「temperature processing」を含む例文一覧(2995)
＜前へ 1 2 .... 26 27 28 29 30 31 32 33 34 .... 59 60 次へ＞- In this internal pressurization type low-temperature air processing equipment, temperature of liquid oxygen inside a liquid oxygen separator 9 is normally measured and the condition (temperature → pressure) required for oxygen evaporation in the state is automatically calculated for adjusting an operation pressure of an air booster 4 as a supply source of boosted air.
本発明は、液体酸素分離機９の内部の液体酸素の温度を常時計測し、その状態の酸素蒸発に必要な条件(温度→圧力)を自動演算して、昇圧空気の供給元である空気昇圧機４の運転圧力を調整する内部昇圧式深冷空気分離装置である。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing a semiconductor device for forming an electrically conductive layer whose main component being Cu in a recess in an improved state of the embedding characteristics according to reflow processing even if the reflow processing at a high temperature ≥400°C is not carried out.
４００℃以上の高温でのリフロー処理を行わなくても、リフロー処理による埋め込み特性が改善された状態で、凹部内にＣｕを主成分とする導電層を形成する半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a processed treatment substrate which is capable of being heated to a uniform temperature by a simple method without increasing cost to a large extent, and to provide a processing treatment method which can carry out processing treatment properly by uniformly heating the treatment substrate.
大幅にコストを上昇させず、簡単な方法により均一な温度に加熱され得る被加工処理基板、および被加工処理基板を均一に加熱して良好に加工処理を行い得る加工処理方法を提供すること。 - 特許庁 - According to the captured recording medium information and the set content of each mode, a processing parameter determining section 101 captures a control parameter for an amount of laser beam for exposure and a control parameter for a fixing temperature from a processing parameter storage section 107.
そして処理パラメータ判別部101が、該取得した記録媒体の情報と各モードの設定内容に応じて、処理パラメータ格納部107から、露光用のレーザ光量の制御パラメータと、定着温度の制御パラメータを取得する。 - 特許庁 - To provide a photographic processor capable of producing an optimum temperature atmosphere for drying processing in a drying chamber in a short period of time while suppressing the capacity of a heater as much as possible, and stabilizing the driving processing for a photosensitive material.
ヒータの容量を極力抑えた上で乾燥室内を短時間に乾燥処理に最適な温度雰囲気にすることができ、感光材料に対する乾燥処理の安定化を図ることができる写真処理装置を提供する。 - 特許庁 - The temperature of the air to be sprayed is controlled by comprehensively judging the processing method of the synthetic resin film by utilizing the slackening quantity of the synthetic resin film after stretch processing and the temperatures of the film at the inlet and outlet of the stretching roll.
伸展加工後の合成樹脂フィルムの弛み量を利用して、伸展ロールの入口及び出口のフィルム温度を利用して、さらには上記を総合的に判断して、吹き付ける気体の温度を制御する特徴を有す。 - 特許庁 - To reduce temperature rise of a substrate due to heat transfer from a tray after plasma processing termination, in a plasma processing apparatus for arranging a tray with a substrate housed in a substrate housing hole on a substrate susceptor.
本発明は、基板収容孔に基板を収容したトレイを基板サセプタ上に配置するプラズマ処理装置において、プラズマ処理終了後のトレイからの伝熱による基板の温度上昇を低減することを課題とする。 - 特許庁 - To perform quick and proper fixing processing by avoiding interruption of fixing processing due to temperature abnormality of a heating member by a simple configuration when using a plurality of kinds of recording papers to perform continuous print.
複数種類の記録紙を用いて連続的な印刷を行う場合に、簡易な構成により加熱体における温度異常の発生による定着処理の中断を回避し、迅速かつ適正な定着処理を可能とする。 - 特許庁 - The ECU 30 executes processing of determining whether the engine water temperature is low enough to be below a prescribed value B (step S108), and executes processing of reflecting the learning value shift in the air-fuel ratio learning value (step S 110).
ＥＣＵ３０が、エンジン水温が所定値Ｂを下回るほどに低いか否かを判定する処理を実行し（ステップＳ１０８）、空燃比学習値に対して学習値ずれ分を反映する処理を実行する（ステップＳ１１０）。 - 特許庁 - To provide a processing method for a photographic sensitive material in which rapid processing of films is enabled while the replenishment rate of a fixing solution and the temperature of the fixing solution are kept low so as that an insufficiently fixed film is eliminated.
不十分に定着されたフィルムが排除されるように、定着液の補充率および定着液の温度を低く維持する一方フィルムの迅速処理を可能にする写真感光材料の処理方法を提供する。 - 特許庁 - A processing device 3 in a financial institution dealing with the purchaser freezes the account balance corresponding to a purchaser's request, generates a temperature payment money which is money information including temporary payment information, and transmits it to a commodity purchaser processing device 1.
購入者取引金融機関処理装置３は、購入者の依頼に応じてその口座残高を凍結し、仮決済情報を含む金銭情報である仮決済マネーを生成して、商品購入者処理装置１に送信する。 - 特許庁 - In this near infrared analysis method of the ground fish meat, the ground fish meat to be measured is frozen, and a raw spectrum is subjected to WSC processing by using a fiber probe at a temperature below -5°C in the frozen state of the ground fish meat, and its secondary differential processing spectrum is subjected to PLS regression analysis.
測定すべきすり身を冷凍し、すり身を凍結状態のまま、−５℃以下の温度で、ファイバープローブを使用し、生スペクトルをMSC処理し、その二次微分処理スペクトルをPLS回帰分析することすり身の近赤外分析方法。 - 特許庁 - To provide a plasma processing apparatus preventing temperature lowering of an outer peripheral part of an object to be processed to attain uniform plasma processing in placing a substrate to be processed on a placing table to plasma-process the substrate by heat.
被処理基板を載置台上に載置し、加熱しつつプラズマ処理を行う際に、被処理体の外周部の温度が低下することを防止して均一なプラズマ処理を行うことができるプラズマ処理装置を提供すること。 - 特許庁 - To provide a temporary fixing material capable of fixing a substrate temporarily onto a support at a low temperature and having resistance to a chemical, and to provide a processing method of a substrate using the temporary fixing material, and an electronic component obtained by the processing method.
低温で基材を支持体上に仮固定でき、かつ薬液に対する耐性を有する仮固定材、前記仮固定材を用いた基材の処理方法、および前記処理方法によって得られる電子部品を提供する。 - 特許庁 - To provide a processing composition for a silver halide color photographic sensitive material which reduces stain due to a sensitizing dye remaining in the sensitive material after processing and does not form a deposit or precipitate in storage at a low temperature.
処理後において感光材料の残留増感色素に起因するステインの低減され、かつ、低温保存時において析出沈殿物が生じないハロゲン化銀カラー写真感光材料用処理組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a plasma processing device and a plasma processing method wherein, when a resist pattern is removed by an ashing process of a low temperature RIE system, it is possible to remove a polymer in a side wall around a substrate and a bevel with a simple configuration.
レジストパターンを低温ＲＩＥ方式のアッシング処理で除去する際、基板周辺の側壁部やベベル部のポリマーの除去を、簡単な構成により可能にするプラズマ処理装置及びプラズマ処理方法を提供する。 - 特許庁 - In a processing chamber 1 of a deposition apparatus 100, a wafer W on which a polyimide film 81 is formed is heated at a temperature of 110°C or more to 400°C or less with a CO gas being introduced to the processing chamber 1 and heat treatment is performed on the polyimide film 81.
成膜装置１００の処理容器１内で、処理容器１内にＣＯガスを導入しながら、ポリイミド膜８１が形成されたウエハＷを１１０℃以上４００℃以下の温度で加熱し、ポリイミド膜８１を熱処理する。 - 特許庁 - The image display device 1 has: a control means 70A which generates signals for driving the display elements 50R, 50G, 50B by using input video signals and gamma conversion data provided for every composition color; a temperature detection means 80 which detects temperature; and a correction processing means 70B which performs correction processing of the gamma conversion data for every composition color in accordance with the detected temperature.
画像表示装置１は、表示素子５０Ｒ，５０Ｇ，５０Ｂと、入力映像信号と構成色ごとに設けられたガンマ変換データとを用いて表示素子を駆動するための信号を生成する制御手段７０Ａと、温度を検出する温度検出手段８０と、該検出された温度に応じて、構成色ごとのガンマ変換データの補正処理を行う補正処理手段７０Ｂとを有する。 - 特許庁 - The high-pressure vapor processing step is carried out in an atmosphere of a temperature of >100°C and <300°C and pressure of maximum vapor pressure to ≥1 atmosphere, or in an atmosphere of a temperature of 150 to 200°C and the maximum vapor pressure.
この高圧水蒸気処理工程を、１００℃を超え３００℃未満の温度と１気圧を超え飽和蒸気圧以下の圧力とからなる雰囲気下で行うこと、又は、１５０℃〜２００℃の温度と飽和蒸気圧とからなる雰囲気下で行うことが好ましい。 - 特許庁 - In this temperature detection device 10, a temperature detection element 11 is equipped in a casing 110 with a substrate 120, the first optical system 131, the second optical system 132, the first Si photodiode 141, the second Si photodiode 142 and a signal processing part 150.
温度検出装置１０は、温度検出素子１１において、筐体１１０内に、基板１２０，第１光学系１３１，第２光学系１３２，第１Ｓｉフォトダイオード１４１，第２Ｓｉフォトダイオード１４２および信号処理部１５０を備える。 - 特許庁 - The deposition and processing of the layer is carried out under thermal condition in which one or a plurality of layers deposited and processed underneath, particularly an organic material, is not subjected to a static temperature or a dynamic temperature excessively exceeding limitation for stability.
層の蒸着及び処理は、すでに蒸着されて処理された下にある単数又は複数の層、特に有機材料を、安定のための限界を超える過度な静的又は動的温度に晒さないような熱的条件下で行われる。 - 特許庁 - To provide a staple fiber nonwoven fabric reducing processing temperature in thermal bonding, suppressing decrease of adhering force in using under an atmosphere at a high temperature, excellent in durability and mechanical performance and excellent in texture and flexibility.
熱接着処理する際の加工温度を低くすることができ、高温雰囲気下で使用した際にも接着強力の低下が少なく、耐久性や機械的特性に優れ、かつ地合や柔軟性にも優れる短繊維不織布を提供する。 - 特許庁 - To provide a surface-coated tool for remarkably improving performance, by exhibiting superior abrasion resistance, even under a severe work environment such as becoming the extremely high temperature in the edge temperature in cutting work like superhigh speed cutting and high speed dry processing.
超高速切削や高速ドライ加工のように切削作業時の刃先温度が極めて高温になるような過酷な作業環境下においても、優れた耐摩耗性を示すことにより性能が飛躍的に向上した表面被覆工具を提供する。 - 特許庁 - The activated carbon is obtained by processing the activated carbon material through carbon oxide gas containing low temperature plasma treatment or boric acid containing water vapor low temperature plasma treatment, and the obtained activated carbon is formed and employed as the polarizable electrode for the electric double layer capacitor.
活性炭は活性炭材料を含炭酸ガス低温プラズマ処理または含ホウ酸水蒸気低温プラズマ処理することによって得られ、得られた活性炭を用いて成形され、電気二重層キャパシタ用分極性電極として用いられる。 - 特許庁 - The main controller 2 controls the condition so that the processing such as the cooling, freezing, thawing, heating, custody, etc., of food material may be performed under preset temperature conditions, by receiving the temperature data related to each kitchen apparatus 6 from each terminal controller 5.
主管理装置２は、各端末管理装置５から各厨房機器６に関する温度データなどを受け取ることで、食材の冷却、冷凍、解凍、加熱および保管などの加工が予め設定した温度条件で行われるように管理する。 - 特許庁 - The image capturing section 6 captures a moving image and the data processing section 7 detects the body temperature of the living body from the maximum value of the time-series variations of the temperature data corresponding to the pixel values of the moving image and detects the respiration state of the living body.
画像撮影部６は動画撮影を行い、データ処理部７は前記動画の画素値に対応する温度データの時系列的な変化の極大値から生体の体温を検出すると共に、生体の呼吸の状態を検出する。 - 特許庁 - The activated carbon is obtained by processing activated carbon material through carbon oxide gas containing low temperature plasma treatment or boric acid containing water vapor low temperature plasma treatment and, in this case, the activated carbon material is preferable to be the activated carbon material obtained by carbonating and activating a carbon quality material.
活性炭材料を含炭酸ガス低温プラズマ処理または含ホウ酸水蒸気低温プラズマ処理してなる活性炭であり、この活性炭材料が炭素質材料を炭化し賦活して得られた活性炭材料が好ましい。 - 特許庁 - To provide a heat processing apparatus of an object to be processed capable of accurately detecting the temperature of an object to be processed with accuracy and carrying out temperature control with high accuracy using an elastic wave element, such as a langasite substrate element, a lanthanum-tantalum acid gallium aluminum substrate element.
ランガサイト基板素子やランタンタンタル酸ガリウムアルミニウム基板素子等の弾性波素子を用いて被処理体の温度を精度良く正確に検出し、精度の高い温度制御を行うことが可能な被処理体の熱処理装置を提供する。 - 特許庁 - A correction function is previously stored in a correction processing unit 29 that is based on a relationship between a chamber temperature acquired by heat-treating a substrate 17 to be heat-treated which is placed on a hot plate 1 within a chamber 5, and a surface temperature of the substrate 17 to be heat-treated.
補正処理部２９には、予め、チャンバー５内のホットプレート１に載置した被熱処理基板１７を加熱処理して得られたチャンバー温度と被熱処理基板１７の表面温度との関係に基づく補正関数を格納しておく。 - 特許庁 - To provide a short fiber nonwoven fabric capable of decreasing the processing temperature in heat-bonding treatment, hardly causing a decrease in adhesive strength when used in a high temperature atmosphere, excellent in bulkiness and flexibility, and having excellent texture and mechanical properties.
熱接着処理する際の加工温度を低くすることができ、高温雰囲気下で使用した際にも接着強力の低下が少なく、嵩高性や柔軟性に優れ、かつ地合、機械的特性にも優れる短繊維不織布を提供する。 - 特許庁 - In the processing system and method for chemical treatment of substrate, the system includes a chemical treatment chamber placed under temperature control, and a substrate holder for supporting the substrate placed under the temperature control independent of chemical treatment.
化学的に基板を処理するための処理システムおよび方法であって、この処理システムは、温度制御される化学的処理チャンバと、化学的処理に対して独立して温度を制御される、基板を支持するための基板ホルダとを備えている。 - 特許庁 - In this case, temperature in the processing chamber is controlled by a temperature control device 58 and an exhaust pressure valve 52 is opened when a pressure in the chamber becomes higher than a given value to discharge the carbon dioxide and the cleaning coagent via a discharging liquid separating device 54.
この際、温度制御装置５８により処理室内の温度制御を行い、室内が一定圧力以上になると排圧弁５２が開き、排出液分離装置５４を経由して超臨界二酸化炭素と洗浄助剤とが排出される。 - 特許庁 - A control part 100 controls a heater for heat-up 16 to heat the interior of a reaction tube 2 to a predetermined temperature and supplies a cleaning gas containing a fluorine gas and a silane gas from a processing gas introduction tube 17 to the reaction tube 2 with the reaction tube 2 heated to the predetermined temperature.
制御部１００は、昇温用ヒータ１６を制御して反応管２内を所定の温度に加熱した状態で、処理ガス導入管１７から反応室２内にフッ素ガスとシランガスとを含むクリーニングガスを供給する。 - 特許庁 - To obtain a method for the plate-making of a planographic plate and an automatic developing machine having no possibility of the occurrence of loss caused by inadequately set temperature conditions and a fact that the set temperature condition is wrong due to an operation error, etc., and capable of improving the processing efficiency.
設定した温度条件が不適切であったり、操作ミス等により設定した温度条件が異なることによる損失を生じる恐れがなく、処理効率も向上できる平版印刷版の製版方法、及び、自動現像機を得る。 - 特許庁 - Thereby, there is no tightening force generated on the anode electrode nor a difference in temperature in the anode electrode due to uneven quantity of heat transmitted to the electrode, preventing the uneven plasma processing due to the difference in the temperature of the anode electrode, the destruction of the anode electrode due to thermal stress or other problems.
これにより，アノード電極に締め付け力や伝熱量の不均一による温度差が生じることがなく，アノード電極の温度差によるプラズマ処理性能の不均一や熱応力によるアノードの破損などを防止できる。 - 特許庁 - To provide the element temperature control device of an exhaust gas sensor for the purpose of controlling the temperature of a sensor element with high precision, even when initial change in the impedance characteristics is produced, in the sensor element to which high voltage application processing is applied.
本発明は、排気ガスセンサの素子温度制御装置に関し、高電圧印加処理が施されたセンサ素子にインピーダンス特性の初期的変化が生ずる場合であっても、センサ素子の温度を高精度に制御することを目的とする。 - 特許庁 - The displacement measuring device using an image sensor and an imaging optical system is so configured as to correct an image processing operation result, on the basis of the temperature of the sensor section of the image sensor and/or the temperature of a holding part for the lens of the imaging optical system.
画像センサと結像光学系を用いた変位測定装置において、前記画像センサのセンサ部の温度及び／又は前記結合光学系のレンズを支持する部分の温度をもとに画像処理演算結果を補正するように構成した。 - 特許庁 - According to the optimum controlled variables corresponding to combinations of previously stored temperature drop quantities detected by the 1st sensor 71 and 2nd sensors 73, the temperature of the thermal processing part 13 is controlled at the start of the operation of the device.
そして、予め記憶しておいた第１のセンサ７１、第２のセンサ７３によって検出される温度低下量のそれぞれの組み合わせに応じた最適な制御量に基づいて、装置運転開始時に熱処理部１３の温度制御を行う。 - 特許庁 - Since a heat storage roller 18 by which the temperature lowering of the guide member is suppressed is provided at least at one part of the guide member, the temperature lowering of the guide member is suppressed, so that the density lowering of the film is prevented regardless of the heat development processing number of the film.
案内部材の少なくとも一部に案内部材の温度低下を抑制する蓄熱ローラ１８を設けることで、案内部材の温度低下を抑制できるので、フィルムの熱現像処理数に拘わらずフィルムの濃度低下を防止できる。 - 特許庁 - To provide a heat treatment apparatus that suppress an adverse influence of gas supplied into a housing constituting a processing section on surface temperature of a substrate to be treated and makes uniform a temperature distribution on a surface of the substrate to be treated.
処理部を構成する筐体内に供給される気体による被処理基板の表面温度への悪影響を抑制すると共に、被処理基板表面の温度分布の均一化を図れるようにした熱処理装置を提供すること。 - 特許庁 - In a coating processing, durability and performance of the surface on combustion and the surfaces exposed to the high temperature are improved by reducing carbon or coke formed at a temperature of a maximum 700°F (about 371°C) on the surfaces.
コーティング処理は、燃焼に関わる表面および高温に曝される表面上に最高７００°Ｆ（約３７１℃）の温度で形成される炭素またはコークスを低減させることによってこれらの表面の耐久性および性能を向上させる。 - 特許庁 - When recovering errors during reading processing, if environment temperature is in a low-temperature range, an MPU 232 executes an ERP step (STEP X to STEP X+2) to increase heater power preferentially than to an ERP step (STEP X+3 to STEP X+5) to reduce heater power.
リード処理のエラーに対する回復処理において、環境温度が低温領域にある場合、ＭＰＵ２３２は、ヒータ・パワーを増加するＥＲＰステップ（STEP X〜STEP X+2）を、ヒータ・パワーを減少させるＥＲＰステップ（STEP X+3〜STEP X+5）よりも優先して実行する。 - 特許庁 - The DSP 14 carries out correction processing to an actual output value by a first temperature correction function correcting the actual output value by using a temperature sensitive value and a warp function correcting the actual output value by using an initial resisting value and an actual resisting value.
ＤＳＰ１４は、感温値を用いて実出力値を補正する第1温度補正関数、および、初期抵抗値および実抵抗値を用いて実出力値を補正する歪み関数によって実出力値に対して補正処理を行う。 - 特許庁 - To realize a temperature control type heat roller capable of realizing the prolongation of a service life and high speed heating and responding to processing speed at high speed in the case of systematizing with other digital equipment, and having no irregular temperature in an electrophotographic device such as a copying machine or a printer.
複写機やプリンター等の電子写真装置において、長寿命かつ高速加熱が可能で、他のデジタル機器とシステム化した際に処理スピードに高速に応答でき、しかも温度ムラのない温度制御型ヒートローラーを実現する。 - 特許庁 - In a processing system and a method for chemical treatment of a substrate, the system comprises: a chemical treatment chamber placed under temperature control; and a substrate holder for supporting the substrate placed under the temperature control independent of the chemical treatment.
化学的に基板を処理するための処理システムおよび方法であって、この処理システムは、温度制御される化学的処理チャンバと、化学的処理に対して独立して温度を制御される、基板を支持するための基板ホルダとを備えている。 - 特許庁 - In molding a multilayered structure by supplying a saponified ethylene/vinyl acetate copolymer to a melt molding machine having a die, the ethylene/vinyl acetate copolymer stagnated in the melt molding machine is allowed to stand at a temperature lower than the processing temperature at the time of melt molding by 0-100°C during a period wherein melt molding processing is again started after the melt molding processing is performed for a definite time.
エチレン−酢酸ビニル共重合体ケン化物及び他の樹脂をダイスを有する溶融成形機に供給して多層構造体を成形加工するにあたり、一定時間溶融成形加工を行った後に再度溶融成形加工を開始するまでの間、溶融成形機内に滞留しているエチレン−酢酸ビニル共重合体ケン化物を溶融成形時の加工温度より０〜１００℃低い温度で放置しておく。 - 特許庁 - By means of such a structure, smoking processing temperature in the smoking furnace 2 can be adjusted quickly and precisely, by increasingly and decreasingly adjusting the smoking amount ushered in the smoking furnace 2 side through the adjustment of the opening of the damper 7, without the adjustment of the combustion state in the combustion furnace 1, resulting in realizing proper smoking seasoning processing by properly keeping the smoking processing temperature.
係る構成によれば、上記燃焼炉１内の燃焼状態を調整せずとも、上記ダンパー７の開度調整によって、上記燻煙炉２側へ導入される燻煙量を増減調整して、上記燻煙炉２内の燻煙処理温度を迅速且つ的確に調整することができ、燻煙処理温度の適正維持によって良好な燻煙乾燥処理が実現される。 - 特許庁 - To overcome the problem that when an electrostatic chunk made of sprayed ceramic which is subjected to sealing processing by a silicon resin is used to apply high frequency power to a wafer in a high vacuum area (for example 100m Torr) for plasma processing, as the applied time of high frequency power, extends surface temperature of the wafer under plasma processing gradually drops lower than the initial surface temperature with time.
シリコーン樹脂によって封孔処理を行ったセラミック溶射製の静電チャックを用いて高真空領域（例えば、１００ｍＴｏｒｒ）で高周波電力を印加してウエハＷのプラズマ処理を行っていると、図７の に示すように高周波電力の印加時間が長くなるに連れてプラズマ処理中のウエハ表面温度が初期の表面温度から経時的に徐々に低下する。 - 特許庁 - To provide a support structure for an optical element that reduces deformation of the optical element due to variation in ambient temperature or an influence of a processing error or assembling error of a constituent member.
環境温度の変化や、構成部材の加工誤差若しくは組立て誤差の影響による光学要素の変形を低減した光学要素の支持構造を提供する。 - 特許庁 - The quantity of circulating refrigerant is controlled by the flow control valve 20 according to the temperature of the refrigerant made to flow out of the condenser 2, that is the status processing capacity of the condenser 2.
この流量制御弁２０により、コンデンサ２から流出される冷媒温度、つまりコンデンサ２の現状処理能力に応じて、冷媒の循環量を制御する。 - 特許庁
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