「temperature processing」を含む例文一覧(2994)
＜前へ 1 2 .... 31 32 33 34 35 36 37 38 39 .... 59 60 次へ＞- The ventilation air-conditioning facility 10 uses a multi-speed motor for the motor 38 for the blower and the motor 39 for the exhaust fan, and on the other hand, is provided with a ventilation air-conditioning facility control device 36 for signal-processing a temperature signal a from a temperature detector 37.
この換気空調設備１０は、送風機用電動機３８および排風機用電動機３９に多速度電動機を用いる一方、温度検出器３７からの温度信号ａを信号処理する換気空調設備制御装置３６を設ける。 - 特許庁 - To obtain a plate making method for a planographic printing plate which is capable of improving processing efficiency without the possibility of the occurrence of loss by the inadequateness of set temperature conditions and the difference in the set temperature conditions set by an operation error, etc., an automatic developing machine and a recording medium.
設定した温度条件が不適切であったり、操作ミス等により設定した温度条件が異なることによる損失を生じる恐れがなく、処理効率も向上できる平版印刷版の製版方法、自動現像機、及び記録媒体を得る。 - 特許庁 - This apparatus for measuring the amount of change is constituted of an A/D conversion circuit, for converting a signal voltage outputted from the sensor from analog form into digital form and outputting A/D conversion values; a temperature sensor for detection the temperature of the sensor; a memory for storing tables; and an arithmetic processing unit.
センサから出力される信号電圧をＡＤ変換してＡＤ変換値を出力するＡＤ変換回路と、前記センサの温度を検知する温度センサと、テーブルを格納するメモリと、演算処理装置とを具備する変化量検出装置を構成する。 - 特許庁 - Moreover, since the TiWN is excellent in the barrier performance even at a high temperature region, the reaction can be prevented between the Al in the Al-containing ohmic electrode 2 and the Au in the Au wire electrode 7 even when a high temperature anneal processing is applied to the semiconductor device 100.
また、ＴｉＷＮは高温域においてもバリア性に優れていることから、半導体装置１００に高温アニール処理を施しても、Ａｌ含有オーミック電極２中のＡｌとＡｕ配線電極７中のＡｕとの反応を防止することができる。 - 特許庁 - An arithmetic processing circuit 6 compares a detecting temperature of a laser diode 4 detected by a thermistor 4 with its target temperature to obtain its deviation, and calculates an optimum Peltier element on time Ton in a predetermined control period T in response to the obtained deviation.
演算処理回路６は、サーミスタ４が検出するレーザダイオード４の検出温度をその目標温度と比較してその偏差を求め、この求めた偏差に応じて、所定の制御周期Ｔ内において最適なペルチェ素子オン時間Ｔｏｎを算出する。 - 特許庁 - To provide a catalyst temperature distribution estimation device, method, and program for estimating temperature distribution without increasing computer processing burden with heat transfer in a catalyst taken into account.
この発明は、触媒温度分布推定装置、方法及びプログラムに関し、触媒における熱移動を考慮しつつ、コンピュータ処理負担を増大させることなく温度分布推定が可能な触媒温度分布推定装置、方法及びプログラムを提供することを目的とする。 - 特許庁 - To provide a temperature controlling method for an erasing light source in a radiograph information recorder/reader capable of reducing the cost and quickly starting erasing processing immediately after reading radiograph information without requiring a temperature control means.
温度調整手段を不要としてコストダウンを図るとともに、放射線画像情報の読み取り直後から速やかに消去処理を開始することができる放射線画像情報記録読取装置における消去用光源の温度制御方法を提供する。 - 特許庁 - In concrete, an abnormal overheating temperature setting processing section 132 of the abnormality monitor circuit 13 sets abnormal overheating temperature corresponding to not only the state signal, but also the driving state (detection result by a rotation detection sensor 32) of the driving motor 31.
具体的には，異常監視回路１３の異常過熱温度設定処理部１３２が，前記状態信号だけでなく，前記駆動モータ３１の駆動状態（回転検出センサ３２による検出結果）にも応じた異常過熱温度を設定するように構成する。 - 特許庁 - To provide a stove burner capable of preventing abnormal rise of an ambient temperature caused by user's operation to increase a heating amount after performing a processing to lower the ambient temperature by forcibly reducing the heating amount of a heating means in the stove burner.
加熱手段の加熱量を強制的に減少させて周囲温度を低下させる処理を行うコンロにおいて、該処理が行われた後の使用者による加熱量の増加操作により、周囲温度が異常に上昇することを防止したコンロを提供する。 - 特許庁 - In a pre-process for processing a substrate before forming a gate oxide film on a silicon carbide semiconductor substrate, while keeping the temperature of the substrate in a range from the room temperature to 1200 degree centigrade and applying ultraviolet rays to the substrate, the substrate is exposed to ozone to form the interface between oxide film/silicon carbide.
炭化珪素半導体基板上に、ゲート酸化膜を形成する前の基板前処理工程において、基板の温度を室温から１２００℃の範囲に保ち、紫外線を照射しつつオゾン暴露を行って酸化膜／炭化珪素界面の作成する。 - 特許庁 - To provide a photocurrent sensor which is capable of temperature compensation without having any temperature compensation device, has polarization non-dependence, and enables simplification and speeding-up of an arithmetic processing device for performing arithmetic operation, and enables stable operation of a light source.
何らかの温度補償装置を装備することなく温度補償を可能とし、偏光無依存性で且つ、演算処理を行う演算処理装置の簡略化と高速化が実現可能であると共に、光源の安定動作が可能な光電流センサの提供。 - 特許庁 - Using a measuring function part obtained by integrating a temperature measuring function to a region to be measured and a function of imposing a thermal load, the apparatus carries out processing for extracting a temperature variation portion accompanied with recovery of a surface temperature by a blood stream from the result of measurement obtained by the measuring function part to measure the blood sugar level or metabolic rate.
被測定部位に対する温度計測機能と熱負荷を与える機能を統合した測定機能部を用い、測定機能部により得られる測定結果から、血流による表面温度回復に伴う温度変化分を抽出するための処理を行うようにし、血糖値および代謝量を測定する装置を提供する。 - 特許庁 - In a method for forming a polycrystalline silicon layer on the glass substrate, a thin film layer is formed on the glass substrate 50 by preheating the glass substrate 50, depositing an amorphous silicon precursor layer on the substrate at a primary temperature, and annealing the substrate in thermal processing chambers 52, 54, 56, 58 at a secondary temperature sufficiently higher than the primary temperature to substantially reduce hydrogen concentration in the precursor layer.
ガラス基板５０を予熱し、その基板上に非結晶シリコン先駆層を一次温度で堆積させ、熱処理チャンバ５２，５４，５６，５８内において基板を一次温度よりも十分に高い二次温度でアニーリングして先駆層内における水素濃度を実質的に減少させることによってガラス基板５０上に薄膜層を形成できる。 - 特許庁 - When a state of the vehicle satisfies a temporary determination condition corresponding to the abnormal connection of the first temperature sensor 30, the HV control computer 8 determines the diagnosis of the abnormal connection on the basis of the result of confirmation processing of raising the rear wheel driving motor MGR and confirming whether a detection value of the first temperature sensor 30 shows a change corresponding to the raised temperature.
ＨＶコントロールコンピュータ８は、車両の状態が第１の温度センサ３０の結線異常に対応する仮判定条件を満たす場合には、後輪駆動モータＭＧＲの温度を上昇させ第１の温度センサ３０の検出値が対応する変化を示すか否かを確認する確認処理の結果に基づいて結線異常の診断を確定する。 - 特許庁 - The cooling medium flowing through the passing hole 15 gradually cools the material flow by taking the processing heat of the material 1 through heat conduction due to temperature difference from the material 1 flowing into the tool block 3 through the supply hole 4, and lowers the temperature at the die extruding port d where the material temperature reaches the maximum point.
本発明によれば、冷媒通過孔１５を流れる冷却媒体は、供給孔４を通じて工具ブロック３内に流入した押出材料１との温度差による熱伝導により材料１の加工熱を奪って材料フローを流入直後から徐々に冷却し、材料温度が最高点に達するダイス押出口ｄ部での温度を下げる。 - 特許庁 - In the data processing system 100, specified temperature of the specified consumable article PT consumed by the general consumer in the specified space is detected, and start of detection of the specified temperature is interlocked with start of output of digital content DC, and also finish of the detection of the specified temperature is interlocked with finish of the output of the digital content DC.
データ処理システム１００は、特定スペースで一般消費者に消費される特定消費商品ＰＴの特定温度を検出し、その特定温度の検出開始とデジタルコンテンツＤＣの出力開始とを連動させるとともに、特定温度の検出終了とデジタルコンテンツＤＣの出力終了とを連動させる。 - 特許庁 - This method for manufacturing the micro lens includes processes of: forming a resist pattern on a base surface; forming a thermal contraction membrane on the surface of the resist pattern; performing thermal processing at temperature equal to or higher than glass transition temperature of the resist pattern and equal to or hither than contraction starting temperature of the thermal contraction membrane and exfoliating the thermal contraction membrane.
基体表面にレジストパターンを形成する工程と、前記レジストパターン表面に、熱収縮性皮膜を形成する工程と、前記レジストパターンのガラス転移温度以上であってかつ、前記熱収縮性皮膜の収縮開始温度以上の温度で熱処理を行う工程と、前記熱収縮性皮膜を剥離する工程とを含む。 - 特許庁 - Temperature abnormality of a back light 17 in a video display section is detected by a control circuit 4 and if temperature abnormality is detected during output of broadcast contents, the control circuit 4 starts recording processing of the broadcast contents due to a recording/playback circuit 8, suspends or suppresses electrification to the back light 17, and reports occurrence of temperature abnormality.
制御回路４により，映像表示部におけるバックライト１７の温度異常を検出し，放送コンテンツの出力中に温度異常が検出された場合に，録画・再生回路８によるその放送コンテンツの録画処理を開始させ，バックライト１７に対する通電を停止又は抑制し，温度異常が発生した旨の通知を行う。 - 特許庁 - To provide a quick heat treating apparatus wherein, even when semiconductor substrates having different reflectivities are subjected to spike anneal processing, maximum arrival temperature can be kept unchanged; temperature of the semiconductor substrate and a substrate support can be kept equal; and a temperature difference between the circumference of the contact of the semiconductor substrate with the semiconductor support and a portion other than the foregoing portion can be suppressed to be minimum.
急速熱処理装置において、異なる反射率の半導体基板をスパイクアニール処理しても、最高到達温度を一定に保ち、半導体基板と基板支持部の温度を等しく保ち、半導体基板の基板支持部との接触箇所周辺とそれ以外の箇所との温度差が最小となるよう抑制することを実現にする。 - 特許庁 - To provide a meat-producing system enabling a hydraulically driven system movable at a prescribed low temperature or a low temperature of ≤0°C obtained by using an antifreezing fluid to be used for the drive of a meat block-processing means by which the meat block is operated at a prescribed low temperature of ≥0°C to keep the freshness and bacteriocidal condition of the meat block.
食肉ブロック加工手段が０℃以上の所定の低温で操作されて食肉ブロックの鮮度及び殺菌性を良好に保持し得る食肉ブロック加工手段の駆動に、前記所定の低温、また不凍液を使用した０℃以下の低温で作動可能な水圧駆動システムを用いることを可能とした食肉製造システムを提供する。 - 特許庁 - A data normalizing processing part 512 corrects temperature by normalizing to reflect the individual temperature change parts of the pixel to detection result of emission brightness, and controls the emission brightness of the organic EL element so as to be constant white balance by using a voltage value corresponding to the emission brightness of each pixel of Red, Green and Blue obtained by the temperature correction.
そして、データ規格化処理部５１２において、発光輝度の検出結果に対して画素個々の温度変化分を反映させて規格化することによって温度補正を行い、この温度補正によって得られたＲ，Ｇ，Ｂの各画素の発光輝度に応じた電圧値を用いて一定のホワイトバランスになるように有機ＥＬ素子の発光輝度を制御する。 - 特許庁 - By the magnetic annealing, processing distortion introduced to the temperature sensing magnetic material at the time of pressure welding is eliminated, and temperature variation ratio dμ/dT of relative permeability can be made to be 10 or more where maximum value of the permeability before/after the curie point is 100 and minimum value is 1, so as to manufacture a clad material having excellent temperature controllability easily.
前記磁性焼鈍により、圧接の際に感温磁性材に導入された加工歪が除去され、キュリー点の前後における透磁率の最大値を１００、最小値を１とする相対的な透磁率の温度変化率ｄμ／ｄＴを１０以上にすることができ、優れた温度制御性を有するクラッド材を容易に製造することができる。 - 特許庁 - The process is characterized by comprising heating a rolled sheet at a temperature of 100°C or more before processing thereof or winding the rolled sheet, setting, to 10 hours or less, the time when the sheet is exposed to the temperature of 10°C or more when left to stand until machining and heating the sheet before machining at a temperature of 100°C or more.
圧延シートを加工する前に該シートを１００℃以上の温度で加熱する、あるいは、圧延されたシートを巻き取り、機械加工するまで放置する際に該シートが１０℃以上の温度に晒される時間を１０時間以内にすると共に、機械加工の前にシートを１００℃以上の温度で加熱することを特徴とするものである。 - 特許庁 - In the processing method, a photosensitive resin composition comprising a polybenzoxazole precursor and a photosensitive diazoquinone compound is applied, prebaked, exposed and developed to form a pattern, curing is carried out at a temperature higher than the prebaking temperature and lower than the final curing temperature, and after etching, the photosensitive resin composition is finally cured.
ポリベンゾオキサゾール前駆体と感光性ジアゾキノン化合物からなる感光性樹脂組成物を塗布、プリベーク、露光、現像し、パターンを作成した後、プリベーク温度より高い温度、ただし、最終硬化温度より低い温度にて硬化を行い、その後、エッチングし、感光性樹脂組成物を最終硬化する感光性樹脂組成物の加工方法である。 - 特許庁 - To provide a radiation temperature measuring method and a radiation temperature indicator, capable of accurately measuring a temperature of an object to be processed such as a semiconductor substrate, on the surface of which a thin film is formed and which is subjected to a surface treatment wherein emissivity varies every moment, by using a noncontact way without being affected by variations in the emissivity, and to provide a substrate processing apparatus employing them.
表面に薄膜が成膜されている半導体基板のように、放射率が刻々変化する表面処理中の被処理物の温度を、放射率の変動の影響を受けずに非接触で正確に測温することのできる温度測定方法と放射温度計、および、それを用いた基板処理装置を提供すること。 - 特許庁 - To provide a method capable of controlling a domain characteristic of a magnetoresistive sensor included in a head of an HDD without requiring a high temperature chamber for annealing processing in an HDD manufacturing process.
ＨＤＤの製造段階においてアニール処理用の高温チャンバを必要とせずに、ＨＤＤのヘッドに備えられた磁気抵抗センサの磁区特性を制御できる方法を提供する。 - 特許庁 - To provide an apparatus and a method of processing a substrate, which removes a natural oxide film or a contaminant such as an organic substance at a low temperature, and also to provide a manufacturing method of a semiconductor device.
低温で自然酸化膜または有機物等の汚染物を除去できる基板処理装置、基板処理方法、および半導体装置の製造方法を提供することにある。 - 特許庁 - To provide a device and a method for recording image that can stabilize the picture quality of an output body by suppressing a drop in temperature of a processing liquid caused by a photosensitive material after exposure and recording.
露光記録後の感光材料による処理液の温度低下を抑え、出力物の画質安定化を図ることのできる画像記録装置及び画像記録方法を提供する。 - 特許庁 - The ambient air 30 forcibly pulled in at least the one exhaust passage, enhances the effectiveness of at least the one exhaust processing device 24 by lowering the temperature of the exhaust gas 16.
少なくとも１つの排気通路内に強制的に引き込まれた周囲空気（３０）は、排気（１６）の温度を低下させて、少なくとも１つの排気処理装置（２４）の有効性を高める。 - 特許庁 - To provide a signal processing device capable of controlling the output value of a constant resistance circuit which varies depending on a temperature to be within an A/D input range at all times without changing the gain of an amplifier.
温度によって変動する定抵抗回路の出力値を、アンプのゲインを変えずに常にＡ／Ｄ入力範囲内にコントロールすることのできる信号処理装置を提供する。 - 特許庁 - This method for producing a polyester fiber structure is characterized by carrying out the weight-reduction processing treatment at an alkali concentration within the range of 300-700 g/L and a treating temperature within the range of 10-60°C.
アルカリ濃度が３００〜７００ｇ／ｌ、処理温度が１０〜６０℃の範囲で減量加工処理をすることを特徴とするポリエステル系繊維構造物の製造方法。 - 特許庁 - To provide metal, plastic and wood laminated resin compositions with excellent low temperature processing and abrasion resistance properties, particularly for production of improved impact resistant films and sheets or the like.
金属、プラスチックス、木材等に積層され、低温加工特性および耐擦り傷性に優れ、特に耐衝撃性が改善されたフィルム、シ−ト等を得るための樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a glycolic acid copolymer not getting colored so much and capable of maintaining its high quality even after subjected to a melt processing at a relatively high temperature, and a method for producing the same.
比較的高い温度における溶融加工においても着色が少なく、高い品質を維持できるグリコール酸共重合体及びそれを製造する方法を提供すること。 - 特許庁 - When the heating is completed; the heater is stopped, the pressure of the processing chamber is increased, and low temperature kept by the wafer case is transmitted to the wafer, thereby quenching the wafer.
また加熱終了後ヒーターを停止して処理室の圧力を上昇させると、ウエハーケースの保持している低い温度がウエハーに伝わり、ウエハーを急冷却させる事が出来る。 - 特許庁 - In a reaction tube 2 the internal pressure of which is reduced to a prescribed degree of vacuum, film formation is performed on the surfaces of wafers at a prescribed processing temperature by introducing an N2O gas and an SiH2Cl2 gas into the tube 2.
所定の真空度に減圧された反応管２内において、Ｎ2ＯガスとＳｉＨ2Ｃｌ2ガスとを導入して所定のプロセス温度にてウエハ表面に成膜を行う。 - 特許庁 - To provide a heat exchanger and a heat exchange processing method which can regulate temperature of fluid without depending on heat quantity of a heat source and prevent lowering of durability performance of the heat source.
熱源の熱量に依存することなく流体の温度調節を可能とし、熱源側の耐久性能の低下を防止した熱交換装置及び熱交換処理方法を提供する。 - 特許庁 - An estimation operation section 21 presumably calculates the temperature of the processing target 19 on the basis of the estimated initial value, the estimation parameter, and the first controlled variable PV1 when the detecting signal is inputted.
推定演算部２１は検出信号が入力されると、推定初期値、推定パラメータ、第１の制御量ＰＶ１に基づき処理対象１９の温度を推定演算する。 - 特許庁 - Out of the generated superheated vapor, only fine vapor particles pass a gas-water separation chamber 50, and they are re-heated in a secondary heating chamber 70 to a desired temperature and sent to a separation processing chamber 90.
生成した過熱蒸気のうち、微細な蒸気粒子のみが気水分離室５０を通過し、二次加熱室７０で所望の温度に再加熱されて分離処理室９０に送られる。 - 特許庁 - To provide a styrene-based resin composition that prevents thermal discoloration in a high-temperature heat history in molding and processing, etc., is especially suitable for optical uses of light guide plate, etc., and has excellent colorless transparency.
成形加工時などの高温熱履歴における加熱着色性を防止し、特に導光板等の光学用途に適した、無色透明性に優れるスチレン系樹脂組成物の提供。 - 特許庁 - By this setup, the measurement of the electric sensor 7 can be corrected for a temperature rise of the external surface 11 of the device due to plasma processing, and a state of plasma can be monitored with high accuracy.
これにより、プラズマ処理による装置外表面１１の温度上昇による、電気センサー７計測値の補正を可能とし、高精度にプラズマ状態をモニタすることができる。 - 特許庁 - The silica glass tube is formed by heating and processing the synthetic quartz material ingot at a temperature ranging from its softening point to 2,150°C, preferably at 1,800-2,150°C, more preferably at 1,900-2,150°C.
合成石英素材のインゴットを軟化温度〜２１５０℃、好ましくは１８００〜２１５０℃、より好ましくは１９００〜２１５０℃で加熱することにより加工して石英ガラス管を成形する。 - 特許庁 - To obtain a flexible non-combustible decorative sheet excellent in impact resistance and strength, having flexibility and adapted to a curved surface at a normal temperature without performing a special treatment such as watering or thermal processing.
耐衝撃性、強度に優れる上、フレキシビリティであり、水打ちや熱加工等の特殊な処理無しでかつ常温において曲面用途に用いることができる不燃化粧板を得る。 - 特許庁 - A photographic material is passed through a chamber holding a processing solution and is processed by raising the temperature of the solution when the material is passed through the chamber.
処理溶液を保持しているチャンバーに写真材料を通し、上記チャンバーに上記材料を通す際に、上記溶液の温度を上昇させることによって写真材料を処理する。 - 特許庁 - The presence of the defect such as the surface flaw 102 is determined by an information processing part 3, based on the surface temperature distribution detected by the infrared detector 2.
したがって、情報処理部３において、上記赤外線検知装置２により検知された表面温度分布に基づいて、表面疵１０２等の欠陥の有無を判定することができる。 - 特許庁 - To provide an exhaust emission control device of an internal combustion engine capable of suitably restraining an excessive temperature rise in a filter in regeneration processing caused by an organic soluble component (SOF) separated from an exhaust passage.
排気通路から剥離した有機可溶成分（ＳＯＦ）に起因する再生処理時のフィルタの過昇温を好適に抑えることのできる内燃機関の排気浄化装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a cutting fluid feeder capable of preventing the temperature of a cutting fluid from being raised and adaptable to such a case that a large amount of cutting fluid is supplied in a processing area.
切削液の温度上昇を防止可能であり、切削液を加工領域に大流量で供給するときにも対応可能な切削液供給装置を提供する。 - 特許庁 - To provide an adhesive tape having a low water absorption rate and a wide range of adhesion processing temperature from which a thin product is easily manufactured, and a semiconductor device formed using the tape.
吸水率が低く且つ接着加工温度が広く、さらに、薄厚製品の製造が容易な接着テープ及び該テープを用いて形成された半導体装置を提供する。 - 特許庁 - To provide an adhesive composition for optical members, forming adhesive layers which are excellent in durability under high temperature, are short in time until processing treatments, and have relatively high refractive indexes.
高温下での耐久性に優れるとともに、加工処理までの時間が短く、屈折率が比較的高い粘着剤層を形成する光学部材用の粘着剤組成物を提供する。 - 特許庁 - In each of the two cooling sections the filaments are brought into contact with processing air, i.e., cooling air of different rate and/or different temperature and/or different humidity.
これらのフィラメントは、これらの２つの冷却区画の各々の内で異なる流速及び／又は異なる温度及び／又は異なる湿度の処理空気つまり冷却空気に接触される。 - 特許庁 - To provide a processing method of wafer for making a silicon wafer having a precipitation of oxygen density optimal for a device by controlling increase/decrease in precipitation of oxygen density even in a low temperature process.
低温プロセスにおいても酸素析出物密度の増大／減少を制御し、デバイスにとって最適の酸素析出密度を持つシリコンウェーハを作成するウェーハ処理方法を提供する。 - 特許庁
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