「temperature processing」を含む例文一覧(2995)
＜前へ 1 2 .... 25 26 27 28 29 30 31 32 33 .... 59 60 次へ＞- In consideration of time when detection output from a concentration detection sensor 44 is stabilized, start timing of pre-rotation processing has only to be set so that the detection output can be stabilized by the time the temperature Temp gets to the temperature Temp2.
前回転処理の開始タイミングは、濃度検知センサ４４の検知出力が安定する時間を考慮して、温度Ｔｅｍｐが温度Ｔｅｍｐ２に到達するまでに検知出力が安定するように設定すればよい。 - 特許庁 - To provide a heat-shrinkable laminated film excelling in heat shrinking performance, transparency and interlayer adhesion at an ordinary temperature, hardly peeled off even if treated at a high temperature and restrained from whitening that occurs when bending the film during processing or the like.
熱収縮特性、透明性、常温における層間接着に優れ、高温で処理しても剥離しにくく、かつ加工時等にフィルムを折り曲げた際に生じる白化を抑制した熱収縮性積層フィルムの提供。 - 特許庁 - When the determination part determines that the temperature detected by the temperature detecting means 50 reaches the first threshold, an image output stopping means stops the control of images by the image control circuit 105 while continuing the processing by a main control circuit 101.
画像出力停止手段は、温度検知手段５０が検知した温度が第１閾値に達したと判定した場合、主制御回路１０１による処理は継続させつつ、画像制御回路１０５による画像の制御を中止させる。 - 特許庁 - If a camera inside detected by an internal temperature sensor 13 is higher than a prescribed temperature, power supply to infrared cameras 2R, 2L from a power supply unit 33 is stopped by a power control section 23 of an image processing unit 1.
内部温度センサ１３により検出されるカメラ内部が所定温度よりも高い場合、画像処理ユニット１の電源制御部２３により電源供給装置３３から赤外線カメラ２Ｒ，２Ｌへの電力供給を停止する。 - 特許庁 - To provide a technique to prevent a defect that an affected part when a Ni base single crystal alloy or a Ni base unidirectional solidified alloy receives plastic processing strain is recrystallized to deteriorate high temperature strength by being heated at a high temperature.
Ni基単結晶合金やNi基一方向凝固合金が塑性加工歪を受けたときに、その影響部が高温加熱によって、再結晶化して高温強度が低下するという欠点を防ぐ技術を提案すること。 - 特許庁 - To continuously perform work long, by reducing a frequency for performing manual regeneration processing by automatically regenerating a DPF in the work, by putting the temperature of exhaust gas in a predetermined high temperature state.
本発明では、排気ガスの温度を所定の高温状態にして、作業中にＤＰＦの自動再生を行うことで手動再生処理を行う頻度を少なくして、作業を長く継続して行えるようにすることを課題とする。 - 特許庁 - With respect to processing for them, a classification of an optical filter disposed in the optical system is detected, and a set value of a color temperature of a picked-up signal obtained by imaging is set to a color temperature determined for the detected optical filter.
その処理としては、光学系に配置された光学フィルタの種類を検出し、撮像して得た撮像信号の色温度の設定値を、その検出した光学フィルタ毎に決められた色温度に設定するようにした。 - 特許庁 - In a method for processing the graphite material particles, a carbon material is crushed having a CTE from 4.8×10^-6/°C to 6.0×10^-6/°C at a temperature from 30°C to 100°C, and the powder obtained is made into the graphite material in an Atchison furnace at a temperature of 2,500°C or more.
この黒鉛質粒子の製造方法は、30℃〜100℃のＣＴＥが4.8×10^-6/℃以上6.0×10^-6／℃以下である炭素質材料を粉砕し、得られた粉末をアチソン炉を用いて２５００℃以上の温度で黒鉛化することからなる。 - 特許庁 - Data indicating the correlation between the resistance value of the heating resistor 87 and the temperature of the heating resistor 87 is stored in the central processing unit 2 to compute the temperature of the heating resistor 87 on the basis of the correlation.
そして中央演算処理装置２には、ヒータ抵抗８７の抵抗値と、ヒータ抵抗８７の温度との相関関係を示すデータが記憶されており、この相関関係に基づいてヒータ抵抗８７の温度を算出する。 - 特許庁 - After processing at such a process pressure and flow rate, even a lower level of oxygen contamination may be achieved by then increasing the process pressure, hydrogen flow rate, and process temperature, through the process temperature still remains less than 800°C.
こうした処理圧力及び流量で処理後、処理温度は８００未満のままであっても、処理圧力、水素流量、及び処理温度を増大することによって、さらに低いレベルの酸素汚染を達成可能である。 - 特許庁 - To carry out battery voltage drop detection processing when a temperature is the lowest in a day, and to secure a sufficient battery capacity securing notification operation even at a low temperature in an alarm driven by a battery such as a fire alarm.
火災警報器など電池で駆動する警報器において、１日の最低気温となるときに電池電圧低下検出処理を行い、低温下でも報知動作自体を保証できる十分な電池容量を確保する。 - 特許庁 - The control device 25 sets a target temperature of the filter 32 during execution of the regeneration processing, and sets the injection amount of the post-injection so that the injection amount is lower when the target temperature is lower.
この制御装置２５は、再生処理の実行時におけるフィルタ３２の目標温度を設定するとともに、その目標温度が低いときほどポスト噴射の噴射量が少なくなるように当該噴射量を設定する。 - 特許庁 - When the carbon monoxide concentration measuring device 1 is started, a start-up processing control part 8 opens an opening and closing means 6, and closes an opening and closing means 7 to introduce a high- temperature gas generated by a high-temperature gas supplying means 5 to the gas cell 2.
一酸化炭素濃度測定装置１の起動時に、起動処理制御部８は、開閉手段６を開き、開閉手段７を閉じて、高温ガス供給手段４が生成する高温ガスをガスセル２へ導入する。 - 特許庁 - To provide a substrate processing apparatus which solves a response delay for heat, can enhance a throughput, can enhance a temperature descending speed in a low temperature region, and can reduce a recovery time.
本発明の目的は、熱に対する応答遅れを解決し、スループット向上が可能でありかつ低温領域での降温速度の向上が可能でありかつリカバリー時間の短縮が可能な基板処理装置を提供することを目的とする。 - 特許庁 - The produced dairy product is free from the need of a technique of sterile processing or sterile packaging, and has a preservation duration of at least 12 months when preserved at ambient temperature and at least 18 months when preserved at refrigeration temperature.
生成した乳製品は、無菌加工または無菌包装の技法を必要とせずに、周囲温度で保存されたときに少なくとも１２カ月、または冷蔵温度で保存されたときに少なくとも１８カ月の保存寿命を有する。 - 特許庁 - To provide a processing solution heating device for a photosensitive material processor capable of improving the detecting accuracy of the temperature of a heater by a temperature detection part by surely bringing the heater into contact with a protection tube.
ヒータと保護管とを確実に接触せしめることにより、温度検出部によるヒータの温度の検出精度を向上させることができる感光材料処理装置の処理液加熱装置を提供することを目的とする。 - 特許庁 - When a temperature T of the hot water heated by the exhaust heat recovery means is lower than a proper hot water temperature T1, the operation control means executes set output increasing processing to increase the set output P of the cogeneration device.
運転制御手段が、排熱回収手段で加熱された湯水の温度Ｔが適正湯水温度Ｔ１よりも低い場合に、熱電併給装置の設定出力Ｐを上昇させる設定出力上昇処理を実行する。 - 特許庁 - Before a temperature of molten steel 10 is measured by a temperature measuring apparatus 1, a length of a double-coated optic fiber wound around a supply drum 3 is measured and is stored in a signal processing part 8 as an initial length at the time of calibration.
温度測定装置１で溶鋼１０の温度を計測するに際して供給ドラム３に巻回した２重被覆光ファイバ２の長さを測定して、校正時の初期長さとして信号処理部８に格納しておく。 - 特許庁 - To provide an apparatus for forming a dense and hard thin film utilizing helicon plasma of high density which can reduce inclusion of impurities, and can drop the substrate temperature to the electronic device processing temperature (about 200°C), and a method for forming the thin film.
不純物の含まれるのを低減でき、しかも基板温度を電子デバイスプロセス温度（約２００℃）まで下げることのできる高密度へリコンプラズマを利用した緻密な硬質薄膜の形成装置及び形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a water-based coating material which is suitable for forming a surfacer film in the finish processing of automobiles and is cured at room temperature or at a slightly elevated temperature, giving a coating film having properties at least equal to those of a conventionally obtained coating film.
自動車の仕上げ加工においてサーフェーサー塗膜を製造するのに適しそして室温でもまたは僅かに高めた温度でも硬化して従来の塗膜に少なくとも等しい性質を持つ塗膜をもたらすことである。 - 特許庁 - To provide a chemical mechanical polishing (CMP) device which can reduce a Cu dishing quantity while ensuring a high polishing rate, by maintaining a high temperature at an initial stage of CMP processing, and then intentionally lowering a wafer temperature immediately before the completion of polishing.
ＣＭＰプロセス初期においては高温を維持し、研磨終了直前にウエハ温度を意図的に下げることで、高い研磨レートを維持したままＣｕのディッシング量を低減することができるＣＭＰ研磨装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a method for planarizing the insulation film of a semiconductor apparatus in which loss is reduced at the part other than the insulation film of the semiconductor apparatus by controlling the temperature of processing atmosphere and the atmospheric concentration in the insulation film thereby enhancing fluidity of the insulation film and lowering the planarization processing temperature.
本発明は、処理雰囲気の温度及び絶縁膜中の雰囲気濃度を制御することにより、絶縁膜の流動性を高め平坦化処理温度の低温化を図り、半導体装置の絶縁膜以外の部分への損失を低減させる半導体装置の絶縁膜の平坦化方法を提供することにある。 - 特許庁 - In the plasma nitriding processing apparatus that nitrides a substrate having an insulating film, the wafer temperature is in-process monitored before starting the plasma nitiding processing, and the plasma nitriding time or process pressure is controlled by feeding the monitored value of the wafer temperature back to a CPU to enhance the uniformity of the nitridation quantities among the wafers.
絶縁膜を有する基板を窒化するプラズマ窒化処理装置において、プラズマ窒化処理を開始する前にウェハ温度をインプロセスで計測し、該ウェハ温度の計測値をＣＰＵにフィードバックしてプラズマ窒化時間またはプロセス圧力を制御することにより、ウェハ間の窒化量の均一性を向上することができる。 - 特許庁 - The control part 130 heats the object to be measured 20 to an optional set temperature by the heating part 70, performs a control processing of storing each measured signal to the storage part 120 with the input of each of the measured signals of the temperature, stress, illuminance and image data, and performs an evaluation processing of the birefringence phenomenon.
制御部１３０は、加熱部７０により被測定物２０を任意の設定温度に加熱すると共に、温度、応力、照度、画像データの各測定信号が入力されるのに伴って各測定信号を記憶部１２０の記憶させる制御処理を実行すると共に、複屈折現象の評価処理を実行する。 - 特許庁 - To provide a drying processing method and a drying furnace in which both a drying carbonization and a high temperature processing for generated gas can be carried out within the same furnace and either vapor generated from items to be processed or bad odor and harmful components in the generated gas can be discharged into atmosphere as discharged gas of non-odor and non-toxic characteristic under a high temperature combustion.
同一炉内で乾燥炭化と発生ガスの高温処理を可能にし、処理物から発生した蒸気やガス中の臭気および有害成分を高温燃焼により無臭無害の排気ガスとして大気中に排出させることのできる乾燥処理方法および乾燥炉を提供することにある。 - 特許庁 - A composite machine 40 is provided with a printer board 68, a FAX board 71 and a scanner 40 capable of inputting data relating to a printing job including a feed direction and a size and respective input parts are provided with image processing parts 64, 66 and 69 for performing an image processing and a temperature detector 49b for detecting the temperature of a fixing roller 49a.
複合機４０には、送り方向とサイズとを含む印刷ジョブに係るデータを入力可能なプリンタボード６８、FAXボード７１、スキャナ４０とが設けられ、各入力部には画像処理を行う画像処理部６４・６６・６９、定着ローラ４９ａの温度を検出する温度検出器４９ｂとが設けられる。 - 特許庁 - It is possible to keep a pressurized state in which a piezoelectric body is pressurized on one surface of a case 2 via an adhesive between a lower tool 23 and an upper tool 24A, and a stress is relaxed by the low temperature processing, along with pressurization to the piezoelectric body and the case 2 to be adhered with the adhesive and the low temperature processing.
下冶具２３と上冶具２４Ａとの間で、ケース２の１つの面に接着剤を介して圧電体を加圧した加圧状態を保持可能であり、この加圧状態で低温熱処理を施すことで、圧電体とケースとを接着剤により加圧接着させるとともに、低温熱処理によって応力を緩和させる。 - 特許庁 - If the temperature of a fluid L in a processing vessel 40 exceeds a set value SV(t) and a threshold temperature "SV(t)+α", the quantity of heat applied to the fluid L in the processing vessel 40 is controlled based on a value of a change in control output obtained through PID calculation minus a certain value.
処理槽４０内の流動物Ｌの温度が、設定値ＳＶ（ｔ）を超え、さらに、閾値温度「ＳＶ（ｔ）＋α」を超えた場合には、ＰＩＤ演算で得られた制御出力変化量に対して一定の値が差し引かれた値に基づいて、処理槽４０内の流動物Ｌに加えられる熱量が制御される。 - 特許庁 - An information processing apparatus body 1, in a state where a button used as a moving target of a pointer is displayed, detects the current position of a pointer, calculates operating direction and distance to the moving target position, reads temperature control information from a temperature conversion table 142, and executes creating and transmitting processing of operation support information.
情報処理装置本体１において、ポインタの移動目標となるボタンが表示された状態で、ポインタの現在位置の検出、移動目標位置までの操作方向及び距離の算出、温度変換デーブル１４２からの温度制御情報の読み出し、及び操作支援情報の生成とその送出処理を実行する。 - 特許庁 - After performing second regeneration processing, when a performing frequency N of the first regeneration processing is a determining frequency A or more, the temperature of the filter 35 is raised up to β (> α), and the second regeneration processing for completely discharging the sulfur from the filter 35 by reducing the exhaust air-fuel ratio, is performed respectively separately from the first regeneration processing.
また第２の再生処理が実行された後における第１の再生処理の実行回数Ｎが判定回数Ａ以上であるときに、フィルタ３５温度をβ（＞α）にまで上昇させるとともに排気空燃比を低下させてフィルタ３５から硫黄を完全に放出させる第２の再生処理を第１の再生処理と各別に実行する。 - 特許庁 - A bar code reader with a sensor comprises: bar code reading means for reading a bar code attached to goods; temperature measuring means for measuring a temperature of goods subject to temperature measurement; and information processing means for associating information about temperature obtained by the measuring means with information obtained by the bar code reading means, and storing or transferring the associated information.
物品等に付されたバーコードを読み取るためのバーコード読み取り手段と、温度測定対象となる物品等の温度を測定する温度などの測定手段と、測定手段によって得られた温度などの情報と、バーコード読み取り手段によって得られた情報とを対応づけて記憶または転送する情報処理手段とを備えるセンサ一体型のバーコードリーダ。 - 特許庁 - To provide an electrostatic chuck device capable of adjustment of a temporal change in temperature accompanied by plasma application, temperature adjustment over a wide range, and local temperature control of a platelike specimen by causing a local temperature distribution in a plane of the platelike specimen such as a silicon wafer when applied in a processing apparatus such as a plasma etching device.
プラズマエッチング装置等の処理装置に適用した場合に、シリコンウエハ等の板状試料の面内に局所的な温度分布を生じさせることにより、プラズマ印加に伴う経時的な温度変化の調整や広い温度範囲での温度の調整が可能であり、板状試料の局所的な温度制御を行うことが可能な静電チャック装置を提供する。 - 特許庁 - A noncontact temperature measuring device 1 measures the temperature distribution of a sample stand and comprises: a sample base 10 placed on the sample stand 20, an electron beam source 2 for applying electron beams; a secondary electron detector 3 detecting secondary electrons induced by the irradiation of electron beams; and a temperature measurement section (signal processing section 7) for measuring temperature distribution, based on the induced secondary electrons.
非接触温度測定装置１は、試料台の温度分布を測定する装置であり、試料台上２０に載置される試料ベース１０と、電子線を照射する電子線源２と、電子線照射によって誘起される二次電子を検出する二次電子検出器３と、検出した二次電子に基づいて温度分布を測定する温度測定部（信号処理部７）とを備える。 - 特許庁 - The abnormality determination processor 58 watches transmission power, drain current, drain voltage, ambient temperature, and joint part temperature of MMIC, based on the monitoring result of a current monitor 35, an ambient temperature monitor 36, a DVC temperature monitor 37, including a control processing part 54.
異常判定処理部５８は、制御処理部５４が取り込んだ、電流モニタ３５のモニタ結果と周囲温度モニタ３６のモニタ結果とＤＶＣ温度モニタ３７のモニタ結果とに基づき、送信電力とドレイン電流とドレイン電圧と周囲温度とＭＭＩＣの接合部温度とをそれぞれ監視し、異常が発生すると、異常結果出力部５９から外部や上位の処理系に報知する。 - 特許庁 - It is judged whether the current states of respective input devices correspond to conditions for detecting ambient temperature TE1 as temperature nearby a photosensitive drum 1 in a state wherein the influence of a rise in temperature due to image formation processing is a little, and when so, the image formation conditions are corrected by using a correction quantity calculated according to the detected ambient temperature TE1.
現在の各入力機器の状態が、画像形成処理による温度上昇の影響の少ない状態での感光体ドラム１近傍の温度である環境温度ＴＥ１を検出する条件に該当しているか否かを判断し、該当している場合には検出した環境温度ＴＥ１に基づいて算出した補正量による画像形成条件の補正を行う。 - 特許庁 - A permissible-temperature setting portion 41 sets a permissible temperature which is such a temperature around the logarithmic transformation type image pickup device 22 that the degree of deterioration of the image quality is within a range permitted in an image processing apparatus 13, on the basis of an object illuminance detected by an object illuminance detection portion 12 and supplies information indicative of the set permissible temperature to the notification portion 42.
許容温度設定部４１は、被写体照度検出部１２により検出された被写体照度に基づいて、画質の劣化の度合いが画像処理装置１３において許容される範囲内となる対数変換型撮像素子２２の周囲の温度である許容温度を設定し、設定した許容温度を示す情報を通知部４２に供給する。 - 特許庁 - The electric oven 1 is provided with plural baking parts arranged in a baking room 10, electric heaters 210, 220, 230, 240, 250 corresponding to respective baking parts, temperature sensors 51 to 54 corresponding to respective baking parts, and a temperature controller 7 for controlling the temperatures of respective baking parts by processing temperature information detected by respective temperature sensors 51 to 54.
電気オーブン１は、焼成室１０内に設けてある複数の焼成部と、各焼成部に対応して設けてある電熱ヒーター２１０，２２０，２３０，２４０，２５０と、各焼成部に対応して設けてある温度センサー５１，５２，５３，５４と、上記各温度センサー５１，５２，５３，５４が検知する温度情報を処理することにより、各焼成部の温度調節を行う温度調節器７を備えている。 - 特許庁 - A microcomputer in the blood sugar meter includes a process for determining whether or not the temperature variation is within an allowance from a difference in temperature between the thermistors, and, in cases where the allowance is exceeded, suspending processing until the temperature variation falls within the allowance if the value measurement is not yet performed, and discontinuing the value measurement if the value measurement is in progress.
そして、夫々の温度差から温度変動が許容範囲内であるか否かを判定し、許容範囲を超えていれば、血糖値計測直前までなら温度変動が許容範囲内になるまで処理を一時停止し、血糖値計測中なら血糖値計測処理を中断する処理を、血糖計のマイコンに含ませた。 - 特許庁 - When an engine 3 is stopped by IG key operation, charge quantity of a lead-acid battery 2 is stored as last time remaining quantity by a charge quantity storage means of a control processing part 12a and cooling water temperature is stored as last time completion water temperature by a cooling water temperature storage means of the control process part 12a.
ＩＧキーの操作でエンジン３が停止したときに、制御処理部１２ａの充電量記憶手段により鉛バッテリ２の充電量を前回残量として記憶し、制御処理部１２ａの冷却水温度記憶手段により冷却水温度を前回終了時水温として記憶する。 - 特許庁 - The temperature sensor has a constitution wherein a temperature measuring part of the thermocouple is covered with a prescribed metal member 53, and a bending part 51a is formed on the protection tube, and the temperature measuring part of the thermocouple which is inserted into one side of the protection tube is positioned on the bending part, and the bending part is arranged close to a processing object W in the heating furnace F.
熱電対の測温部が所定の金属部材５３で覆われ、保護管に屈曲部５１ａが形成され、この屈曲部に、保護管の一方に挿通された熱電対の測温部を位置させると共にこの屈曲部が加熱炉Ｆ内で処理対象物Ｗに近接配置されるように構成される。 - 特許庁 - After manufacturing a thin film by the thin film manufacturing method based on the CVD method for forming a film on a substrate heated to the decomposition temperature or more of raw material gas by using film formation gas consisting of the raw material gas and reaction gas, crystallization annealing processing is performed at a temperature lower than the film formation temperature of the thin film.
原料ガスと反応ガスとの成膜ガスを用いて、原料ガスの分解温度以上に加熱された基板上で成膜せしめるＣＶＤ法による薄膜製造方法に従って薄膜を製造した後、さらにこの薄膜の成膜温度よりも低い温度で結晶化アニール処理を行う。 - 特許庁 - On the basis of the control from the control unit 20, the digital processing unit 15 carries out the digital adjustment for reducing gradually the acoustic effect as the temperature detected by the temperature sensor 17 increases, the switching connection unit 13 connects the audio signal AD to the amplifier when the detected temperature is over the prescribed ceiling limit.
制御部２０からの制御に基づき、デジタル処理部１５は、温度センサ１７による検出温度の上昇に伴い音響効果を徐々に低減させるデジタル調整を行い、切替接続部１３は、検出温度が所定の上限温度を超えたときにオーディオ信号ＡＤの増幅部１２への接続を行う。 - 特許庁 - The manipulation characteristic of the device 10 is automatically corrected in real time in accordance with the temperature (device temperature) of the device 10 measured by a temperature measuring instrument 21, by which the exposure of the photographic paper is maintained at a correct value in an exposure processing section (exposure device) of the digital print device using the device 10.
デジタルマイクロミラー装置１０を用いたデジタルプリント装置の露光処理部（露光装置）においては、温度測定器２１によって測定されたデジタルマイクロミラー装置１０の温度（装置温度）に基づいて、デジタルマイクロミラー装置１０の操作特性がリアルタイムで自動的に補正され、印画紙７の露光量が適正値に保持される。 - 特許庁 - This wool is produced by a method comprising charging wool, water, and a penetrating agent in an identical processing machine, subjecting the wool to an immersing pre-treatment at ordinary temperature, sequentially continuously charging an acidic solvent, a hypochlorite solution, and then a pyrophosphate solution at ordinary temperature or as a low temperature at suitable intervals, heating, and immersing for a constant time.
同一加工機内にウール、水、及び浸透剤を投入後、常温で浸漬して前処理し、次いで、先ず酸性溶剤、次に次亜塩素酸塩溶剤、続いてピロリン酸塩溶剤を、各々常温又は低温域で順次、適宜な間隔を設けて連続投入した後、加熱し、一定時間浸漬する方法で製造されたウール - 特許庁 - An overheat detection circuit 71 outputs the signal of the low level to the AND circuit 81 to de-energize the heater 41 and to turn the heater 41 off if the surface temperature T 2 captured from a second thermistor 79 is higher by the prescribed temperature ΔE 2 than the temperature suitable for the fixing processing in a non-paper pass section of the heating roll.
過温検知回路７１は、第２のサーミスタ７９から取り込んだ表面温度Ｔ２が加熱ロールの非通紙部における定着処理に適した温度よりも所定温度ΔＥ２だけ高い温度以上であると、ローレベルの信号をアンド回路８１へ出力し、ヒータ４１への通電を停止しヒータ４１をオフさせる - 特許庁 - This fluorescence temperature sensor for generating a temperature signal from fluorescence of the photo-excited fluorescent material 1 is equipped with: an LED 2 for projecting light to the fluorescent material 1; a photodiode 4 for receiving fluorescence emitted by the fluorescent material 1; and a signal processing circuit 5 for generating the temperature signal from an output of the photodiode 4.
光励起された蛍光材料１の蛍光から温度信号を生成する蛍光温度センサは、蛍光材料１に投光するＬＥＤ２と、蛍光材料１が発する蛍光を受光するフォトダイオード４と、フォトダイオード４の出力から前記温度信号を生成する信号処理回路５とを備える。 - 特許庁 - A print processing control circuit 11 receives the temperature and humidity inside a printer 7 from a temperature sensor 25 and a humidity sensor 27, reads and refers the printing environment property table from the memory 13 of the paper roll, receives the ink duty according to the received temperature and humidity, and reads the color conversion table according thereto.
印刷処理制御回路１１は、温度センサ２５及び湿度センサ２７によりプリンタ７内部の温度及び湿度を取得して、ロール紙メモリ１３から印刷環境特性テーブルを読込んで参照し、取得した温度及び湿度に応じたインクデューティを取得し、且つ、それに応じた色変換テーブルを読込む。 - 特許庁 - An illumination light color temperature measurement circuit 407 measures illumination light color temperature of an object using output signal of the second noise reduction circuit 406, a CPU 408 generates video processing adjustment parameter used for image pickup signals based on measurement result of the illumination light color temperature measurement circuit 407.
照明光色温度測定回路４０７によって、第２のノイズリダクション回路４０６の出力信号を用いて被写体の照明光色温度を測定し、ＣＰＵ４０８で照明光色温度測定回路４０７の測定結果に基づいて、撮像信号に使用する映像処理補正パラメータを生成する。 - 特許庁 - This tractor is characterized by displaying a recommended travel shift stage 158a and a recommended PTO shift stage 158b suitable for automatic regeneration processing of the DPF 163 when the exhaust gas temperature detected by an exhaust gas sensor 157 is the predetermined temperature or less, by arranging the exhaust gas sensor 157 for detecting the temperature of the exhaust gas.
排気ガスの温度を検出する排気ガスセンサ１５７を設け、該排気ガスセンサ１５７で検出する排気ガス温度が所定温度以下ではＤＰＦ１６３の自動再生処理に適した推奨走行変速段１５８ａと推奨ＰＴＯ変速段１５８ｂを表示すべくしたことを特徴とするトラクタとする。 - 特許庁 - A warm water feed temperature Tjin before circulating a jacket, a discharge temperature Tjout after the circulation, a warm water flow rate Fw for circulating a feed pipe and a temperature Tc in a tank which are parameters necessary for determining cleaning timing are measured in a first heating step of a polymer synthesis process and input to an arithmetic processing part.
清掃タイミング決定するのに必要なパラメータであるジャケットを循環する前の温水の供給温度Ｔjin、循環後の排出温度Ｔjout、供給管を循環する温水の流量Ｆw、および槽内の温度Ｔcとがポリマー合成過程の第１昇温過程で測定されて演算処理部に入力される。 - 特許庁
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