「surface processing」を含む例文一覧(7705)
＜前へ 1 2 .... 130 131 132 133 134 135 136 137 138 .... 154 155 次へ＞- To provide a method of processing a lithographic printing plate precursor and an automatic developing device for the same, keeping residual liquid developer for developing the lithographic printing plate precursor in a small quantity and constant, and manufacturing the lithographic printing plate precursor of a fixed quality without sticky touch on the plate surface.
平版印刷版原版の現像処理の残存現像液が少なく一定に保たれ、版面べとつきのない一定品質の平版印刷版を生産することができる平版印刷版の処理方法及び平版印刷版の自動現像機を提供する。 - 特許庁 - This method comprises a first process where three semiconductor substrates 1 or less are introduced into a processing chamber 3, a second process where the semiconductor substrates 1 are heated up to a prescribed temperature, and a third process where a natural oxide film formed on the surface of the semiconductor substrate 1 is completely removed in a hydrogen atmosphere.
３枚以下の半導体基板１を処理室３に設置する工程と、半導体基板１を所定の温度に加熱する工程と、所定の温度の水素雰囲気中で半導体基板１の表面の自然酸化膜を除去する工程とを含む。 - 特許庁 - By changing the amount of the current to be supplied to the discharge wire 32 based on the processing speed of the image carrier 12, the produced amount of the discharge product is changed, and the situation that the discharge product adheres to the surface of the image carrier 12 is suppressed.
そこで、像担持体１２のプロセススピードに基づいて放電ワイヤー３２へ供給する電流量を変更することで、放電生成物の生成量を変えることができ、放電生成物が像担持体１２の表面に付着するのを抑制することができる。 - 特許庁 - To provide a conductive member which does not cause defective charging due to surface defects of a cover layer even when a body to be charged is subjected to charging processing by applying only a direct voltage to the conductive member, and to provide a production method and a production apparatus of the conductive member.
導電性部材に直流電圧のみを印加して被帯電体の帯電処理を行った場合でも、被覆層表面欠陥に起因した帯電不良が発生しない導電性部材とその製造方法及び製造装置を提供する。 - 特許庁 - Each ultrasonic wave probes, 16, 17a, and 17b is connected each to an ultrasonic wave sender receiver, 18, 19a, and 19b, and the each ultrasonic wave sender receiver 18, 19a, and 19b is connected to a data processing/calculating unit 20, and constitutes a multilayer liquid surface measuring unit 10.
各超音波探触子１６，１７ａ，１７ｂは、超音波送受信器１８，１９ａ，１９ｂにそれぞれ接続され、各超音波送受信器１８，１９ａ，１９ｂをデータ処理・演算装置２０に接続して多層液面測定装置１０を構成する。 - 特許庁 - When the substrate W to be processed reaches a substrate processing position P3, a circumferential edge on the lower surface of the substrate W engages with a supporting pin 3 and when the substrate floating head 71 is lowered furthermore, the substrate W to be processed is delivered to the supporting pin 3 and mounted thereon.
そして、未処理基板Ｗが基板処理位置Ｐ３に達すると基板Ｗの下面周縁部は支持ピン３と係合して、さらに基板浮上ヘッド７１が降下されることで支持ピン３に未処理基板Ｗが受け渡されて支持ピン３に載置される。 - 特許庁 - This ball is equipped with accelerometers (18) capable of detecting a displacement force on the ball as a result of a strike exerted on the ball, pressure sensors (19) capable of detecting a pressure force exerted on the surface of the ball, and a processing module (16).
このボールは、前記ボールに加えられた打撃の結果としてのボール上の変位力を検出することができる加速度計（１８）と、ボールの表面に加えられた圧力による力を検出することができる圧力センサ（１９）と、処理モジュール（１６）とを備える。 - 特許庁 - This method includes the steps of: forming a magnetic layer 12 made of a cobalt containing maghemite thin film on a substrate 11; executing corona discharge processing for the surface of the magnetic layer 12; and forming a lubricant layer 13 by coating a lubricant on the magnetic layer 12.
基体１１上にコバルト含有マグヘマイト薄膜からなる磁性層１２を形成する工程と、該磁性層１２表面にコロナ放電処理を行う工程と、前記磁性層１２上に潤滑剤を塗布して潤滑剤層１３を形成する工程とを備える。 - 特許庁 - An omnidirectional camera is used and a texture image of an object to be taken such as the building is retrieved considering parameters including position information of the camera for processing a silhouette region acquired by projecting a retrieved spatial model to acquire the surface texture of the object.
全方位カメラを使用した上で、カメラの位置情報を含むパラメータを考慮して、建物などの対象物体のテクスチャ画像を検索し、検索された空間モデルを投影して取得したシルエット領域を処理して、対象物体表面のテクスチャを得る。 - 特許庁 - To that end, after the recording sheet is ejected from the fixing part 10, it is carried a distance L>;v×t when it is assumed that the time taken until the surface temperature of the recording sheet attained just after fixing processing reaches the glass transition point temperature of the toner is (t) and the moving (carrying) speed of the recording sheet is (v).
このため、定着部１０から排出後、それぞれ、記録シートの定着処理直後の表面温度がトナーのガラス転移点温度に到達するまでの時間をｔ、記録シートの移動（搬送）速度をｖとするとき、距離Ｌ>ｖ×ｔを搬送させる。 - 特許庁 - To provide a surface discharge type plasma display panel requiring no expensive vacuum processing device when forming a protective layer to cover a dielectric layer, having capability to substantially shortening an aging process after a panel is sealed, and having remarkably improved productivity and production costs.
誘電体層を被覆する保護層の形成に際して高価な真空プロセス装置を必要とせず、パネル封着後のエージング工程を大幅に短縮することができ、生産性とコストが著しく改善された面放電型プラズマディスプレイパネルを提供すること。 - 特許庁 - To cap a layer on a surface of a copper interconnect wiring layer for use in interconnect structures for integrated circuits and to provide a method and apparatus for forming improved integration interconnection structures for integrated circuits by the application of gas-cluster ion-beam processing.
ガスクラスターイオンビーム処理プロセスの適用により、集積回路の相互接続構造に使用される、銅の相互接続配線層の表面上で、層をキャップ化する、改良された集積相互接続、集積回路の構造を形成する方法ならびに機器である。 - 特許庁 - To provide a water-based coolant capable of surely preventing occurrence of a trouble such as discoloration or roughening of a workpiece surface after processing even if the workpiece of interest has a large-sized or complicated shape; and to provide a method of cutting a metal.
対象となる被加工物が大型ものや複雑な形状を有したものの場合においても加工後の被加工物表面に変色や荒れなどのトラブル発生を確実に防止することが可能な水系クーラントおよび金属の切削加工方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide a resin-coated metal sheet for a food can which is highly corrosion-resistant and free from the generation of defects in a resin applied to the inner surface side of the can made of the resin-coated metal sheet printed before fabrication, during molding or retort-processing, and a method for manufacturing the resin-coated metal sheet for the food can.
加工前印刷された樹脂被覆金属板の缶内面側に被覆された樹脂が成形加工時やレトルト処理時に欠陥を生じることなく、耐食性に優れる食缶用樹脂被覆金属板とその製造方法を提供する。 - 特許庁 - The microfabricating method for inverting and transferring the uneven pattern of the substrate to a product to be processed by pressing the substrate to the surface of the product to be processed has a process of determining the conditions for processing by pressing the substrate to the product to be processed.
原版を被加工物の表面に押し付けることにより、該被加工物に前記原板の凹凸のパターンを反転させて転写する微細加工方法は、前記被加工物に前記原版を押し付けることにより加工のための条件を決定する工程を有する。 - 特許庁 - To provide a workpiece moving device and a moving method capable of coping even with the different floor surface height in a processing line and an assembling line, capable of largely reducing workers, capable of safely carrying-in and carrying-out, and capable of standardizing unsteady work such as when a defective product is caused.
加工ライン、組立ラインにおける異なる床面高さにも対応でき、作業者の大幅削減を可能とし、安全に搬入搬出が行えて、不良品発生時などの不定常作業の標準化が可能なワーク移動装置及び移動方法の提案。 - 特許庁 - This polishing method polishes the optical element molding metal mold 10 by generating a load between a polishing tool 1f forming a shape of a sphere or a part of the sphere and a processing surface 10a of the optical element molding metal mold 10 contacting with the polishing tool 1f.
球体または球体の一部の形状をした研磨工具１ｆと、研磨工具１ｆが接する光学素子成形用金型１０の加工面１０ａとの間に、荷重を発生させて光学素子成形用金型１０を研磨する研磨方法に関する。 - 特許庁 - Then, processing for shifting the phase of the complex amplitude of the pixel data by predetermined quantity is performed with respect to the pixel data corresponding to the passing position of direct light of the specific region of the pupil surface in the respective pixel data of the second group (S4) to form a third data group.
そして、第２データ群の各ピクセルデータのうち、瞳面における特定領域の（直接光の通過位置に対応する）ピクセルデータに対し、該ピクセルデータの複素振幅の位相を所定量だけシフトさせる処理を行い（Ｓ４）、第３データ群を生成する。 - 特許庁 - To provide a processing aid improving processability of an unvulcanized rubber composition by suppressing viscosity increase, and causing no property decrease in a vulcanized rubber, wherein the unvulcanized rubber composition is compounded with an inorganic filler having surface active group such as silica, and to provide a rubber composition containing the aid.
シリカ等の表面活性基をもった無機充填剤を配合した未加硫ゴム組成物の粘度上昇を抑制することによって加工性を改善し、かつ加硫ゴムの物性に悪影響を与えない加工助剤とそれを含むゴム組成物の提供。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method of a hybrid multilayer circuit board where a burr is not made during processing of through-holes, and the surface of a copper foil of an outer layer material in the case of stacking is protected from sticking of a foreign matter in the manufacturing method of the hybrid multilayer circuit board.
混成多層回路基板の製造方法において、スルーホールの加工時にバリやかえりを生ぜず、また積層時の外層材料の銅箔表面に異物が付着しないように保護する混成多層回路基板の製造方法を提供すること。 - 特許庁 - Chucking the finished outer periphery 14 at the processing basis of the finished outer periphery 14, a bore for a tooth surface of the spline hole 6 is finished from the spline hole corresponding section 6A, and the raceway 3 is finished from the raceway corresponding section 3A.
仕上げられた外周面１４を加工基準とするべくチャッキングし、外周面１４に対するチャッキングを付け替えることなく、スプライン穴相当部６Ａからスプライン穴６の歯面内径部を仕上げると共に軌道面相当部３Ａから軌道面３を仕上げる。 - 特許庁 - To transfer characters and patterns gilted with lustrous gold or silver or foiled or the like to adherends such as flowers arranged in a vase having curved faces and complicated figures with soft and fragile front surface, flower material, which is obtained by processing the flowers arranged in the vase so as to keep the figures of flower over a long period of time (preserved flowers), dried flowers and the like.
曲面や複雑な形状を有し表面が柔らかく壊れやすい、生花、及び生花を加工し長期間花姿を保つ花材（プリザーブドフラワー）、ドライフラワーなどの被着体に、光沢のある金色、銀色、箔などの文字や絵柄を転写する。 - 特許庁 - This processing method for the highly nutritive rice comprises sending raw material rice fully soaked in water to a centrifugal extractor 4, removing water and rice bran from rice grain surface, mixing the animal and vegetable nutritive powder, the vegetable nutritive liquid and the vegetable oil with the raw material rice, stirring the product with a stirrer 5 to stick them to each other.
水に十分浸漬された原料米を遠心脱水機４へ送り、米粒表面の水分及び糠成分を除去し、この原料米に動植物の栄養粉末、植物性栄養液及び植物油を混合して攪拌機５で攪拌、付着させる。 - 特許庁 - The beam processing apparatus includes: a gas floating mechanism 10 that emits gas to support the substrate so as to float in a flat position; and a beam irradiating means 50 that processes the layer to be processed 3, formed on one surface of the substrate 2, while irradiating the same with a beam.
気体を噴出することにより基板を平らに浮かせた状態に支持する気体浮上機構１０と、基板２の一方の面に形成された被加工層３にビームを照射し、被加工層３を加工するビーム照射手段５０とを備える。 - 特許庁 - To provide an image processing method and device for obtaining accurate luminance distribution at the time of changing the direction of a light to be butted to an object by setting conditions such as the reflecting characteristics of the surface of the object or the kind of a light source, and estimating the direction of a light.
物体表面の反射特性や光源の種類等の条件を設定し、光の方向を推定することで、物体に当たる光の方向を変化させたときの正確な輝度分布を得ることが可能な画像処理方法および装置を提供する。 - 特許庁 - To provide both a method and an apparatus for processing a raw meat, capable of thickening a protein denaturation layer on the surface of the raw meat and keeping shape retentivity by effectively utilizing heating characteristics of Joule heating and microwave heating, respectively.
ジュール加熱とマイクロ波加熱の各加熱特性を有効に利用することにより、成形された原料食肉類の表面の蛋白変成層を厚くして保形力を高めることができる原料食肉類の成形方法及びその成形装置を提供する。 - 特許庁 - The processing box is heated under a vacuum to vaporize the metal vaporized material, vaporized metal atoms are stuck on a sintered magnet surface, and the stuck metal atoms are diffused to grain boundaries and/or a grain boundary phase of the sintered magnet.
そして、真空中にて処理箱を加熱して金属蒸発材料を蒸発させ、蒸発した金属原子を焼結磁石表面に付着させ、前記付着した金属原子を焼結磁石の結晶粒界及び／または結晶粒界相に拡散させる。 - 特許庁 - To provide an image forming apparatus capable of fast processing without contamination in a primary apparatus body by preventing toner from leaking from a cleaner housing by forcibly moving toner cloud in timing where a cleaner blade and a seal slide in contact with a carrier surface.
担持体表面にクリーナブレードやシールが摺接するタイミングにトナークラウドを強制的に移動させることにより、クリーナハウジングからトナーが漏れてしまうことを制限して、装置本体内の汚染なく高速処理可能な画像形成装置を提供すること。 - 特許庁 - To provide an image forming apparatus capable of fast processing without contamination in a primary apparatus body by preventing toner from leaking from a cleaner housing by forcibly moving toner cloud in timing where a cleaner blade and a seal separate from a carrier surface.
担持体表面からクリーナブレードやシールが離間などするタイミングにトナークラウドを強制的に移動させることにより、クリーナハウジングからトナーが漏れてしまうことを制限して、装置本体内の汚染なく高速処理可能な画像形成装置を提供すること。 - 特許庁 - To provide an antireflection film forming method and a substrate processing apparatus capable of suppressing a pattern collapse by enhancing the adhesion between the antireflection film formed on a substrate and the resist film formed on the surface thereof, without impairing various characteristics of the antireflection film.
反射防止膜の諸特性を損なうことなく、基板上に形成される反射防止膜と、この表面に形成されるレジスト膜との密着性を高めて、パターン倒壊を抑制することができる反射防止膜形成方法および基板処理装置を提供する。 - 特許庁 - The plasma-discharge generator has anode electrodes containing a plurality of rod-shaped electrodes 2b extended in a striped shape in the parallel direction with the processing surface of the substrate to be processed 4 and plate-shaped cathode electrodes 2a arranged at intervals at places opposed to the anode electrodes.
プラズマ放電発生部は、被処理基板４の処理面と平行な方向にストライプ状に延びる複数の棒状電極部２ｂを含むアノード電極と、アノード電極と対向する位置に間隔をあけて配置されたプレート状のカソード電極２ａとを有する。 - 特許庁 - The semiconductor substrate manufacturing method comprises forming the SiGe film on the substrate having a silicon layer on its surface, forming a mask pattern having grating-shaped grooves on the SiGe film, injecting ions to the substrate through the mask pattern, and then performing heat processing.
表面にシリコン層を有する基板上に、ＳｉＧｅ膜を形成し、該ＳｉＧｅ膜上に格子状の溝を有するマスクパターンを形成し、該マスクパターンをとおして基板にイオン注入し、熱処理を行う半導体基板の製造方法が提供される。 - 特許庁 - Thereby, the ion exchange of a lithium ion and a sodium ion which exist in the vicinity of the surface of the glass substrate 23, and the potassium ion having larger ionic radius than that of the lithium ion and sodium ion in the processing liquid 14, and chemical strengthening is carried out.
これにより、ガラス基板２３中の表面近傍に存在するリチウムイオン及びナトリウムイオンと、化学強化処理液１４中のリチウムイオン及びナトリウムイオンよりもイオン半径の大きいカリウムイオンとがイオン交換されて化学強化処理が行われる。 - 特許庁 - The method for producing the carbon nano-structures comprises growing carbon crystal from the crystal growth surface of a catalyst base material containing a catalyst material, and in the method, the catalyst base material is formed by diameter reduction processing.
触媒材料を含む触媒基材の結晶成長面から気相成長によってカーボン結晶を成長させるカーボンナノ構造体の製造方法であって、触媒基材が縮径加工により形成されるカーボンナノ構造体の製造方法に関する。 - 特許庁 - When a detection object in a specimen is detected by an immuno-chromatography method, a reagent composition for immuno-chromatography containing a nonionic surface active agent, an N,N-bis(2-hydroxyethyl)glycine buffer and casein is used as specimen processing liquid or developer.
イムノクロマトグラフィー法により検体中の検出対象物を検出する際に、非イオン界面活性剤、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）グリシン緩衝剤およびカゼインを含むイムノクロマトグラフィー用試薬組成物を、検体処理液または展開液として用いる。 - 特許庁 - To solve the problem on a photoresist coater and a method for processing a semiconductor substrate employing it that the surface of the semiconductor substrate is exposed by stripping liquid and roughened when photoresist is stripped because the semiconductor substrate is coated directly with photoresist.
フォトレジスト塗布装置およびそれを用いた半導体基板の処理方法においては、半導体基板上に直接フォトレジストを塗布するため、フォトレジストを剥離する際に、剥離液によって半導体基板の表面がむき出しになり荒らされるといった問題を有する。 - 特許庁 - The SOI substrate is heat-treated at a temperature of 600-1,250°C, and gettering is performed to metal impurities accidentally mixed into the interface of the SOI film and quartz substrate and into the SOI film in the process of plasma processing, or the like to the surface region of the silicon film 12.
次にこのＳＯＩ基板を６００℃〜１２５０℃の温度で熱処理し、プラズマ処理等の工程においてＳＯＩ膜／石英基板界面およびＳＯＩ膜中に偶発的に混入した金属不純物をシリコン膜１２の表面領域にゲッタリングする。 - 特許庁 - The three-dimensional image processing device univocally defines reference spheres BOL, BOR, BPL and BPR matching the surface shapes of the orbit and the external auditory meatus, and extracts fixed points Ps1, Psr, Psl' and Psr' corresponding to respective anatomical characteristic points by using the reference spheres BOL, BOR, BPL and BPR.
３次元画像処理装置は、眼窩および外耳道のそれぞれの表面形状に合った各基準球ＢＯＬ，ＢＯＲ，ＢＰＬ，ＢＰＲを一義的に定義し、同各基準球ＢＯＬ，ＢＯＲ，ＢＰＬ，ＢＰＲを用いて、解剖学的な特徴点にそれぞれ対応する定点Ｐｓｌ，Ｐｓｒ，Ｐｓｌ’，Ｐｓｒ’を抽出する。 - 特許庁 - In the housing 2 of the wafer processing apparatus 1, a plating-liquid supply means 19 that supplies plating liquid to a surface of the wafer W, a slurry supply means 20 that supplies slurry, and a cleaning liquid supply means 21 that supplies cleaning liquid, are installed.
さらに、ウエハ処理装置１のハウジング２には、ウエハＷの被メッキ面にメッキ液を供給するメッキ液供給手段１９と、スラリを供給するスラリ供給手段２０と、洗浄液を供給する洗浄液供給手段２１とが配設されている。 - 特許庁 - To provide a mold release polyester film for hot press molding suitable as a film for processing, capable of reducing the stainability of a circuit portion and the surface of a circuit during hot press molding, especially during production of the flexible printed circuit board (FPC) and capable of providing mold releasability.
熱プレス成型時、特にフレキシブルプリント配線板（ＦＰＣ）製造時の回路部、回路表面の汚染性を低下させることができ、十分な離型性を付与することのできる工程用フィルムとして好適な熱プレス成型用離型ポリエステルフィルムを提供する。 - 特許庁 - A plurality of detection areas which are formed on different positions at least in the vertical direction are set on an imaging surface of a solid state imaging device and an AF detection processing circuit 20 extracts a high frequency component of each detection area from an image signal obtained by image.
固体撮像素子の撮像面上に少なくとも垂直方向に対する位置の異なる複数の検波領域が設定され、ＡＦ検波処理回路２０は、撮像により得られた画像信号から検波領域ごとに高周波成分を抽出する。 - 特許庁 - A hardened layer 11 is formed by forming a carburized quenched layer by induction hardening in oil, in a surface hardened layer of a sliding part without performing finishing processing after the induction hardening of at least any one of the outside joint member and the inside joint member.
外側継手部材および内側継手部材の少なくともどちらか一方の高周波焼入れ後の仕上げ加工を行わない摺動部位の表面硬化層に油中での高周波焼入れにて浸炭焼入れ層を形成した硬化層１１とした。 - 特許庁 - In order to improve the uniformity of the projection size in the substrate top surface, an exposure quantity E is set to 1 to 3 times as large as the complete dissolution exposure quantity E0 (exposure quantity for eliminating the thickness of a resist after development) of a positive type photoresist in development processing.
基板表面内の突起寸法の均一性を向上させるため、露光量Ｅは、現像処理時のポジ型フォトレジストの完全溶解露光量Ｅ０（現像後のレジストの厚みがなくなる露光量）の１倍より大きく３倍未満に設定される。 - 特許庁 - To provide a program capable of enhancing visual effects, while expressing determination of the optimal arrangement position of an effect object in a pseudo manner, expressing the appearance that light of the sun, and the like, shines on the water surface, using a simple processing, within a game space, such as action game.
アクションゲーム等のゲーム空間内で、水面に太陽等の光が差し込む様子を擬似的に表現した効果オブジェクトの最適な配置位置の決定を簡易な処理で表現しつつ、視覚的な効果を向上させることができるプログラムを提供する。 - 特許庁 - It is preferable that the change of the tapping holes is performed according to the molten iron surface position of the molten iron layer 11 varied with the processing of the wearing of internal refractory in the furnace under condition that the mass of the molten iron layer 11 held in the furnace is kept in a fixed range.
前記タップホールの切り替えは、炉内に保持される溶鉄層１１の質量を一定の範囲に維持する条件下において、炉内張り耐火物の損耗の進行に伴って変化する溶鉄層１１の湯面位置に応じて行うのが好ましい。 - 特許庁 - The substrate processing apparatus comprises a substrate holder 22 for retaining the substrate W; and dry gas supply sections 32, 36 for setting an atmosphere in which at least one portion of the surface of the substrate W retained by a substrate holder 22 is exposed to a dry gas atmosphere whose moisture is controlled.
本発明の基板処理装置は、基板Ｗを保持する基板ホルダ２２と、基板ホルダ２２で保持した基板Ｗの表面の少なくとも一部が曝される雰囲気を、湿度が制御されたドライガス雰囲気にするドライガス供給部３２，３６とを有する。 - 特許庁 - To provide a laminated structure being good in surface flatness and appearance, large in an inter-layer peeling strength and capable of carrying out an after processing such as co-drawing or the like without occurring an inter layer peeling and a phase difference film made by uni-axially stretching the structure.
本発明は、表面平滑性と外観が良好であり、層間剥離強度が大きく、層間剥離を起こすことなく共延伸などの後加工が可能な積層構造体及び該積層構造体を一軸延伸してなる位相差フィルムを提供する。 - 特許庁 - The controller 40 for the game machines has a circuit board 113 on which an image control CPU 114, adapted to carry out the processing related to the games with the seal display on the rear side of the core part, is mounted with the seal display facing the surface side.
遊技に関連する処理を行い、コア部分の裏側に捺印表示が施されている画像制御ＣＰＵ１１４を捺印表示が表側を向くようにして実装した回路基板１１３を有する遊技機用制御装置４０が以下の構成を有する。 - 特許庁 - Even when the size of the first and second photodiodes PD31 and PD32 is reduced and the size in the passing direction of the light beam is reduced on the light receiving surface, an output pulse having a width not causing any trouble in signal processing in the post-stage circuit can be obtained.
これにより、第１および第２フォトダイオードＰＤ３１，ＰＤ３２を小型化してその受光面における光ビームの通過方向のサイズが小さくなった場合でも、後段回路での信号処理に支障を来たさない幅の出力パルスが得られる。 - 特許庁 - Then, the laser device 3 and the condensing lens 5 are moved to the outside in the diametric direction of the ingot 1 at a predetermined speed while rotating a turntable 2, on which the ingot 1 is placed, in a direction α to move the focus point of the laser beam on a processing surface in a whirled state.
そして、インゴット１を載置しているターンテーブル２をα方向に回転させながらレーザー装置３および集光レンズ５を、インゴット１の径方向外方に所定の速度で移動させて、レーザー光の集光点を、加工面上を渦巻き状に移動させる。 - 特許庁
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