「surface processing」を含む例文一覧(7705)
＜前へ 1 2 .... 127 128 129 130 131 132 133 134 135 .... 154 155 次へ＞- An image pattern 4 is printed in a decoration processing on a base sheet 1 which is made into a stretched sheet comprising a resin mix of a polylactic acid resin hard segment and a polycaprolactone polymer soft segment, a non stretched surface protection layer 7 comprising the same resin as the base sheet 1 is laminated on it, and a concavo-convex pattern is formed on the surface protection layer 7 by embossing.
ポリ乳酸系樹脂をハードセグメントとし、これにソフトセグメントとなるポリカプロラクトンの重合体を混合してなる樹脂からなる延伸シート化した基材シート１に、装飾処理として絵柄を印刷４し、その上に基材シート１と同じ樹脂からなる無延伸の表面保護層７を積層し、その表面保護層７にエンボス加工により凹凸模様を形成する。 - 特許庁 - A member with an optical laminated sheet is manufactured by a method including a step of providing an adhesive agent layer 20 prepared by a adhesive agent composition including (meth)acrylic polymer with a cyclic ether group on a member surface which generates or guides light, and a step of sticking the surface with irregularities of an optical film 10 obtained by treatment and processing for imparting irregularities on the adhesive agent layer.
発光もしくは導光する部材表面に、環状エーテル基を有する（メタ）アクリル系ポリマーを含有する粘接着剤組成物から調製される粘接着剤層２０を設ける工程；および該粘接着剤層に凹凸の加工処理を施してなる光学フィルム１０の凹凸面を貼りあわせる工程、を含む方法により、光学積層シート付部材を製造する。 - 特許庁 - To provide an image forming apparatus and image processing method, wherein it has a small influence on an image even if both preliminary discharge onto a paper surface and electronic watermark embedding are simultaneously executed, to thereby have a small influence on an image quality.
紙面予備吐と、電子透かしの埋め込みとをともに実行しても、画像への影響を少なくすることができ、したがって、画像品質への影響を少なくすることができる画像形成装置及び画像処理方法を提供することを目的とする。 - 特許庁 - Because the load applied to the offset tool T can be suppressed; compared with a forming tool which cuts the wide region of the groove Da in the work D at one time, it is possible to enhance the durability of the offset tool T and improve the processing accuracy of the processed surface.
ワークＤの溝Ｄａの広い領域を一度に切削する総形工具に比べてオフセット工具Ｔが受ける荷重を低く抑えることができるので、オフセット工具Ｔの耐久性を高めるとともに加工面の仕上げ精度を高めることができる。 - 特許庁 - Next, the printing density is restored to the normal density in order to print image data other than the image data related to the watermark in the second printing (ST5), and the image data is superposed and printed on the watermark printing surface of the recording paper (ST6), then printing processing is finished.
次いで、第２回目の印字でウォーターマークに係る画像データ以外の画像データを印字するために印字濃度を通常濃度に戻し（ＳＴ５）、その画像データを記録紙のウォーターマーク印字面上に重ねて印字し（ＳＴ６）、当該印字処理を終了する。 - 特許庁 - To provide a vacuum treating apparatus for diffusing reaction gas across the whole surface of a substrate to be treated with uniform distribution by easily and quickly adjusting and controlling the feeding of reaction gas at the changing of the dimensions or processing condition of the substrate to be treated.
被処理基板の寸法や処理条件などの変更に際しても反応ガスの供給を容易、且つ迅速に調節制御して、被処理基板の表面全体にわたり反応ガスを均等な分布で分散させることのできる真空処理装置を提供する。 - 特許庁 - To provide an image reading apparatus inexpensively by generating read image data subjected to image conversion processing applied to each of surface and backside images in real time in conformity with the relationship between the front side image and the rear side image of a double-side original.
画像読み取り装置において、両面原稿の表面画像と裏面画像との関係性に対応して、両面それぞれに対して画像変換処理が施された読み取り画像データをリアルタイムに生成するとともに、画像読み取り装置を安価に提供する。 - 特許庁 - The road surface μ estimating part 100 of the central processing device (CPU) 21 of the control device 20 sets a right side steering evaluation function ratio αr and a left side steering evaluation function ratio αl based on a steer angle θ, a vehicle speed V, steer torque Th, and a motor current Im.
制御装置２０の中央処理装置（ＣＰＵ）２１の路面μ推定部１００は、操舵角θ、車速Ｖ、操舵トルクＴｈ、モータ電流Ｉｍに基づいて右操舵評価関数比αｒ、左操舵評価関数比αｌを設定する。 - 特許庁 - The display controller switches display conditions for the plurality of kinds of parallax images according to a switch-over of viewpoint position around the objects displayed on the display surface and controls the image processing system so as to display the plurality of kinds of parallax images in a superimposed manner.
表示制御部は、前記表示面上に表示された前記対象物の周囲における視点位置の切り替えに応じて、前記複数種類の視差画像群の表示条件を切り替え、該複数種類の視差画像群を重畳表示するように制御する。 - 特許庁 - The antenna freeder circuit is provided with a Si group substrate 1, high frequency semiconductor integrated circuits 2, 3 and a digital integrated circuit 4 that are formed integrally inside or on the surface of the Si group substrate 1, a system processing integrated circuit 11 and a dielectric multi-layer board 24.
アンテナ給電回路はＳｉ系基板１と、Ｓｉ系基板１内部あるいは表面に一体に形成された高周波半導体集積回路２，３およびデジタル集積回路４と、システム化集積回路１１と、誘電体多層基板２４とを備えている。 - 特許庁 - To provide a method of judging the state of a road surface continuously day and night without the need for installing a new facility on a road by capturing a video image obtained from a visual camera and applying an image processing to a bit map image acquired from the video image and to provide an apparatus therefor.
可視カメラから得られる映像を取り込み、この映像より取得したビットマップ画像を画像処理することにより、道路上に新たな設備を追加することなく、昼夜間連続で路面の状態を判断する方法とその装置を提供すること。 - 特許庁 - To provide a tile easily divisible in the desired size without particularly requiring a cutting tool, by facilitating processing of the tile stuck to a tail end part such as a corner part and the window member periphery, when advancing tile laying construction by adhering the tile to a construction object surface.
タイルを被施工面に接着してタイル張り施工を進める際、コーナー部や窓部材周辺等の終端部に貼り付けるタイルの加工を容易にし、切断のための工具を特に必要とせず、容易に所望の大きさに分割可能なタイルを提供する。 - 特許庁 - The ferromagnetic layer of which at least the surface is in an amorphous state is formed, and then the barrier layer of a magnesium oxide having a single crystalline structure wherein (001) planes are aligned in parallel with the interface throughout layers is formed by sputtering, and furthermore annealing processing is performed.
少なくとも表面がアモルファス状態である強磁性層を成膜した後、スパッタリング法を用いて、全層にわたって（００１）面が界面に平行に配向した単結晶構造の酸化マグネシウムのバリア層を成膜し、更にアニーリング処理を行う。 - 特許庁 - To provide a paper processing device and a finisher capable of increasing the area of a top surface part of the devices used for the work for placing and aligning paper sheets and preventing degradation of the checkability and visibility of discharged paper sheets on a paper discharge unit or a proof tray, and an image forming device using these devices.
紙置きや紙揃えの作業に使用できる装置天面部の面積を広げ、しかも排紙部やプルーフトレイ上の排紙の確認性、視認性を落とすことが無い紙処理装置やフィニッシャー、そしてこれを用いた画像形成装置を提供する。 - 特許庁 - A space WU immediately above a processing tank 4 is enclosed with a lower surface of an upper lid part 71, first to fourth shielding side boards 72a to 72d of a tube part 72, a dry air supply opening 621 of a dry air supply duct 62 and an exhaust opening 631 of a dry air exhaust duct 63.
処理槽４の直上の空間ＷＵが、上蓋部７１の下面、筒部７２の第１〜第４の遮断側板７２ａ〜７２ｄ、ドライエア供給ダクト６２のドライエア供給口６２１およびドライエア排気ダクト６３の排気口６３１により取り囲まれる。 - 特許庁 - To provide technology for forming a large reformed layer with a large aspect ratio and a processing part into an inside or a surface of a material without causing restriction of a femtosecond laser device, enlarging an optical system, and having restriction of a depth position into the inside of the material.
フェムト秒レーザ装置の制約が発生したり光学系が大型化したりすることなく、また材料内部への深さ位置の制約なく、アスペクト比の大きな改質層や加工部を材料内部または表面に加工する技術を提供する。 - 特許庁 - A thickness-directional shape of a base material of the mask substrate is controlled by processing a surface of the base material of the mask substrate so that variance in gap between the mask substrate and a work is reduced corresponding to the gravitational flexure of the mask substrate held by the mask holder.
マスクホルダーに保持されたマスク基板の自重に起因する撓みに対応して、マスク基板、ワーク間のギャップのバラツキを少なくするように、マスク基板の基材に表面加工を施して、マスク基板の基材の厚み方向の形状を制御している。 - 特許庁 - To provide a support system for a vehicle for road surface processing which is suitable to provide a snowplow with information about its snow- throwing direction and snow-throwing interruption and to provide a scattering vehicle with information about an area where an antifreezing agent or a snow melting agent are scattered.
除雪車に対してその投雪方向や投雪中断に関する情報を提供したり、凍結防止剤あるいは融雪剤を散布する領域に関する情報を散布車に提供するのに適した路面処理用車両の支援システムを提供する。 - 特許庁 - The determination means 5 determines right or wrong in the processing quality (the quality of anodizing treatment) by detecting the change of the voltage between the first and second electrodes 3a, 3b to monitor the generation of spark to detect surface roughness due to the generation of the spark.
この判定手段５は、第１、第２電極３ａ、３ｂ間の電圧変動を検出することで、スパーク発生を監視して、スパーク発生による、表面荒れを検出して加工品質（アルマイト処理の品質）の良否判定を行うようにしたものである。 - 特許庁 - The signal processing part performs Fourier transformation to compute a transfer function H(f) using spectrum and cross spectrum, and further computes the propagation average speed V_r(f) of the surface wave and the thickness D(f) of the object part from the computed time difference Δt(f) and the space L.
信号処理部は、フーリエ変換を行ってスペクトル及びクロススペクトルを用いて伝達関数Ｈ（ｆ）を算出し、更に算出された時間差Δｔ（ｆ）と前記間隔Ｌより、表面波の伝播平均速度Ｖ_r （ｆ）と対象部位厚さＤ（ｆ）とを算出する。 - 特許庁 - The fitting member comprises the aluminum shape 1 as a base material or a material treated with an anodic oxide coating, the aluminum shape having on its paper-covered surface a coating layer made of a processing agent 3 obtained when a water-soluble emulsion composed chiefly of acrylic resin or urethane resin is mixed with magnesium carbonate of 5 to 20 pts.wt.
アクリル樹脂又はウレタン樹脂を主成分とした水溶性エマルションに、炭酸マグネシウム５〜20重量部を混合した処理剤３による皮膜層を、生地材またはアルマイト処理材であるアルミニウム形材１の紙貼り面に備えている建具材。 - 特許庁 - The fine processing is applied for forming a plurality of grooves to outer peripheral surface of the mold part 15 for molding the pocket in extending in an elongated state in parallel to each other, and for repeated forming fine linear recessed parts and linear protruded parts with a certain width to the inner surfaces of those grooves in an alternate stripe state.
微細加工は、ポケット成形用金型部１５の外周面に互いに平行に細長く延びている複数の溝と、これら溝の内面に、一定幅の微細な線状凹部及び線状凸部を交互に縞状に繰り返して形成した加工である。 - 特許庁 - By the combined action between the specific surface treatment film as a lower layer film and the upper layer film obtained by blending the rust preventive additive and the specific solid lubricant to the solvent based organic resin, particularly excellent corrosion resistance both in a flat plate and after processing and adhesion joinability can be achieved.
下層皮膜である特定の表面処理皮膜と、溶剤系有機樹脂に防錆添加剤と特定の固形潤滑剤を配合した上層皮膜との複合作用により、特に優れた平板および加工後の耐食性と接着接合性が得られる。 - 特許庁 - To provide a resist ashing method and a device, where a resist film that is loaded with a dopant and modified into an ashing retardant film is very efficiently removed by ashing without leaving any residues of the resist film, and corrosion or the like having an adverse effect on the surface of a wafer as an object of processing can be reduced to an irreducible minimum.
ドーパントの混入により変質し難灰化性となったレジスト膜を残渣を残すことなく高効率に灰化除去することが可能であり、その際に被処理物であるウェハ表面への悪影響となる腐食等を最低限に抑制する。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing a semiconductor device, where defects occur on the surface of a wafer before and after the water is subjected to processing are compared with each other, in a manner in which defects are assorted by kind, and the defects of the same kind are compared with each other so as enable precise discrimination of one from the other, in a process of manufacturing an LSI wafer.
ＬＳＩウェハの製造工程において、ウェハを処理する前と後とでウエハ上に発生した欠陥を種類毎に比較することにより、欠陥を的確に判別することができる半導体デバイスの製造方法を提供する - 特許庁 - The plasma processing device comprises a vacuum vessel 1 which has a substrate 14 arranged within it and plasma processes the substrate 14, and a dust-excluding electrode 31 arranged under the substrate 14 for forming a slant isoelectric surface over the substrate 14.
プラズマ処理装置は、内部に基板１４を配置して、基板１４に対するプラズマ処理を行なうための真空容器１と、傾斜する等電位面を基板１４の上方に形成するために基板１４の下側に配置されたダスト排除電極３１とを備える。 - 特許庁 - The antireflection film 11 has a non-periodical sponge-like microstructure with a complicated structure of a substance and vacancies formed on the surface of optical parts or optical element 12, and the non-periodical sponge-like microstructure is formed from the residue of plasma processing containing metal compounds.
反射防止膜11は、光学部品ないし光学素子12の表面に形成された物質と空隙の錯綜した非周期的な海綿状微細構造を有し、非周期的海綿状微細構造が金属化合物を含むプラズマ加工残渣物から形成されている。 - 特許庁 - When Li^+ and Na^+ existing in the vicinity of the surface of the glass substrate 11 are contained in the processing liquid 14, Li^+ and Na^+ is ionically exchanged for monovalent metal ions having larger ionic radius than that of Li^+ or Na^+, thereby the glass substrate 11 is chemically strengthened.
そして、ガラス基板１１中の表面近傍に存在するＬｉ^+及びＮａ^+が、化学強化処理液１４に含有され、Ｌｉ^+又はＮａ^+よりもイオン半径の大きい一価の金属イオンにイオン交換され、ガラス基板１１は化学強化処理される。 - 特許庁 - To provide a preparation process of a thermoplastic resin composition containing a polyphenylene ether and a polyamide which has an improved thermal stability at processing and practical use and maintains high flowing properties, ability to inhibit bleeding on the surface of molded parts, etc.
加工時及び実使用時の熱安定性を向上し、流動性、成形品表面へのブリードの発生の防止性能等を高水準に維持したポリフェニレンエーテルとポリアミドを含有する熱可塑性樹脂組成物の製造方法熱可塑性樹脂組成物の製造方法。 - 特許庁 - Then, the hydrogen annealing processing is performed under the atmosphere that the partial pressure of hydrogen is 1000 ppm-100% at the pressure of 10 mTorr to 760 Torr at the temperature of 950 to 1050°C for 1 to 10 minutes, and the trench corner is rounded by the surface diffusion action of silicon atoms.
つづいて、水素の分圧が１０００ｐｐｍ〜１００％の雰囲気中で、１０ｍTorr〜７６０Torrの圧力で、９５０〜１０５０℃の温度で１〜１０分間の水素アニール処理をおこない、シリコン原子の表面拡散作用により、トレンチコーナー部を丸める。 - 特許庁 - To provide a component mounted substrate on which functional components are easily mounted and assembled and which is advantageously in cost reduction, and can avoid damage in a forming stage for ground electrodes and have surface property suitable to soldering processing for the functional components.
機能部品の実装、組立作業が容易で、コストダウンを図るのに有効で、グランド電極の形成工程におけるダメージを回避することができ、また、機能部品のはんだ付処理などに適した表面性を有する部品搭載基板を提供すること。 - 特許庁 - In the method of processing resin film, the surface of resin film is processed with plasma under the existence of at least a kind or more kinds of gases selected from oxygen, nitrogen, purfluoromethane, trifuluoromethane, carbon dioxide and hexafluorosulfide, after the curing of the resin film under the nitrogen atmosphere.
樹脂膜を窒素雰囲気下でキュアした後、酸素、窒素、パーフルオロメタン、トリフルオロメタン、二酸化炭素およびヘキサフルオロ硫黄の中から選ばれる少なくとも１種以上のガスの存在下で該樹脂膜表面をプラズマ処理することを特徴とする樹脂膜の処理方法。 - 特許庁 - The laser cutting apparatus is furnished with the processing part 2 that forms the cracks on the surface of the workpiece 5 by performing the heating by irradiation of the laser beam 7a and the cooling, the illuminating apparatus 3 that illuminates the cracks and the camera 4 that photographs the illuminated cracks.
レーザ割断装置において、レーザビーム７ａの照射による加熱と冷却とを行って被加工物５の表面に亀裂を形成する加工部２と、亀裂を照明する照明装置３と、照明された亀裂を撮影するカメラ４と、を備える。 - 特許庁 - To provide a low-reflectance processing method of a silicon substrate for solar cells and a silicon substrate for solar cells capable of reducing the reflective index by stably forming fine unevenness on the surface of the silicon substrate of a single crystal or polycrystal used for solar cells.
太陽電池に使用する単結晶又は多結晶のシリコン基板の表面に微細な凹凸を安定して形成して反射率を低減することが可能な太陽電池用シリコン基板の低反射率加工方法及び太陽電池用シリコン基板を提供する。 - 特許庁 - To provide an ion implantation device capable of maintaining good implantation uniformity in the wafer surface without deteriorating wafer processing capacity, even when the ion beam condition is changed, and generation of particles can be reduced as much as possible.
本発明は、イオンビームの状態が変化した場合でも、ウェーハ処理能力を低下させずにウェーハ面内の注入均一性を良い状態に保つことができ、かつパーティクル発生を極力低減できるイオン注入装置を提供することを目的とする。 - 特許庁 - To achieve an antistatic adhesive sheet that not only securely protects a surface of a semiconductor wafer without giving bad effect thereto but also maintains antistatic characteristics even if the antistatic status is changed in response to the semiconductor wafer processing.
半導体ウエハに対して悪影響を及ぼすことなしに半導体ウエハの表面を確実に保護するとともに、半導体ウエハの加工に応じて状態が変化する場合においても優れた帯電防止性能を維持できる帯電防止性粘着シートを実現する。 - 特許庁 - To provide a mounting method for an electronic component and a mounting device therefor which solves various problems of a conventional mounting methods by deformation of bump electrodes, a solid phase diffusion method by ultrasonic vibration, and a surface activation processing method by energy wave irradiation.
従来の突起電極の変形による実装方法、超音波振動による固相拡散方法、エネルギ波照射による表面活性化処理方法が抱えていた種々の問題を解決できる電子部品の実装方法およびその実装装置を提供する。 - 特許庁 - The drum maintenance system for use in an imaging device includes a reservoir which supplies a release agent, and an applicator which is configured to receive the release agent from the reservoir and apply the release agent to the intermediate transfer surface of the imaging device that moves in a processing direction.
画像形成装置に使用するためのドラムメンテナンスシステムは、剥離剤を供給するリザーバと、リザーバからの剥離剤を受け取り、剥離剤を、処理方向に移動する画像形成装置の中間転写表面に塗布するように構成されるアプリケータとを備える。 - 特許庁 - To provide a substrate mounting table of a substrate processing apparatus preventing a consumption of an adhesive layer and a damage to a surface of a base due to arcing (abnormal discharge) caused by penetration of a plasma without increasing the number of parts and assembly man-hours.
部品点数及び組立工数の増加を伴うことなく、プラズマの進入に起因する、接着剤層の消耗及び基部表面におけるアーキング（異常放電）による損傷を防止することができる基板処理装置の基板載置台を提供する。 - 特許庁 - When air at predetermined temperature is blown onto a film surface 3a while conveying a band-shaped film 3 in the longitudinal direction while holding its width directional ends orthogonal to the longitudinal direction, a plurality of zones for processing the film 3 are provided.
帯状のフィルム３の長手方向に直交する幅方向の両端を保持した状態でフィルム３を長手方向に搬送させながら、所定の温度の空気をフィルム面３ａに吹き付けることによってフィルム３を処理する複数のゾーンを備える。 - 特許庁 - The stationary article is a display or the like obtained by internally performing laser processing to the transparent or translucent material such as crystal glass, which has a blacked or dark-colored reverse side, and inclined side surfaces and a top surface which are formed to extend from the reverse side to the front.
クリスタルガラス等の透明或は半透明材料内部にレーザー加工を施したディスプレイ等で、裏面を黒色或は暗色にして、裏面から正面に向かって広がるように形成された傾斜した側面及び天面を持つことを特徴とする置物。 - 特許庁 - To provide an ion beam irradiation device capable of uniformly irradiating ion beams to the whole surface of a large-scaled substrate and restraining upsizing of an ion beam supply device and upsizing of a processing chamber while making a dimension of the ion beam smaller than a dimension of the substrate.
大型の基板に対してもその全面に均一性良くイオンビーム照射を行うことができ、しかもイオンビーム寸法を基板寸法よりも小さくしてイオンビーム供給装置の大型化、処理室の大型化等を抑えることができるようにする。 - 特許庁 - In the method, a modified layer 11 is formed on the surface of a transparent resin substrate 2 by an oxidation processing, and a resin-metal composite layer 3 in which catalyst metal particles are dispersed and adsorbed in the modified layer 11 by applying the catalyst metal particles to the modified layer 11.
透明樹脂基体２の表面に酸化処理をして改質層１１を形成し、その改質層１１に触媒金属粒子を付与して、改質層１１に触媒金属粒子が分散して吸着された樹脂−金属コンポジット層３を形成する。 - 特許庁 - Alternatively, when further performing an electrolytic plating process for forming a conductive metal layer 6 on the surface of the conductive composition layer by electrolytic plating so that the conductor pattern layer includes the conductive composition layer and the conductive metal layer, the electrolytic plating processing is performed after the cutting process.
或いは更に導電性組成物層の表面に電解めっきで導電性金属層６を形成し導電体パターン層が導電性組成物層と導電性金属層を含む層とする電解めっき工程を行うときは、裁断工程の後に行う。 - 特許庁 - To provide a method for processing a thermoplastic resin sheet capable of forming a prescribed pattern such as letters on the surface of the thermoplastic resin sheet in a prominent and high decorative manner without peeling off or which vanishing even when being used for a long term.
長期間使用しても剥げたり消えたりすることがなく、且つ目立ち易く装飾性の高い態様で熱可塑性樹脂シートの表面に文字等の所定の図柄を形成することのできることが可能な熱可塑性樹脂シートの加工方法を提供する。 - 特許庁 - When a crack reaching the surface processing indentation 11a and the internal crack 12c is formed in a process for dicing the silicon substrate 10 into element chips 10a by an external force, detection of a separated/unseparated part and redicing of a unseparated part are performed for the element chip.
外力によってシリコン基板１０を素子チップに分割する割断工程で、表面加工痕１１ａと内部亀裂１２ｃとに至る亀裂を形成する際に、素子チップ１０ａについての分離／未分離部分の検出、未分離部分の再割断を行う。 - 特許庁 - In a plasma processing chamber 152 of a reactor 150, plasma exposed surfaces of a plasma confinement ring (not shown), chamber wall 172, a chamber liner (not shown) and/or showerhead 154 can be provided with a plasma sprayed coating 160 with surface roughness characteristics that promote polymer adhesion.
反応器１５０のプラズマ処理チャンバ１５２において、プラズマ閉じ込めリング（不図示）、チャンバ壁１７２、チャンバライナ（不図示）及び／又はシャワーヘッド１５４のプラズマ露出面は、ポリマーの付着を促進する表面粗さ特性を持つプラズマ溶射された被膜１６０を備え得る。 - 特許庁 - Thereby, as the surface of the orientation film 15 draws gently-sloping inclination at the parts where the spacers present, the uniform orientation treatment of the whole parts including the parts where the spacers are present can be carried out in a process for performing orientation processing to the orientation film 15.
これにより、配向膜１５の表面がスペーサ２１が存在する箇所においてなだらかな傾斜を描くので、配向膜１５に配向処理を行う工程において、スペーサ２１が存在する部分を含めて全体に均一に配向処理を行うことができる。 - 特許庁 - The processing apparatus using a rotating drum is provided with a transmission mechanism on a peripheral wall surface around the rotary axis of the rotating drum so as to transmit the driving power of a motor to the transmission mechanism to rotate the rotating drum in the treatment liquid tank.
本発明では、上記した課題を解決するため、回転ドラムを用いた処理装置で、回転ドラムの回転軸周りの周壁面上に伝達機構を設け、該伝達機構にモータの駆動力を伝達して、回転ドラムを処理液槽内で回転させることとした。 - 特許庁 - The controller 90 adjusts the angles of inclination of the squeegees SQ1 and SQ2 with respect to the upper surface of the metal mask MK, the moving speeds of the squeegees SQ1 and SQ2 and the pressing forces of the squeegees SQ1 and SQ2 to the metal mask MK by program processing.
この評価に基づいて、コントローラ９０は、プログラム処理により、メタルマスクＭＫの上面に対するスキージＳＱ１，ＳＱ２の傾斜角、スキージＳＱ１，ＳＱ２の移動速度、メタルマスクＭＫに対するスキージＳＱ１、ＳＱ２の押し付け力などを調整する。 - 特許庁
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