「surface processing」を含む例文一覧(7705)
＜前へ 1 2 .... 131 132 133 134 135 136 137 138 139 .... 154 155 次へ＞- A processing device is composed of a substrate holding table 95 holding a substrate 90, a polishing head 30 which holds a polishing tool 50 mounted with a polishing pad 60, and a mechanism which moves the surface of the substrate 90 and the polishing pad 60 relatively and keeps them in contact with each other.
基板９０を保持する基板保持テーブル９５と、研磨パッド６０が取り付けられた研磨工具５０を保持する研磨ヘッド３０と、基板表面と研磨パッドとを接触させながら相対移動させる機構とを有して加工装置が構成される。 - 特許庁 - To provide a rotary member capable of surely preventing relative sliding in a core body and a peripheral edge part in a circumferential direction without providing any processing in the outer peripheral wall surface of the core body even when it is used for a long period under harsh conditions.
芯体の外周壁面に何等の加工を施すことなく、たとえ過酷な条件下で長期間使用されたとしても、芯体と周縁部とに円周方向の相対スベリが生しるのを確実に防止することができる回転部材を提供する。 - 特許庁 - In the semiconductor device, a wiring layer 25A having the largest film thickness is disposed on a lower layer of a fourth insulating layer 26 subjected to planarization processing, thus greatly relieving a step by the wiring layer 25A on the surface of the fourth insulating layer 26.
本発明の半導体装置では、最も膜厚が厚くなる配線層２５Ａが、平坦化処理の施される第４の絶縁層２６の下層に配置されることで、第４の絶縁層２６表面には、配線層２５Ａによる段差が大幅に緩和される。 - 特許庁 - To provide a method for forming an involute serration in a hollow shaft with which the involute serration onto the outer peripheral surface of the hollow shaft can be formed with a press-processing while holding the dimensional precision and the improvement of the productivity and the reduction of the producing cost can be obtained.
寸法精度を維持しながら、プレス加工による中空シャフト外周面へのインボリュートセレーションの成形を可能にして、生産性の向上と製作コストの削減とを図ることができる、中空シャフトにおけるインボリュートセレーションの成形方法を提供する。 - 特許庁 - High degree of alignment is obtained by combining primary alignment, which is induced by carrying out casting application of a coating liquid containing the lyotropic liquid crystal compound in one direction, and secondary alignment, which is induced by carrying out rubbing processing of a surface of a coating film thereafter.
リオトロピック液晶化合物を含むコーティング液を一方向に流延塗布することによって誘起される一次配向と、その後塗膜の表面をラビング処理することによって誘起される二次配向を組み合わせることにより高い配向度が得られる。 - 特許庁 - To provide a low-shrinkage polyester yarn for the production of a cloth having excellent processability in advanced processing, bulkiness, softness and resilience as well as excellent beautifulness of the cloth surface and wearing comfortability such as light weight and heat-retaining property.
高次加工工程での工程通過性に優れ、ふくらみ感、ソフト感、反発感に優れ、しかも布帛表面審美性に優れ、さらに軽量性、保温性といった着用快適性にも優れた布帛を形成するための低収縮ポリエステル糸を提供する。 - 特許庁 - The plush fabric having a three-dimensional pattern is obtained by partially attaching and solidifying a resin solution to the surface of a base fabric by a printing operation, applying a plush-forming processing to the treated base fabric to partially form the plush in parts except resin-printed parts, and then dyeing the fabric to form the three-dimensional pattern.
あるいは、な染操作により基布の表面に部分的に樹脂溶液を付着して固化させた後、立毛加工を行って樹脂をな染した部分以外の部分に立毛を形成し、染色仕上げを施して立体的柄模様を形成させる。 - 特許庁 - The one-piece molding body comprises a room temperature cure type liquid silicone containing acetic acid; and a thermoplastic polyurethane elastomer film (TPU film) in which the adhesion with a different material is possible by heating compression bonding, and mirror processing is performed to a surface to which the liquid silicone is made to adhere.
酢酸含有の室温硬化型液状シリコーンと、加熱圧着により異素材との接着が可能であって、前記液状シリコーンが接着せしめられる面がミラー加工されている熱可塑性ポリウレタンエラストマーフィルム（ＴＰＵフィルム）とからなる一体成形体。 - 特許庁 - The process basically includes a step for supporting a predetermined quantity of metallic seals at non-sealing surface locations with the metallic seals disposed in series on a conveyor having a predetermined processing path, and a step for continuously moving the seals in series through an electro-plating stage of the processing path to electro-deposit a metallic coating on the seals using a high current density and a high chemical flow rate.
本発明のめっき方法は、基本的に、所定数の金属シールを非シール表面位置で、金属シールが所定のプロセス経路を有するコンベアに直列に配置された状態で、支持するステップと、直列のシールを、高電流密度および高化学的フローレートを用いて金属コーティングをシール上に電着するプロセス経路の電気めっきステージを通して、連続的に移動させるステップと、を含む。 - 特許庁 - The method of incorporating the capacitor in a multilayer substrate comprises processes of: executing a roughening processing to at least one of the surfaces of metal foil which is a first conductor; forming a dielectric film by thermal spraying on the roughened surface of the first conductor to which the roughening processing is executed; forming a second conductor on the dielectric film and forming a capacitor part; and incorporating the capacitor in the substrate.
第１の導体である金属箔の表面を少なくとも片面に粗面化処理する工程と、前記粗面化処理した第１の導体の粗面化面上に溶射により誘電体膜を形成する工程と、前記誘電体膜上に、第２の導体を形成してコンデンサ部を形成する工程と、前記コンデンサを基板に内蔵する工程を有することを特徴とする多層基板のコンデンサ内蔵方法である。 - 特許庁 - The processing method for introducing a raw process gas inbetween a pair of electrodes, of which the opposing surface of at least one electrode is coated with a solid dielectric, and processing a substrate to be treated with the plasma provided by means of applying an electric field inbetween the electrodes, is characterized by introducing the raw process gas between the electrodes, through at least two flow-rate control units arranged in parallel.
少なくとも一方の電極対向面を固体誘電体で被覆した一対の電極間に原料処理ガスを導入し、電極間に電界を印加することにより得られるプラズマで被処理基材を処理する方法であって、原料処理ガスの電極間への導入を並列にした少なくとも２つの流量制御装置を介して行うことを特徴とする放電プラズマ処理方法及びその装置。 - 特許庁 - In the optical disk processing apparatus for continuously manufacturing recording medium products by automatically performing the processing of information recording, label surface printing or the like to a plurality of un-treated optical disks, optional erection of positioning members 14 or cylindrical members 16 for helping housing of the un-treated optical disks D on a base plate 13 to be a principal body of the stockers 10 and 11 is made possible.
未処理の複数の光ディスクに対して情報記録、ラベル面印刷などの処理作業を自動的に行うことにより記録メディア製品を連続して生産するようにした光ディスク処理装置であり、前記ディスクストッカ１０・１１の主体となるベースプレート１３に未処理の光ディスクＤの収容を補助する位置決め部材１４または柱状部材１６を任意に立設可能となるようにする。 - 特許庁 - Since defects present on both surfaces (a top and a reverse surface) of the substrate can be detected based upon scattered light received by first and second light reception means, presence positions of the defects on both the surfaces before and after the cleaning processing on the substrate are compared with each other respectively to easily determine whether the defects present on both the surfaces of the substrate are removed through the cleaning processing.
第１及び第２の受光手段に受光された散乱光に基づいて基板の両面（表面及び裏面）に存在する欠陥を検出することができるので、基板の洗浄加工の前後で両面の欠陥の存在位置をそれぞれ比較することによって、洗浄加工によって基板両面に存在していた欠陥が除去されたか否かを容易に判定することができる。 - 特許庁 - In one embodiment, a method for forming an intrinsic type microcrystalline silicon layer comprises: dynamically ramping up a silane gas supplied in a gas mixture to a surface of a substrate disposed in a processing chamber; dynamically ramping down an RF power applied in the gas mixture supplied to the processing chamber to form a plasma in the gas mixture; and forming an intrinsic type microcrystalline silicon layer on the substrate.
一実施形態では、真性微結晶シリコン層を形成する方法は、加工チャンバ内に配置された基板の表面へガス混合物中で供給されるシランガスを動的に増加させるステップと、加工チャンバへ供給されるガス混合物中で印加されるＲＦ電力を動的に減少させて、ガス混合物中でプラズマを形成するステップと、基板上に真性微結晶シリコン層を形成するステップとを含む。 - 特許庁 - The prepreg for buildup includes a low-solubility resin layer containing the base material in a low-solubility resin in a B stage which is low in solubility in chemicals during the desmear processing and a high-solubility resin layer provided on one surface of the low-solubility resin layer and composed of a high-solubility resin in the B stage relatively higher in solubility in the chemicals during the desmear processing than the low-solubility resin.
ビルドアップ用のプリプレグであって、デスミア処理時の薬品への溶解性が低いＢ−ステージの低溶解性樹脂に基材を含有する低溶解性樹脂層と、低溶解性樹脂層の片面に設けられ、低溶解性樹脂よりもデスミア処理時の薬品への溶解性が相対的に高いＢ−ステージの高溶解性樹脂からなる高溶解性樹脂層とを有することを特徴とする。 - 特許庁 - An electrode member 46 abutting against the lower surface of a work in a plasma processing apparatus performing plasma processing of a planar work is constituted by soldering a planar adsorption member 45 having a plurality of through holes 45a and a cooling plate 44.
板状のワークを対象としてプラズマ処理を行うプラズマ処理装置においてワークの下面に当接する電極部材４６を、複数の貫通孔４５ａが形成された板状の吸着部材４５と冷却プレート４４とをろう付けして構成し、吸着部材４５の上面にアルミナを溶射した溶射膜６５を形成するとともに、貫通孔４５ａが開口した孔部４５ｄのエッジを溶射膜６５によって覆うようにする。 - 特許庁 - The image processing means generates added image data including information of wavelengths and signal intensity by additionally processing the signals of respective wavelengths correspondingly to the incident positions on the detection surface, determines whether or not a defect exists on the pattern to be inspected based on the added image data, and when determining the existence of a defect, detects the position of the defect in a direction vertical to the substrate.
前記画像処理手段は、前記波長毎の信号を前記検出面の入射位置に対応付けて加算処理して波長および信号強度の情報を含む加算画像データを生成し、該加算画像データに基づいて検査対象のパターンにおける欠陥の有無を判定し、欠陥が有ると判定した場合に前記基体に垂直な方向における前記欠陥の位置を検出する。 - 特許庁 - In the manufacturing method of the anti-glaring antireflection film by imparting unevenness to the surface of a film having an antireflection layer by emboss processing using an embossing plate and a support member, the emboss processing is performed using the embossing plate on the back side opposite to the visual conforming side of the film and an elastic member on the side of the visual conforming side of the film as the support member.
凹凸板、支持部材を用いたエンボス加工によって、反射防止層を有するフィルムの表面に凹凸を付与する防眩性反射防止フィルムの製造方法において、前記エンボス加工は、凹凸板を、前記フィルムの視認側と反対の裏面側に、また、前記フィルムの視認側に、前記支持部材として弾性部材を用いたエンボス加工であることを特徴とする防眩性反射防止フィルムの製造方法。 - 特許庁 - The device has a first electrode arranged facing a specific surface of a specimen, a second electrode arranged facing the seal part of the specimen, a voltage impressing processing means for impressing alternating voltage between the first and the second electrodes, and a seal status detecting processing means for detecting the seal status based on the electric variable varying in either of the first and the second electrodes.
被検体の所定の面と対向させて配設された第１の電極と、被検体のシール部分と対向させて配設された第２の電極と、第１、第２の電極間に交流の電圧を印加する電圧印加処理手段と、電圧の印加に伴い、第１、第２の電極のうちのいずれか一方において変化する電気的変量に基づいて、シール状態を検出するシール状態検出処理手段とを有する。 - 特許庁 - To provide a food-processing method and a food-processing device in which oxidation of ingredients of the food is reduced by heating the food by condensation and heat transfer of water without requiring complicated pretreatment and continuously attaching condensed water to the food surface and keeping oxygen concentration of atmosphere in the circumference of the food in a lower state than the oxygen concentration in the air.
複雑な前処理などを必要とせず、食品を水の凝縮伝熱により加熱すると共に、食品表面に凝縮水を連続的に付着させて食品表面に凝縮水を連続的に付着させることにより当該食品周囲の雰囲気の酸素濃度を大気中に酸素濃度以下にして、当該食品内成分の酸化を少なくした食品加工方法およびその食品加工器を提供する。 - 特許庁 - A plasma processing device, which performs surface treatment for a workpiece sample by ionizing the raw gas inside a vacuum container with an evacuation means, a raw gas supply means, a processing sample installation means and a high frequency power application means to a workpiece sample, is constituted to control the temperature of a workpiece substrate to a temperature pattern which is preset according to proceeding of treatment.
排気手段と、原料ガス供給手段と、被加工試料設置手段と、被加工試料への高周波電力印加手段を有する真空容器内で、前記原料ガスをプラズマ化し、被加工試料の表面処理を行うプラズマ処理装置において、被処理基板の温度を処理の進行に従って予め設定された温度パターンに制御するよう構成したことを特徴とするプラズマ処理装置。 - 特許庁 - Since an antistatic function is obtained by electrostatic plantation processing for the surface of the base member 1a, the generation of static electricity is suppressed even if friction is caused between the placed record disk 2 and the mat by scratch performance operation or the like, the sticking of dust to the record disk 2 is suppressed.
ベース部材１ａ面への静電植毛処理により帯電防止機能が得られることから、スクラッチパフォーマンス操作等により、載置されたレコード盤２との間にたとえ摩擦が生じたとしても、静電気発生は抑制され、レコード盤２へのごみ付着は軽減される。 - 特許庁 - To provide droplet discharge apparatus or the like using a work processing apparatus capable of increasing or decreasing the diameter of the functional droplet landed on a work compared to that fixed by the liquid quantity of the functional droplet and the contact angle with the work surface.
ワークに着弾させた機能液滴の着弾径を、機能液滴の液量およびワーク表面との接触角によって決められる着弾径と比べて、大きくおよび／または小さくすることができるワーク処理装置を用いた液滴吐出方法等を提供することを課題とする。 - 特許庁 - For the configuration of the processing equipment, the local exhaust device 4 can relatively surface from a support base 2 by the injection of a gas for surfacing to the support base 2, and the gas for surfacing is injected through a restrictor ventilation means 13 provided inside the local exhaust device 4.
加工装置の構成を、局所排気装置４が、支持台２に対する浮上用ガスの噴射によって支持台２から相対的に浮上可能とされ、浮上用ガスの噴射が、局所排気装置４内に設けられた絞り通気手段１３を介してなされる構成とする。 - 特許庁 - Before the edge coating film 34 or an edge reinforcing protection film 35 is formed on the resonator edge faces 13, 14, the plasma processing is performed on the front surface of the nitride semiconductor laser bar 10 including at least the resonator edge faces 13, 14, through the use of nitride gas or the mixed gas of the nitride gas with noble gas.
共振器端面１３、１４上に端面コート膜３４または端面強化保護膜３５を形成する前に、少なくとも共振器端面１３、１４を含む窒化物半導体レーザバー１０の表面を窒素ガスまたは窒素ガスと希ガスの混合ガスによってプラズマ処理する。 - 特許庁 - The protecting layer 21 blocks the surface processing agent from contacting with moisture in the air, maintains the coating effect thereof (effect for bonding the metal material 11 and the resin 14), and can maintain the firm waterproofness for a long time in the bonding face 26 of the metal material 11 and the resin 14.
保護層２１が、表面処理剤の、大気中の水分との接触を遮断し、その塗布効果（金属材１１と樹脂１４とを固着させる効果）を保持させ、金属材１１と樹脂１４との接合面２６において強固な防水性を長期間保持可能とした。 - 特許庁 - Since reaction between the etching gas and the radical takes place on the surface of the substrate 15, and intermediate products of reaction between the etching gas and the radical react quickly on the etching object, the intermediate products are not discharged excessively from the processing chamber 12 and high etching efficiency is ensured.
また、エッチングガスとラジカルとの反応は基板１５表面で起こるため、エッチングガスとラジカルとの反応により生成される中間生成物は速やかにエッチング対象物と反応するため、中間生成物が過剰に処理室１２から排気されることなく、エッチング効率が高い。 - 特許庁 - Before developer is discharged onto an exposed resist film formed on a surface of the substrate W from a developer discharge nozzle 28, and the resist film is developed; solution comprising surfactant is discharged onto the resist film from a liquid discharge nozzle 30 as pre-wetting liquid, and a pre-wetting processing is performed.
現像液吐出ノズル２８から基板Ｗの表面に形成された露光後のレジスト膜上へ現像液を吐出してレジスト膜を現像処理する前に、液体吐出ノズル３０からプリウェット液として界面活性剤を含む溶液をレジスト膜上へ吐出してプリウェット処理する。 - 特許庁 - To provide a rotary compressor with high performance and reliability wherein lubricating oil is supplied to the contact portion between the vane and the outer peripheral surface of the eccentric roller without leading to increased processing cost while solving the problem of insufficient lubricating oil due to over supply of lubricating oil.
加工コストの上昇を招来することなくベーンと偏心ローラー外周面との接触部に潤滑油が供給され、且つ、潤滑油の供給過多による潤滑油不足の不都合が解消された、性能及び信頼性の高いロータリー圧縮機を提供する。 - 特許庁 - To provide a permanent protection hard mask for protecting the dielectric characteristics of a main dielectric layer that has undesired low permittivity of a semiconductor device due to undesired increase in permittivity, undesired increase in current leakage, and a low device yield caused by surface scratch, when a continuous treatment processing is conducted.
誘電率の不所望な増大による半導体デバイスの不所望な低誘電率，不所望な電流漏洩の増大，および連続処理工程の際の表面スクラッチによる低いデバイス歩留まりを有する主誘電体層の誘電体特性を保護する永久的保護ハードマスクを提供する。 - 特許庁 - An organic/inorganic composite processing layer including a carboxyl group containing resin, an oxazoline group base containing resin, and a hardened material of a resin composition containing basic phosphate compound is formed on a surface of a zinc-base plated steel plate, and a thermal fusion polyolefin resin layer is formed on it.
亜鉛系めっき鋼板の表面にカルボキシル基含有樹脂、オキサゾリン基含有樹脂および塩基性リン酸化合物を含有する樹脂組成物の硬化物からなる有機無機複合処理層を形成し、その上に熱融着性ポリオレフィン系樹脂層を形成する。 - 特許庁 - To provide a laminated polyester film capable of suppressing both of the defect of bright spots due to the surface precipitation of an oligomer at the time of heating processing and a rise in haze, more detailed, a laminated polyester film usable even in an optical use.
加熱加工時のオリゴマーの表面析出による輝点欠点とヘイズ上昇の両方を抑制する事のできる積層ポリエステルフィルムを提供することが課題であり、更に詳しくは、光学用途にも使用可能な積層ポリエステルフィルムを提供する事が課題である。 - 特許庁 - This manufacturing method includes a process of forming a dielectric film 5 including any of titanium, strontium, and barium as a constituent element on a substrate 1, a process of exposing the dielectric film 5 to the plasma of gas for etching including coloring, and a process of processing the plasma-exposed surface of the dielectric film 5 with oxidizing gas.
基板１上にチタン、ストロンチウム及びバリウムのいずれかを構成元素として含む誘電体膜５を形成する工程、この誘電体膜５を塩素を含むエッチング用ガスのプラズマに曝す工程、誘電体膜５のプラズマ暴露面を酸化性ガスで処理する工程、を備える。 - 特許庁 - In that case, in the range defined by a distance α, the correcting processing is applied to increase the opacity gradually from the operation start point, so that while imaging of the placenta 10 is avoided as much as possible, the surface of the embryo 12 can be displayed more clearly.
その場合において、距離αで定義される範囲においては演算開始点から徐々にオパシティが大きくなるように補正処理が適用されており、その結果、胎盤１０の画像化をできる限り回避しつつ胎児１２の表面をより明瞭に表示することが可能となる。 - 特許庁 - Since an insulation film containing hydrogenation polysiloxane is employed as the interlayer insulation film 103 and etching is carried out using etching gas containing at least fluorocarbon gas and oxidation based gas, such a structure as the deterioration layer 105 of hydrogenation polysiloxane on the processing surface is thick at the upper part and thin at the lower part is obtained.
水素化ポリシロキサンを含む絶縁膜を層間絶縁膜１０３として用い、エッチングガスとしてフロロカーボンガスと酸化系ガスを少なくとも含むエッチングにより加工するため、水素化ポリシロキサンの加工面での変質層１０５が上部で厚く、下部で薄い構造が得られる。 - 特許庁 - The coupling member 16 includes a mechanism for correcting the bending of the susceptor support shaft, so that a processing gas flow, between a susceptor ring and the susceptor, can be reduced in being disturbed by correcting the eccentricity and the inclination of the upper surface of the susceptor, and hence the planarity of an epitaxial film can be improved.
連結部材１６は、サセプタ支持軸の曲がりを補正する機構を有するため、サセプタ上面の偏芯と傾きを補正することで、サセプタリングとサセプタとの間での処理ガス流れの乱れを低減することができ、エピタキシャル膜の平坦度を向上させることができる。 - 特許庁 - A packing bag 11 for sealing up a several kinds of liquids is equipped with a base 12 and liquid housing parts 15, 16 provided at the surface and the reverse side of the base 12 for housing one of these several kinds of liquids in cavities which are formed by processing films 13, 14.
複数種類の液体を密閉封入する包装袋１１は、基材１２と、この基材１２の表裏面に設けられ、フィルム１３，１４を加工して形成される凹部に前記複数種類の液体のいずれかが収容される液体収容部１５、１６とを備えている。 - 特許庁 - There is provided an adhesive tape 100 for semiconductor wafer processing, which has adhesive force of less than 20 cN/25 mm when the adhesive tape is attached to a background surface of the semiconductor wafer within 1 min after the backgrinding and is then left for 14 days and is irradiated with light.
本発明に係る半導体ウエハ加工用粘着テープ１００では、半導体ウエハが、バックグラインド後１分以内に、バックグラインドされた面で貼り付けられた後１４日間放置されてから光が照射されたときの粘着力が、２０ｃＮ／２５ｍｍ未満である。 - 特許庁 - In this synthetic aperture radar loaded on a flying object and having an interferometric function, the altitude of an observation point is determined by interferometric processing, and a true antenna incident angle is determined by using the altitude information, to thereby correct an antenna gain, and to correct the antenna pattern by the change of the ground surface altitude.
飛翔体に搭載され、インターフェロメトリ機能を有した合成開口レーダーにおいて、インターフェロメトリ処理によって観測点の高度を求め、その高度情報を用いて真のアンテナ入射角を求めることで、アンテナゲインの補正を行って、地表面高度の変化によるアンテナパターンを補正する。 - 特許庁 - The manufacturing method of a light emitting element mounting wiring board 1 on which a light emitting element is mounted includes a bonding process of bonding a substrate part 2 on which the light emitting element is provided and an aluminum reflecting plate 3 undergoing mirror surface processing via a bonding sheet 5.
発光素子が搭載される発光素子搭載用配線板１の製造方法であって、前記発光素子が設けられる基板部２と、鏡面加工されたアルミニウムからなる反射板３とを、接着シート５を介して接着する接着工程を含むことを特徴とする。 - 特許庁 - A tight attachment part 1a with the side face Ta of the processing tool T is formed nearer the rear of the body 1 having a through hole H, and a set screw 2 is provided to work to the tight attachment part 1a, and in the front part of the body 1, an abutting piece 3 for the surface Wa to be processed of a work W is provided.
貫通孔Ｈを有する本体１の後部寄りに、加工具Ｔの側面部Ｔａとの密着部１ａを設けると共に、この密着部１ａへの押圧ネジ２を設け、本体１の前部に、被加工物Ｗの被加工面Ｗａとの当接体３を設けたものとしている。 - 特許庁 - In the film thickness measuring device for measuring the thickness of a thin film formed on the surface of a specimen and displaying measured results on the display screen of a data processor, the measured results and a processing state in the manufacturing process of the thin film can be simultaneously displayed on the display screen.
試料表面に形成された薄膜の厚みを測定し、測定結果をデータ処理装置の表示画面に表示するようにした膜厚測定装置において、前記表示画面に、薄膜の測定結果と薄膜の製造プロセスにおける処理状況とを同時に表示できるようにした。 - 特許庁 - This method for manufacturing the surface emission laser comprises the following steps of (1)-(7) using disks 4 formed by the steps of: forming an active layer 3 on an InP substrate 1, processing the active layer 3 into mesa shapes to form the plurality of disks 4 on the InP substrate 1, and removing the InP substrate 1.
ＩｎＰ基板１上に活性層３を作製し、次いで活性層３をメサ形状に加工してＩｎＰ基板１上にディスク４を複数個配し、続けてＩｎＰ基板１より取り除かれた各ディスク４を用いて、順次下記（１）〜（７）の各工程を経る面発光レーザの製造方法。 - 特許庁 - The infrared sensor comprises: an infrared sensor chip 100 in which a plurality of pixel units 2 each having a heat sensing section 30 composed of a thermopile 30a are arranged in an array state on one surface of a semiconductor substrate 1; and an IC chip 102 for signal processing an output signal of the infrared sensor chip 100.
サーモパイル３０ａにより構成される感温部３０を具備する複数の画素部２が半導体基板１の一表面側においてアレイ状に配置された赤外線センサチップ１００と、赤外線センサチップ１００の出力信号を信号処理するＩＣチップ１０２とを備える。 - 特許庁 - To provide a lead frame where a lead is never pulled off from resin by improving the anchor effect of a plated surface so as to improve adhesiveness between the lead and resin without giving processing distortion to the lead frame and without increasing costs for manufacturing, and to provide a manufacturing method of the lead frame.
リードフレームに加工歪を与えず、製造コストアップになること無く、めっき表面のアンカー効果を向上させることによって、リードと樹脂との密着性をより向上させることができ、樹脂からリードが抜け落ちないようにするリードフレームとその製造方法を提供する。 - 特許庁 - An end portion detecting device 10 comprises a head portion 13 performing finishing processing for diffusely reflecting incident light, on a placing surface on which a member mounted on an FPD module is placed; and an imaging portion 14 for imaging an end portion of the member placed on the head portion 13 and outputting an image.
端部検出装置１０は、ＦＰＤモジュールに搭載される部材を載置する載置面に、入射光を乱反射する仕上げ処理が施されたヘッド部１３と、ヘッド部１３に載置される部材の端部を撮像して画像を出力する撮像部１４と、を備える。 - 特許庁 - The manufacturing method comprises a step of forming finer irregularity 16 than the irregularity of the irregularity pattern on the surface 20a of the raw film by blasting processing, and a step of forming the irregularity pattern of the raw film having a fine irregularity formed by embossing.
製造方法は、ブラスト加工によって、前記凹凸模様の凹凸よりも微小な凹凸１６を前記原反の表面２０ａに形成する工程と、エンボス加工によって、微小な凹凸を形成された前記原反の前記表面に前記凹凸模様を形成する工程と、を備える。 - 特許庁 - Since the well is formed on the surface of the thin plate of 50 to 200μm thickness, the inspection objective body in the well can be observed from the rear side with an inverted microscope, therefore processing the inspection objects, such as seeding the inspection object can be performed easily and surely, without being obstructed by the objective lens of the microscope.
ウエルが厚さ５０〜２００μｍの薄板表面に形成されているので、ウエル内の被検体を倒立顕微鏡でウエルプレートの裏側から観察することが可能となり、顕微鏡の対物レンズに邪魔されることなく、被検体の播種等の被検体処理を容易かつ確実に行える。 - 特許庁 - This plasma processing apparatus includes a quartz plate 3 transmitting the microwave, a base 13 of aluminum supporting the quartz plate 3, and a step 17 that is formed in an inward direction on an under surface of the quartz plate 3 and formed at a position separated from the contact of the base 13 and the quartz plate 3.
このプラズマ処理装置は、該マイクロ波を透過させる石英板３と、該石英板３を支持するアルミニウム製のベース１３と、該石英板３の下面に内向きに形成され且つ該ベース１３と該石英板３との接点から離れた位置に形成された段差１７と、を具備するものである。 - 特許庁 - A ventilation sole plate 2, a sill 11, and a floor body 3 are provided on a foundation 1, a water drip 12 is attached to the exterior surface of the sill 11, the ventilation sole plate 2, the sill 11, and the floor body 3 are subjected to termite prevention processing, and the water drip 12 has a termite prevention member 17.
基礎１上に換気台輪２と土台１１と床体３が設けられ、土台１１の外面に水切り１２が取り付けられ、前記換気台輪２と前記土台１１と前記床体３とに防蟻処理が施され、前記水切り１２が防蟻部材１７を有することを特徴とする。 - 特許庁
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