「shape pattern」を含む例文一覧(3752)

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  • To provide a vehicle headlight device configured to form a predetermined light pattern for forming the light distribution pattern in a desired pattern shape and luminance distribution even when a semiconductor light emitting element is used as a light source.
    所定の配光パターンを形成するように構成された車両用前照灯において、その光源として半導体発光素子を用いた場合においても、所望するパターン形状および光度分布で配光パターンを形成可能とする。 - 特許庁
  • After the grain tone pattern 11 adheres to the surface of the undercoating layer 15, the undercoating layer 15 is exposed by stripping off the masking material, resulting in forming the N-shape pattern 13 on some part of the grain tone pattern 11 by the exposed portion of the undercoating layer 15.
    木目調模様11がアンダーコート層15の表面に接着した後、マスク部材を剥ぎ取ってアンダーコート層15を露出させ、このアンダーコート層15が露出した部分により木目調模様11の一部にN字模様13を形成する。 - 特許庁
  • When the substrate, on which a pattern is drawn, is deformed in a complex manner of causing a second deformed substrate 46, a pattern drawing region of originally square shape turns into a second deformed pattern drawing region 47, which is a quadrangle formed by first to fourth alignment marks M_1-M_4.
    パターンを描画する基板が複雑に変形して第2変形基板46が生じると、本来正方形であるべきパターンの描画領域は、第1〜第4アライメントマークM_1〜M_4を結んだ四角形である第2変形描画領域47となる。 - 特許庁
  • To provide a positive type resist composition which gives a photoresist forming a pattern of a rectangular shape and ensures low edge roughness of a line pattern in the production of a semiconductor device and ensures a small dimensional shift in pattern transfer to a lower layer in an oxygen plasma etching step.
    半導体デバイスの製造において、矩形形状のパターンを形成するフォトレジストを与え、ラインパターンのエッジラフネスが少なく、酸素プラズマエッチング工程での下層へのパターン転写の際に寸法シフトが小さいポジ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁
  • A slit 10 is formed along the formation direction of a signal pattern 4 formed at a time when the shape of the signal pattern 4 formed on a signal layer 1 is projected on a grounding layer 3, and it is formed in an opening width (w) which is narrower than the width W of the signal pattern 4.
    スリット10を、信号層1に形成されている信号パターン4の形状をグランド層3に投影したときの信号パターン4の形成方向に沿い、かつ信号パターン4の幅Wよりも狭い開口幅wに形成する。 - 特許庁
  • The headlight device can easily form a low beam light distribution pattern, which is a synthesized pattern of light distribution patterns from the three kinds of lighting units, in the desired pattern shape and luminance distribution.
    これにより、これら3種類の灯具ユニットからの光照射により形成される配光パターンの合成配光パターンとして得られるロービーム用配光パターンを、所望するパターン形状および光度分布で形成することを容易に可能とする。 - 特許庁
  • By using this method, asymmetry in the edge shape of the resist patterning-formed second layer pattern 12 is moderated, which enables a highly accurate measurement of the overlap accuracy calculated by sensing the edge positions of the first layer pattern 11 and the second layer pattern 12.
    これにより、レジストパターンで形成される第2層パターン12のエッジ形状の非対称性が緩和され、第1層パターン11と第2層パターン12のエッジ位置を検出して算出する重ね合わせ精度を高精度に測定できる。 - 特許庁
  • As a result, the visual recognition of the thermally sprayed pattern coating film layer in the shape of the pattern through the thermally sprayed transparent film layer is made possible and the thermally sprayed pattern coating film layer is covered by the thermally sprayed transparent film layer formed by thermal spraying in a similar manner and is thus protected.
    これにより、溶射透明フィルム層を通してパターンの形状の溶射パターン塗膜層を視認できるようになり、そして、その溶射パターン塗膜層が同様に溶射によって形成された溶射透明フィルム層で覆われて保護される。 - 特許庁
  • When a half cut (b) having a shape of the second pattern is superimposed on the film (a) having the first pattern formed thereon, deviation between the first and second patterns is detected, and based on the deviation, film tension at the time of half cutting of the second pattern is corrected.
    第1パターンが形成されたフィルム(a)に、第2パターンの形状のハーフカット(b)を重ねる場合において、第1パターンと第2パターンのずれを検出し、ずれに基づいて、第2パターンのハーフカット時のフィルム張力に補正を加える構成とする。 - 特許庁
  • By forming four corner parts 150 of a barrier rib pattern 109 into an arc-like shape, a jump-up phenomenon due to thermal contraction of a barrier rib material at each corner part 150 of the rib pattern 109 is eliminated in the baking process after forming the rib pattern 109.
    隔壁パターン109の4隅のコーナー部150を円弧状とし、隔壁パターン109形成後の焼成において、隔壁パターン109のコーナー部150において隔壁材料の熱収縮による跳ね上がり現象を無くす。 - 特許庁
  • To provide a method of manufacturing a ceramic laminate capable of eliminating a step caused by the thickness of a functional conductor pattern by forming a shape retaining pattern around the functional conductor pattern and effectively degassing a molded laminate.
    機能導体パターンの周囲に形状保持パターンを形成して機能導体パターンの厚みによる段差をなくすことができるとともに、積層成形体中の脱気を効果的に行うことができるセラミック積層体の製法を提供する。 - 特許庁
  • The shape of a leather drawing pattern 114 imitating natural leather is applied on the surface of the resin molding, and an uneven drawing pattern 116 which is fine and smooth as compared with the leather drawing pattern 114 is applied from above it.
    この樹脂成形品は、表面に天然の皮を模した皮絞パターン114の形状が施されており、更にその上からその皮絞パターン114に比べて微細で且つ滑らかな凹凸の絞パターン116を施したことを特徴とする。 - 特許庁
  • To provide an array antenna device which uses an inter-element connection compensating device to compensate distortion of an element pattern resulting from interconnection between elements of an antenna, and has an element pattern with no distortion by using parasitic elements to shape the element pattern.
    素子間結合補償装置を用いてアンテナの素子間相互結合に起因する素子パターンの歪みを補償するとともに、無給電素子を用いて素子パターンを整形して、歪みのない素子パターンを有するアレーアンテナ装置を提供する。 - 特許庁
  • In the pattern drawing device, pattern groups (Ga1 and Ga2, Gb1 and Gb2, Gc1 and Gc2, and Gd1 and Gd2) having the same shape and substitutable each other are included in eight pattern groups Ga1 to Gd2 formed on the mask M.
    このパターン描画装置では、マスクM上に形成された8組のパターン群Ga1〜Gd2の中に、同一の形状を有して互いに代替可能なパターン群(Ga1とGa2,Gb1とGb2,Gc1とGc2,Gd1とGd2)が含まれている。 - 特許庁
  • To provide a pattern forming method by which formation of a surface hardly-solubilized layer is prevented without reducing the thickness of a resist layer, a resist pattern shape and dimensional accuracy are improved, and throughput is not lowered, with respect to a pattern forming method using a chemically amplified resist.
    化学増幅型レジストを用いたパターン形成方法において、レジスト層を膜減りさせずに表面難溶化層の形成を防止し、レジストパターン形状及び寸法制度を向上させ、スループットを低下させないパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
  • To provide a method and a device for measuring a surface shape which measures the surface shape of a work with abrupt shape changes such as a step without being affected by a pattern or pollution of the work itself.
    本発明は、被測定物自体の模様や汚れに左右されずに段差等の急激な形状変化が存在する被測定物の表面形状を測定できる表面形状測定方法及びその装置を提供することを目的とする。 - 特許庁
  • A character aperture 101 of an opening shape corresponding to a character shape extracted from a pattern of a standard cell for use in a design of a semiconductor device is disposed in an aperture block 100, and each character aperture 101 is disposed corresponding to a shape.
    半導体デバイスの設計で用いられるスタンダード・セルのパターンから抽出されたキャラクタ形状に応じた開口形状のキャラクタアパーチャ101がアパーチャブロック100に配置され、各キャラクタアパーチャ101は形状に応じて配置されている。 - 特許庁
  • To provide a hand pattern switch device capable of easily and certainly detecting movement of a palm or finger shape of an operator.
    操作者の手指形状や掌の動きを簡易に、しかも確実に検出することのできるハンドパターンスイッチ装置を提供する。 - 特許庁
  • A plurality of cavity parts 12a, 12b arranged in more than one shape pattern are provided for each nozzle opening 11a, 11b.
    各ノズル開口11a、11bには、2以上の形状パターンで構成された複数のキャビティ部12a、12bが隣接して設けられる。 - 特許庁
  • To provide a positive type radiation-sensitive composition having simultaneously superior characteristics, with respect to sensitivity, resolution, pattern section shape, etc.
    感度、解像度、パターン断面形状などについて同時に優れた特性を有するポジ型感放射線性組成物を提供すること。 - 特許庁
  • To provide a three-dimensional shape measuring apparatus capable of acquiring deformation pattern images of satisfactory contrast in all regions of an object to be measured.
    測定対象物の全ての領域でコントラストのよい変形パターン画像を取得できる3次元形状測定装置を提供する。 - 特許庁
  • To provide a photoresist composition which improves the shape of a resist pattern, that is, rectangularity and line edge roughness while retaining high resolution.
    高解像性は維持しつつ、レジストパターンの形状、すなわち、矩形性およびラインエッジラフネスを改善したホトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁
  • The outline of the globe is formed into a quadrangular shape, and a fold-like pattern 24 is formed in the vicinity of the central part of each side of the quadrangle.
    前記グローブの輪郭形状を四角形とし、前記四角形の各辺の中央部付近にひだ状模様24を形成する。 - 特許庁
  • To provide a radiation sensitive resin composition excellent particularly in pattern shape as a chemical amplification type resist and excellent also in sensitivity, resolution, etc.
    化学増幅型レジストとして、特にパターン形状に優れ、かつ感度、解像度等にも優れた放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁
  • The periphery holding ring opens and closes a cap body using a pattern shape of a circle, a polygon or a petal or the like easily.
    外周把持リングは、円形状、多角形状又は花びら等の模様形状のものを用いるキャップ本体を開封・閉封しやすい。 - 特許庁
  • To provide a resist composition which enables to form a pattern having a superior shape and proper focus margin.
    優れた形状及び良好なフォーカスマージンを有するパターンを形成することができるレジスト組成物を提供することを目的とする。 - 特許庁
  • To provide a resin for a resist composition capable of preparing a resist pattern having an excellent line edge roughness and an excellent top shape.
    優れたラインエッジラフネス及び優れたトップ形状を有するレジストパターンを得ることができるレジスト組成物用の樹脂を提供する。 - 特許庁
  • To easily and accurately perform OPC even when a pattern formed on a substrate is a complicated two-dimensional shape having a corner part.
    基板上に形成するパターンが角部分を有する複雑な2次元形状である場合でも、OPCを容易且つ正確に行う。 - 特許庁
  • The luster adjusting resin layer can either be of a uniform thickness or can be partially formed in an uneven thickness in a pattern shape to represent an uneven surface design.
    艶調整樹脂層は均一厚さでも良いが、模様状に部分的に形成すれば表面凹凸意匠も表現できる。 - 特許庁
  • This template is characterized in that a flexible plate is provided integrally on one side of a flexible plate having a network pattern of any shape.
    任意の形状の網目状模様を有する可撓性の板状の片面に、可撓性を有する板体を一体に設けてなる、型板。 - 特許庁
  • To provide a halftone mask that facilitates process shape control during etching and to provide a method of manufacturing a pattern substrate using the mask.
    エッチングの際の加工形状制御が容易となるハーフトーンマスク及びこれを用いたパターン基板の製造方法を提供すること - 特許庁
  • To provide a resin molded product having a precisely formed grain pattern in a stripe shape; and to provide a method for producing the molded product.
    縞状の木目模様を確実に形成することができる樹脂成形品及び樹脂成形品の製造方法を提供する。 - 特許庁
  • WAVEFORM ANALYZER, COMPUTER-EXECUTABLE WAVEFORM ANALYSIS PROGRAM, INTERFEROMETER DEVICE, PATTERN PROJECTION SHAPE MEASURING DEVICE AND WAVEFORM ANALYSIS METHOD
    波形解析装置、コンピュータ実行可能な波形解析プログラム、干渉計装置、パターン投影形状測定装置、及び波形解析方法 - 特許庁
  • To extend a transmissivity control range without miniaturizing a grating pattern in an exposure mask for exposing a three-dimensional shape.
    3次元形状を露光するための露光用マスクにおいて、グレーティングパターンの微細化を伴うことなく、透過率制御範囲を拡大する。 - 特許庁
  • Then the shape of the resist pattern is transferred into an intermediate glass layer 5 by etching, and the recesses are filled with a UV-curing resin having a high refractive index.
    その後、エッチングを行って、中間ガラス層5にレジストパターンを形状転写し、凹部を高屈折率の紫外線硬化樹脂で埋める。 - 特許庁
  • Image data for generating forgery prevention pattern are fetched (step S1) and the image data are divided into blocks in the same shape (step S2).
    偽造防止パターンを作成する画像データを取り込み(ステップS1)、その画像データを同一形状のブロックに分割する(ステップS2)。 - 特許庁
  • The stapler can be adapted to drive staples into tissue having a pattern conforming with the selected shape of the end effector.
    ステープラーは、エンドエフェクターの選択された形状と一致するパターンを有するステープルを組織に打ち込むように構成されていることがある。 - 特許庁
  • A fourth mask layer is formed on the first mask layer, and the first mask layer is formed in a line pattern shape with the fourth mask layer as a mask.
    第1マスク層上に第4マスク層を形成し、第4マスク層をマスクにして第1マスク層をラインパターン形状に成形する。 - 特許庁
  • The main spray E and the diffusion spray F are sprayed at the same time to form a spray pattern in a cross shape on the whole.
    この主噴射Eと拡散噴射Fが同時に噴射されることにより全体的に十字形状の噴霧パターンが形成される。 - 特許庁
  • To provide a display device freely and easily changing shape, pattern, color etc. without restricting a region to be displayed.
    表示される領域を限定することなく、自由に形状や模様、色等を容易に変化させることが可能な表示装置を提供する。 - 特許庁
  • In the bonding material formation step S1, the bonding material is formed to have a predetermined shape pattern in a mounting region of a component.
    接合用材料形成工程S1では、部品の実装領域に、接合用材料を、所定の形状パターンでもって形成する。 - 特許庁
  • A part of a metal pattern 100 is buried in a mold material 24, and a T-shape structure is exposed on the lower surface (backside).
    モールド材24中に、金属パターン100の一部が埋め込まれており、下面(裏面)ではこの十字型の構造が露出している。 - 特許庁
  • Then, a threshold of a dither matrix is set so that the highest threshold is arranged in the shape of the detected blank pattern (S210).
    そして、最も高いしきい値が、検出した空白パターンの形に配置されるようにディザマトリクスのしきい値を設定する(S210)。 - 特許庁
  • A Ti film 101 of a pattern in which a square is arranged in a shape of a triangular lattice is formed on a substrate 100 consisting of SiO_2.
    SiO_2 からなる基板100上に、正方形が三角格子状に配列されたパターンのTi膜101を形成した。 - 特許庁
  • To rapidly inspect shape defects in a minute pattern on a magnetic recording medium, formed from patterned media, that is an object of inspection.
    被検査対象であるパターンドメディアからなる磁気記録媒体の微細なパターンの形状欠陥を高速で検査できるようにする。 - 特許庁
  • A silicon carbide substrate of (11-20) face is prepared and a mask material having a mask pattern of specified shape is formed on the silicon carbide substrate.
    (11−20)面の炭化珪素基板を用意し、炭化珪素基板の上に所定形状のマスクパターンを有するマスク材を形成する。 - 特許庁
  • Moreover, a recess 11C in a shape concaved inside is formed in the rear surface of the electric conductive pattern 11 exposed from the sealing resin 13.
    更に、封止樹脂13から露出する導電パターン11の裏面には、内部に窪む形状の凹部11Cが設けられている。 - 特許庁
  • A resist pattern 22 in required shape is formed on the cathode surface side of a silicon thermal oxide film 21a of an N--type semiconductor substrate 45 (S1a).
    まず、n^-型半導体基板45のシリコン熱酸化膜21aのカソード面側に所望のパターンのレジスト22を設ける(S1a)。 - 特許庁
  • To prevent a resist film from softening by a liquid used for liquid immersion lithography and to obtain a finer pattern having a good shape.
    液浸リソグラフィに用いる液体によるレジスト膜の軟化を防止して、良好な形状を有する微細化パターンを得られるようにする。 - 特許庁
  • The Jobosei-type city was built in a symmetrical and square shape and streets were organized so that the Oji (jo) streets that ran south to north and the Oji (bo) streets that ran east to west were arranged in a grit pattern.
    南北の大路(条)と東西の大路(坊)を碁盤の目状に組み合わせた左右対称で方形の都市プランである。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
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