まれる酸発生剤の液体への溶出を防止して良好な形状を有する微細パターンを得られるようにする。 - 特許庁 - To provide a molding method which enables the manufacture of a molded product having a three-dimensional shape and a concave-convex pattern on the surface.
三次元的な形状と表面の凹凸模様を有する成形品を製造することが可能な熱成形用積層シートの成形方法を提供する。 - 特許庁 - The object display control part sets, for example, a display color, a pattern or a shape of the object corresponding to the distance from the optional position on the route to the guide point.
オブジェクト表示制御部は、例えば、経路上の任意の位置から案内点までの距離に応じてオブジェクトの表示色、模様、形状を設定する。 - 特許庁
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