「surface processing」を含む例文一覧(7705)
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音声処理手段は、入力音声信号内に含まれる、タッチスクリーンディスプレイ上をタップすることによって発生するタップ音信号を検出し、検出されたタップ音信号による入力音声信号への影響を軽減するために入力音声信号を補正する。 - 特許庁 - To provide a 3D embossed photograph by processing an irreversible material with something like an argillaceous substance, for example, a clay, a plastics or the like, into a thin plate, producing a plate-like photograph printing a photograph and an image on a plate-like surface, and by denting a contour of the photograph physically.
本発明は、若干の粘土質のある不可逆な材質、例えば粘土、樹脂などを板状に薄く加工し、板状表面に写真や画像をプリントした板状写真を製作し、この写真の輪郭を物理的に凹ませる事で３Dエンボス写真を作る事が出来る。 - 特許庁 - This device is used for depositing magnetic material on a board 12, so as to form a magnetic film, where the device is equipped with a cleaning mechanism which cleans the film-forming surface and/or the rear of a board 12 in a cleaning processing chamber 13.
基板１２の上に磁性材料を堆積し、磁性膜を形成する装置であり、磁性膜形成室１１で磁性膜を形成する前の段階等で、クリーニング処理室１３で基板１２の膜形成面と裏面の両方またはいずれか一方をクリーニングする機構を備える。 - 特許庁 - To obtain a thermoplastic resin composition causing no molding-related problems including laminar flaking-off phenomena even in undergoing thin-wall molding and cut processing, excellent in rigidity, heat resistance, chemical resistance, surface appearance, especially impact resistance both at room temperature and low temperatures, and good in fluidity as well.
薄物成形時や切削加工時にも層状剥離等の成形上の問題が起こらず、剛性、耐熱性、耐薬品性、表面外観、とりわけ常温、低温における耐衝撃性に優れ、さらに上記特性の他に優れた流動性をも兼備した熱可塑性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - To obtain a thermoplastic resin composition causing no molding-related problems including laminar flaking-off phenomena even in undergoing thin-wall molding and cut processing, excellent in surface appearance, rigidity, heat resistance, chemical resistance, especially impact resistance both at room temperature and low temperatures, and good in fluidity as well.
薄物成形時や切削加工時にも層状剥離等の成形上の問題が起こらず、表面外観、剛性、耐熱性、耐薬品性、とりわけ常温、低温における耐衝撃性に優れ、さらに上記特性の他に優れた流動性をも兼備した熱可塑性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a plasma processing apparatus so that a position of a substrate can be accurately detected without obstruction by the upper electrode inside a chamber, and capable of effectively removing particles and deposits that are present not only on upper and lower edges and a side surface of the substrate but also on an entire backside of the substrate.
チャンバー内部の上部電極の妨げなしに基板の位置を正確に知ることができ、また、基板の上下エッジ及び側面だけではなく基板の背面の全体に存在するパーチクルと堆積物を効率よく除去することができるプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing a genuineness and spuriousness discrimination label in which a variation in color is visually recognized only when a genuineness and spuriousness discrimination is made by making a surface layer have a different color tone from a luminous body and applying a special print processing thereto and which therefore is difficult to be imitated and has easiness of the discrimination.
本発明は、表層を蓄光体と異なる色調として特殊印刷処理をすることにより真偽判別時にのみ、色調の変化形態が視認でき得る模倣を困難とした判別の容易性のある真偽判別ラベルの製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a pavement reproducing construction method by present position processing capable of constructing a pavement body superior in durability at a present position by eliminating the need of paving a surface layer used for a paving mixture or the like and a reproducing pavement body constructed by the pavement reproducing construction method.
舗装用混合物などを用いた表層を舗設する必要がなく、しかも、耐久性に優れた舗装体を、現位置にて構築することができる、現位置処理による舗装再生工法、並びにそのような舗装再生工法によって構築される再生舗装体を提供することを課題とする。 - 特許庁 - To provide a wafer processing apparatus which includes a device region where plural devices are formed on a front surface and a peripheral surplus region surrounding the device region and properly position a wafer in which a circular concave portion is formed at a backside corresponding to the device region at a position engaging with a chuck table.
表面に複数のデバイスが形成されたデバイス領域とデバイス領域を囲繞する外周余剰領域とを有しデバイス領域に対応する裏面に円形凹部が形成されたウエーハを、チャックテーブルと嵌合する位置に適正に位置付け可能なウエーハの加工装置を提供する。 - 特許庁 - In the method for manufacturing the embossed sheet 60 by applying emboss processing to a thermoplastic resin sheet 50 on the metal endless belt 14 trained over a plurality of rolls 11,12, a heat-resistant easy peel resin layer having an uneven embossed pattern is applied to the surface of the metal endless belt 14.
複数のロール１１、１２に巻装された金属製エンドレスベルト１４上で熱可塑性樹脂シート５０にエンボス加工を施すエンボスシート６０の製造方法において、金属製エンドレスベルト１４の表面に、凹凸のエンボスパターンを有する耐熱性、易剥離性樹脂層をコーティングする。 - 特許庁 - This processing release paper comprises a laminate which is composed of a substrate and the releasing resin layer adhered to at least one of both the surfaces of the substrate, wherein the substrate has a surface resistivity (Ω) and/or a volume resistivity (Ω.cm) of 0.1×1010 to 6.0×1010.
工程剥離紙を、基体と、この基体の少なくとも一方の面に設けられた離型性樹脂層との積層体からなる構成とし、基体を表面抵抗値（Ω）および／または体積抵抗値（Ω・ｃｍ）が０．１×１０^10〜６．０×１０^10の範囲内のものとする。 - 特許庁 - To raise a controllability of a line width of a pattern, while reducing a developing defect, in case of forming a protective film of a water repellent property on a substrate an which a resist film is formed, and performing a development processing to the substrate after forming a liquid layer on a front surface of the protective film and carrying out an oil immersion exposure.
レジスト膜が形成された基板の上に撥水性の保護膜を形成し、その表面に液層を形成して液浸露光した後の基板に現像処理を行うにあたって、現像欠陥を低減させると共にパターンの線幅の制御性を向上させること。 - 特許庁 - To prevent high-temperature offset caused by a deviation in temperature change between the surface temperature of a fixing roller center part and a detection temperature by a thermistor when a fixing device is made in a fixing processing state from a standby state, as for the fixing device incorporating a main heater and a sub heater, and provided with the thermistor arranged in a non-paper passing area.
メインヒータとサブヒータとを内蔵し、サーミスタを非通紙領域に設けた定着装置において、待機状態から定着処理状態になったときに生じる、定着ローラ中央部の表面温度とサーミスタの検知温度との温度変化のズレに起因する高温オフセットを防止する。 - 特許庁 - To provide a power cord with antistatic function, which is excellent in wear resistance, can ensure the insulating property of an electric connecting terminal such as a plug without special insulating processing of the electric connecting terminal, and further can prevent the surface of the terminal or cord from being charged as much as possible.
耐摩耗性に優れ、またプラグ等の電気接続端子を特別に絶縁加工することなく、電気接続端子の絶縁性を確保でき、しかも端子やコードの表面が帯電することを極力抑えることができる帯電防止機能付き電源コードを提供する。 - 特許庁 - To provide an outside corner column imparting continuity to the pattern of the right and left plate pieces 1a, 1a by making a chamfered part 8 in the apex part 3 of the outside corner column A1 inconspicuous as much as possible and forming the similar image with the image (S, D) generating in the surface pattern in the chamfering processing part 8.
出隅柱Ａ１の頂角部３における面取り加工部８をできるだけ目立たなくし、かつ面取り加工部８に表面柄部に生じる陰影（Ｓ，Ｄ）と同様な陰影が形成されるようにして、左右の板片１ａ，１ａの柄模様に連続性を持たせる。 - 特許庁 - To provide an image forming apparatus which is capable of quick processing without pollution in an apparatus main body by avoiding blowout of toner clouds from a cleaner housing when separating a cleaner blade or a seal from an image carrier surface, to prevent the toner from leaking out of the cleaner housing.
担持体表面からクリーナブレードやシールが離間などする際にトナークラウドがクリーナハウジングから噴出することを回避することにより、クリーナハウジングからトナーが漏れてしまうことを防止して、装置本体内の汚染なく高速処理可能な画像形成装置を提供することを目的。 - 特許庁 - A CPU 50 performs control for making the speaker array 40 perform acoustic playback by a designated directivity pattern in mirror-surface symmetry with respect to a virtual plane including an axis going perpendicularly through the center of the speaker array 40 according to a signal processing control program 61.
ＣＰＵ５０は、信号処理制御プログラム６１に従い、指定された指向性パターンであって、スピーカアレイ４０の中心を垂直に貫く軸を含む仮想平面について鏡面対称な指向性パターンでの音響再生をスピーカアレイ４０に行わせる制御を行う。 - 特許庁 - The means is to spray heated and vaporized functional water, which is ozone water obtained by forcing ozone gas be contained in deionized water, or which is ozone water obtained by electrolyzing deionized water onto the substrate after the dry etching, and to execute plasma processing to remove the photoresist film on the substrate surface.
その手段は機能水としてオゾンガスを超純水に含有させて成るオゾン水や超純水を電気分解して得たオゾン水を用い、加熱・水蒸気化したものを前記ドライエッチング後の基板に噴霧、プラズマ処理することで、基板表面のフォトレジスト膜を除去するものである。 - 特許庁 - The apparatus includes a reactive species generator adapted to generate a reactive gas species for chemically etching the accumulated material from chamber components, and a processing chamber having at least one component with a mirror polished surface which is exposed to the reactive species.
本装置は、蓄積した物質をチャンバ構成要素から化学的にエッチングする反応性ガス化学種を生成するように適合した反応性化学種発生器、及び反応性化学種に曝露される鏡面研磨面をもつ少なくとも１つの構成要素を有する処理チャンバを含んでいる。 - 特許庁 - The electrochemical device has had its active material constituting polarizable electrode layers 12, 22 of a cathode 10 and an anode 20 subjected to esterification processing, which resulted in a hydroxyl group or a carboxyl group present on the surface of the active material being replaced with an amino group having an alkyl chain.
この電気化学デバイスは、正極１０及び負極２０の分極性電極層１２，２２を構成する活物質がエステル化処理され、エステル化処理により活物質の表面に存在する水酸基やカルボキシル基がアルキル鎖を有するアミノ基によって置換されている。 - 特許庁 - A compression stress layer having a depth of not less than 50 μm is formed by chemical reinforcement processing on the surface of a glass substrate made of glass material containing 40-70 wt.% of SiO_2, 0.1-20 wt.% of Al_2O_3, 3-20 wt.% of Na_2O, and not containing Li_2O.
ＳｉＯ_2を４０〜７０重量％、Ａｌ_2Ｏ_3を０．１〜２０重量％、Ｎａ_2Ｏを３〜２０重量％含有し、Ｌｉ_2Ｏを含有しないガラス材料で形成されたガラス基板の表面に化学強化処理により深さ５０μｍ以上の圧縮応力層を形成する。 - 特許庁 - To provide an apparatus for electroplating a steel strip, which is capable of increasing the flow rate of a plating solution flowing on the surface of the steel strip, almost uniformalizing the flow rate of the plating solution in the width direction and increasing the processing rate of the plating compared with the conventional art, with a simple structure.
簡単な構成で、鋼帯の表面を流れるめっき液の流速を速くできると共に、めっき液の流速を鋼帯の幅方向にわたって略均一にでき、めっきの処理速度を従来よりも上昇できる鋼帯の電気めっき装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a substrate transport device preventing an outer peripheral surface part of a transport roller from being flexurally deformed even when the transport roller is heated and cooled to be expanded and contracted, and preventing occurrence of a gap or the like at a seam between roller members, in a substrate transport device for transporting a processing object substrate.
被処理基板を搬送する基板搬送装置において、搬送コロが加熱及び冷却され膨張伸縮しても、搬送コロの外周面部が湾曲変形するのを抑制し、またコロ部材同士の継ぎ目に隙間等が発生するのを抑制した基板搬送装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a coating material capable of easily and inexpensively processing a space which is originally a nonmagnetic material such as an inner wall of a house or a store and a panel installed in a display space into a magnetically attracting space capable of magnetically attracting a magnet, and to provide a magnetic substrate coated with the coating material and a method for forming a surface to be magnetically attracted.
家や店舗の内壁、展示スペースに設置されるパネル等、本来、非磁性体であるスペースを、容易かつ安価に磁石を磁着することができる磁着スペースに加工することができる塗料、該塗料を塗布した磁性基板、および被磁着面の形成方法を提供する。 - 特許庁 - The wafer processing method has: setting a UV curing type protective tape on the front surface of a wafer; cutting a boundary portion between a device region and an outer circumference excessive region of the wafer into a ring by using a cutting blade; and separating the outer circumference excessive region as an auxiliary ring from the device region.
ウエーハの加工方法であって、ウエーハの表面に紫外線硬化型保護テープを貼付してから、ウエーハのデバイス領域と外周余剰領域の境界部を切削ブレードでリング状に切削して外周余剰領域を補助リングとしてデバイス領域から分離する。 - 特許庁 - A main controller 91 carries out control via an image forming processing controller 93 so that one of two divided images, which are obtained by dividing a point image group indicating preliminarily-defined information, is formed on a surface of a printing paper, and that the other is formed on a backside of the printing paper.
メインコントローラ９１により、予め定められた情報を示す点画像群が２つに分割された分割画像の一方が印刷用紙の表面に形成され、他方が当該印刷用紙の裏面に形成されるように画像形成処理制御部９３を介して制御する。 - 特許庁 - A plurality of covered electrodes 3, arranged while facing each other, form a space as the discharge space 4, and a heat sink 6 is arranged on an outer surface of the covered electrode 3, in the plasma processing apparatus A, wherein a positioning hole B communicating with the covered electrodes 3 and the heat sink 6 is bored.
対向配置した複数の被覆電極３によって形成される空間を放電空間４とし、被覆電極３の外面に放熱器６を配設したプラズマ処理装置Ａにおいて、被覆電極３及び放熱器６に連通する位置決め用孔Ｂを穿孔した。 - 特許庁 - To provide a method for processing a silicon block by which even when cracks exist in the surface of a silicon crushed product, the adhesion amount of an etching agent after etching can be reduced to such a degree that the significant amount of a corrosive gas is not produced, and a silicon crushed product having high cleanliness can be obtained.
表面にクラックが存在していても、エッチング後のエッチング剤の付着量を腐食性ガスの発生量が顕著とならない程度とすることが可能であり、かつ清浄度の高いシリコン破砕物を得ることが可能なシリコン塊の処理方法を提供する。 - 特許庁 - To provide: a lead frame having been subjected to fall stopping processing so as to exhibit equal fall stopping action in any direction of falling a lead frame of a substrate for a surface mounted electronic component; the substrate for the electronic component using the same; and the electronic component.
面実装型の電子部品用基板におけるリードフレームの抜け方向に作用するいずれの方向に対しても同等な抜け止め作用を発揮することが可能な抜け止め加工が施されたリードフレームと、これを用いた電子部品用基板および電子部品とを提供する。 - 特許庁 - To provide a shelf support dowel capable of preventing the interference of a shelf plate and a stay member without additionally performing complicated processing to the shelf plate even when attached to a storage shelf that has a stay member for joining an inside surface of a storage portion and a door body for closing the storage portion.
収納部の内側面と収納部を閉塞する扉体とを連結するステー部材を有する収納棚に取り付けられたとしても、棚板に追加的に複雑な加工を施さずに棚板とステー部材との干渉を防ぐことができる棚受用ダボを提供する。 - 特許庁 - By the method of processing a wafer, an ultraviolet curing type protective tape is stuck onto the surface of the wafer, a boundary between a device region of the wafer and an outer peripheral excess region is cut by a cutting blade to form a ring-like ditch, and the outer peripheral excess region is separated from the device region.
ウエーハの加工方法であって、ウエーハの表面に紫外線硬化型保護テープを貼付してから、ウエーハのデバイス領域と外周余剰領域の境界部を切削ブレードで切削してリング状の堀を形成し、外周余剰領域をデバイス領域から分離する。 - 特許庁 - A defect inspection method for inspecting the defect of the surface of a sample, includes the step of detecting the defect by addition processing of a detecting signal in which the amount of the misalignment of a pixel of detection signals calculated by comparing the distribution of Haze signal and predetermined light quantity distribution is corrected.
試料の表面の欠陥を検査する欠陥検査方法であって、Ｈａｚｅ信号の分布と予め定めた光量分布とを比較して算出した検出信号の画素ずれ量を補正した検出信号を加算処理して欠陥を検出する工程を有する欠陥検査方法。 - 特許庁 - When an operation to a touch sensor 11 is detected in a first operation state where a main control part 16 is not busy for data processing, a touch surface 11a is vibrated in a first vibration mode via a tactile feedback part 13 by a tactile feedback control part 14 to present a first tactile sense to an operation object.
メイン制御部16がデータの処理に対してビジーでない第１動作状態に、タッチセンサ11への操作が検出されると、触感呈示制御部14により触感呈示部13を介してタッチ面11aを第１振動モードで振動させて、操作対象に第１触感を呈示する。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing a wiring board that is superior in suppression of warpage of a substrate, performs processing while maintaining back-to-back manufacture of superior size stability and mass-productivity up to an outermost layer (a laminate surface by the back-to-back manufacture), and can secure higher size stability and operation efficiency.
基板のそりの抑制に優れ、寸法安定性や量産性の優れた背合わせによる製造を最外層（背合わせによる積層面）まで維持しながら加工することができ、更なる寸法安定性及び高い作業効率を確保することのできる配線板の製造方法を提供する。 - 特許庁 - Predetermined processing is performed on image data of the reflected light RL of the slit light L reflected by the end surface of the paper sheet bundle Ps, and a distance (a gap G_n between paper sheets) between detected luminescent spots (or bright lines) and an inclination (an inclination θ_n of the paper sheets) of the bright line are calculated.
紙葉類束Ｐｓの端面によって反射されたスリット光Ｌの反射光ＲＬの画像データに所定の処理を行い、検出した輝点（或いは輝線）間の距離（紙葉類間のギャップＧ_ｎ）、及び輝線の傾き（紙葉類の傾きθ_ｎ）を算出する。 - 特許庁 - To provide in a relatively simple way a synthetic quartz glass substrate for semiconductor having a non-penetration hole, groove or level difference which is controlled in shapes such as a size, remained thickness of bottom surface and parallelism highly accurately and stably, and is reduced a shape change of a whole substrate before and after processing.
比較的簡便な方法でサイズ、底面の残し厚さ、平行度等、形状を高精度に安定的に制御され、加工を施す前後の基板全体の形状変化を抑えた、非貫通の穴、溝又は段差を有する半導体用合成石英ガラス基板の製造方法を提供する。 - 特許庁 - The light reception processing section 3 and the reception side connector section 36 are mounted on the same substrate surface of the reception side substrate part 35, and the reception side substrate part 35 includes a bending portion 35X bent so that the substrate surfaces face each other at the back in the normal direction.
そして、光受信処理部３及び受信側コネクタ部３６が、受信側基板部３５における同一の基板面に搭載されており、受信側基板部３５は、その法線方向において基板面が互いに背向するように折り曲げられた折り曲げ部３５Ｘを有している。 - 特許庁 - To provide an apparatus and a method for adhesive roll cleaning which can remove simply and quickly dust adhered to the surface of a long material or an article to be conveyed when applied to target equipment, e.g. a metal foil processing apparatus or a printing apparatus.
本発明は、金属箔加工装置や印刷装置等の対象設備に適用して、搬送される長尺材料や製品の表面に付着する塵埃を簡単且つ速やかに除去することが可能な粘着ロールクリーニング装置及び方法を提供することを目的とする。 - 特許庁 - When the operator adjusts a calibration plate thereafter so that it may take the selected attitude, an angle indicating an inclination of the surface of the calibration work to a plane (reference plane) intersecting perpendicularly the optical axis of a camera for a front view is calculated by processing using an image formed by this camera.
この後、作業者がキャリブレーションプレートを選択した姿勢になるように調整すると、正面視用のカメラにより生成された画像を用いた処理により、このカメラの光軸に直交する平面（基準平面）に対するキャリブレーションワークの表面の傾きを示す角度が算出される。 - 特許庁 - Thereafter, an upper electrode 24c is formed on the one surface side of the element formation substrate 20a, thereby a power generation part 24 is formed, and thereafter a cantilever formation substrate 20 including a frame part 21, a cantilever part 22 and a weight part 23 is formed by processing the element formation substrate 20a.
その後、素子形成基板２０ａの上記一表面側に上部電極２４ｃを形成することで発電部２４を形成してから、素子形成基板２０ａを加工してフレーム部２１、カンチレバー部２２および錘部２３を有するカンチレバー形成基板２０を形成する。 - 特許庁 - To provide a polymer actuator wherein it is possible to eliminate irregularity on an electrode surface as much as possible (as compared with, for example, talc processing) to achieve stable control and further reduce a sliding resistance between the polymer actuator and a vibration isolation target so that smooth and reliable response can be expected.
電極表面の凹凸性を極力なくして（例えばタルク処理との比較）、安定した制御を実現することができ、しかも、ポリマーアクチュエータと制振対象物との間の摺動抵抗を小さくすることができ、スムース、かつ信頼性のある応答が期待できるポリマーアクチュエータを提供する。 - 特許庁 - To secure a fail safe by breaking an oxide film and a sulphur film formed on the surface of an input contact point while electrifying an input contact point at the input processing timing of an electronic interlocking device, and surely switching to a safety side in the case wherein a failure breaks out.
電子連動装置の入力処理タイミングに合わせて入力接点に電流を流すとともに入力接点の表面に形成されている酸化被膜や硫化被膜の破壊処理を行い、かつ故障が発生した場合も必ず安全側に移行してフェールセーフを確保する。 - 特許庁 - To provide a visual inspection method and a device of a tire capable of performing the visual inspection of the shape of the tire in a shorter time by a processing method simpler than a conventional method and capable of detecting even the surface fine flaw of the tire.
タイヤの外観形状の検査を、従来法と比較してより短時間で、かつ、簡素な処理方法により行うことができ、さらにはタイヤ表面の微小欠陥についても検出することが可能なタイヤの外観検査方法および外観検査装置を提供する。 - 特許庁 - The development processing device for a planographic printing plate includes a means to receive information whether a plate material to be processed is a planographic printing plate or a key plate and a means for making the means for promoting development so that the means for promoting development in the developing tank does not contact the plate surface of the key plate.
処理される版材が平版印刷版であるか捨て版であるかの情報を受信する手段と、現像槽内の現像促進手段が捨て版の版面と接触しないように現像促進手段を退避させる手段とを備えた平版印刷版用現像処理装置。 - 特許庁 - An information processing device which executes the image display method for automatically setting the camera position displaying the range concealed in the three-dimensional model identifies a plane on the three-dimensional model corresponding to a point specified by a user from a solid surface projected to a two-dimensional plane.
三次元モデルに隠された範囲を表示するカメラ位置を自動で設定する画像表示方法を実行する情報処理装置は、二次元の平面に投影されている立体の表面上から利用者によって指定された点と対応する三次元モデル上の平面を特定する。 - 特許庁 - After a tooth-formed cylindrical gear is subjected to surface hardening, the gear whose tooth form are provided by hard finishing using a CBN grinding wheel or honing using an internal gear type grinding wheel is subjected to shot peening processing and gyro-grinding or honing-grinding.
歯形形成した円筒歯車を表面硬化処理して後、ＣＢＮ砥石を用いたハードフィニッシング加工あるいは内歯車形砥石を用いたホーニング加工で歯面形状を整えた歯車に対して、ショットピーニング処理とジャイロ研磨処理あるいはホーニング研磨処理を行う。 - 特許庁 - To provide a fluorine-containing copolymer which can be melt-processed at a relatively low processing temperature, has a high light transmittance and a low refractive index, and exhibits by itself good adhesive properties to various substrates without requiring a surface treatment, the use of adhesives, or the like.
比較的低い加工温度で溶融加工することができ、高光透過率かつ低屈折率であり、しかも表面処理や接着剤の使用などを必要とはせず、それ自体各種基材に対して良好な接着性を有する含フッ素共重合体を提供する。 - 特許庁 - The correspondence information processing apparatus acquires a presently opened page surface of a notebook 101 determined by a control part 100 as information of a recording range and a display range presently displayed on a display apparatus 90 to generate correspondence information for associating these information.
対応情報処理装置では、記録範囲の情報である制御部１００で判断されたノート１０１の現在開いているページ面と、表示装置９０において現在表示されている表示範囲とが取得されて、これらの情報を対応付ける対応情報が生成される。 - 特許庁 - To obtain a polishing composition for use in CMP (chemical mechanical polishing) processing for semiconductor devices each having copper film and a tantalum compound, having such high selectivity that the polishing rate of copper is high but that of the tantalum compound is low, and also affording high smoothness of the surface of the copper film.
銅膜とタンタル化合物を有する半導体デバイスのＣＭＰ加工プロセスにおいて、銅の研磨レートは大きいがタンタル化合物の研磨レートが小さいという選択性の高い研磨用組成物であり、銅膜表面の平滑性にも優れたＣＭＰ加工用の研磨用組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a method and an apparatus for chemically processing a glass substrate for various flat panel displays which realize uniform flattening of the surface of the glass substrate while realizing thinning of the glass substrate regardless of the size of the glass substrate and enable the glass to be recycled.
ガラス基板の大きさに関係なく、ガラス基板の板厚を薄くしつつ、表面を均一に平坦化することができ、ガラスの再利用が可能である各種フラットパネルディスプレイ用ガラス基板の化学加工方法及び化学加工装置を提供することを主たる目的とする。 - 特許庁
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