「temperature processing」を含む例文一覧(2994)

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  • The operation processing part 6 determines the linear expansion quantity of the measuring object 9 from the deformation quantity of the gripping body 2 detected by the strain gage 4, and calculates the linear expansion coefficient of the measuring object 9 based on a temperature change measured by the temperature measuring means 5.
    演算処理部6は、歪みゲージ4によって検出される挟み体2の変形量から被測定物9の線膨張量を求めるとともに、温度測定手段5によって測定される温度変化に基づいて被測定物9の線膨張係数を算出する。 - 特許庁
  • The correction value calculation means 2a of a processing part 2 determines a firs correction value, when power is supplied to the device, on the basis of a correction value for correcting a frequency error preset in a nonvolatile storage part 5 and the device internal temperature measured by an internal temperature sensor 3.
    処理部2の補正値算出手段2aは、装置電源が投入されている時には、不揮発性記憶部5に予め設定された周波数誤差を補正するための補正値と、内部温度センサ3により測定される装置内温度に基づき、第1の補正値を求める。 - 特許庁
  • To provide a method and an apparatus for image processing whereby erasure faults such as remains without erase are prevented even when high-speed erasure at an erasure speed of not lower than 150 mm/sec is carried out under a low-temperature environment where an environmental temperature in the periphery of a thermal reversible recording medium after image formation is lower than 15°C.
    画像形成後の熱可逆記録媒体の周囲の環境温度が15℃未満の低温環境下において消去速度が150mm/sec以上の高速消去を行っても消し残り等の消去不良の発生がない画像処理方法及び画像処理装置の提供。 - 特許庁
  • To provide a production apparatus of a flexible tube for an endoscope which reduces a temperature drop in a heating furnace by disposing a spare heating furnace in front of an inlet of the heating furnace even when a hatch of the inlet of the heating furnace is opened, can recover the set temperature in a short time and can quickly execute the processing.
    加熱炉の入り口前に予備加熱炉を設けて、加熱炉の入り口の扉を開いても、加熱炉内の温度低下が少なく、早い時間で設定した温度に復帰でき、短い時間で処理できる内視鏡用可撓管製造装置を提供することにある。 - 特許庁
  • When the processing chamber 1 is closed and the wafer W on the stage 21 is heated to a temperature higher than a dew-point temperature of the solvent and lower than a boiling point, the solvent evaporates from the whole area of the solvent support 3 to form a saturated vapor atmosphere of the solvent between the wafer W and the solvent support 3.
    処理チャンバ1を閉じて、ステージ21上のウエハWを溶剤の露点温度よりも高く、沸点よりも低い温度に加熱すると、溶剤保持具3の全面から溶剤が蒸発し、ウエハWと溶剤保持部3との間に溶剤の飽和蒸気雰囲気が形成される。 - 特許庁
  • The dry distillation, gasification and incineration processing device comprises carbonization furnaces 2a, 2b, 2c; a combustion furnace 4; a combustion temperature detection means 18 for detecting the combustion temperature of flammable gas in the combustion furnace 4; and an oxygen supply means 5 for supplying oxygen required for burning the waste to the carbonization furnaces 2a, 2b, 2c.
    乾留炉2a,2b,2cと、燃焼炉4と、燃焼炉4における該可燃性ガスの燃焼温度を検知する燃焼温度検知手段18と、該廃棄物の燃焼に必要な酸素を乾留炉2a,2b,2cに供給する酸素供給手段5とを備える。 - 特許庁
  • Subsequently, the control unit 100 controls the temperature rising heater 16 to heat the interior of the reaction tube 2 housing the semiconductor wafer W to the film deposition temperature, before a thin film is formed on the semiconductor wafer W by supplying a film deposition gas into the reaction tube 2 from a processing gas introduction tube 17.
    次に、制御部100は、昇温用ヒータ16を制御して半導体ウエハWを収容した反応管2内を成膜温度に加熱した後、処理ガス導入管17から反応管2内に成膜用ガスを供給して半導体ウエハWに薄膜を形成する。 - 特許庁
  • When the heater is judged to be not working (S101) and that the predetermined time has elapsed after completing the heating processing by the heat roller (S102), the temperature in the image forming apparatus 1 is measured by the temperature sensor of the heat roller (S103), and the result of measurement is stored in a RAM (S104).
    ヒータが稼動中でなく(S101)、かつ、ヒートローラによる加熱処理が完了して後所定時間が経過していると判断される場合には(S102)、ヒートローラの温度センサによって画像形成装置1内の温度を計測し(S103)、その計測結果をRAMに格納する(S104)。 - 特許庁
  • In the standby state which is the non-processing state of a PS plate, a thermistor is used to detect the liquid temperature in the piping; and when the detection result is deviated from a prescribed range, a circulating pump is operated to send a developer in a developing tank into the piping, and the liquid temperature is detected again.
    PS版の非処理状態であるスタンバイ状態では、サーミスタを用いて配管内の液温検出を行い、検出結果が所定の範囲を外れると、循環ポンプを作動させて、現像槽内の現像液を配管内に送り込んで、再度液温検出を行う。 - 特許庁
  • Hot forging is executed while controlling a heating temperature of the element on starting the hot forging, a processing temperature of a non-heat treated section which is used with a surface state just as it is treated by the hot forging, a quantity of von Mises torsion introduced for the non-heat treated section and a hot forging parameter P_F.
    熱間鍛造は、熱間鍛造を開始するにあたっての素材の加熱温度、熱間鍛造が施されたままの表面状態で使用される非調質部位の加工温度、非調質部位に導入されるvon Mises歪の量、熱間鍛造パラメータP_F を制御しつつ行う。 - 特許庁
  • To provide a post processing system of engine exhaust which improves the energy efficiency at performing freezing prevention of a reducing agent and promotion of thawing while considering the temperature distribution of the reducer, and improves the energy efficiency when self-regeneration is promoted by considering the exhaust gas temperature distribution.
    還元剤の温度分布を考慮することにより、還元剤の凍結防止及び解凍促進を行うときのエネルギー効率を改善し、排気温度分布を考慮することにより、自己再生を促すときのエネルギー効率を改善するエンジンの排気後処理システムを提供する。 - 特許庁
  • A mechanism for measuring temperature of a high-voltage power supply circuit 16 output to an ion acceleration section of the flight-time type mass spectroscope is arranged, and correction of mass spectrum data measured at the same time is performed on a data processing section 18 by referring to temperature data.
    飛行時間型質量分析装置のイオン加速部に出力する高圧電源回路16の温度を計測する機構を設け、同じ時間に測定した質量スペクトルデータについて、温度データを参照して、質量スペクトルデータの補正をデータ処理部18で実施する。 - 特許庁
  • The arithmetic processing unit specifies the temperature of the sensor, in response to the reception of the A/D conversion value, reads an initial A/D conversion value indicating the initial pressure data corresponding to the temperature, and specifies the amount of change between the initial A/D conversion value and the A/D conversion value.
    そして、前記演算処理装置は、前記AD変換値の受信に応答して前記センサの温度を特定し、前記温度に対応する初期圧力データを示す初期AD変換値を前記テーブルから読み出し、前記初期AD変換値と前記AD変換値との変化量を特定する。 - 特許庁
  • The temperature of a steam discharge tube 15 disposed between a processing tank 8 and a condensation means 11 rises after the drying process is started to the steady condition, and after that, the temperature begins to lower as the drying degree of a processed object W is lowered, that is, as the quantity of the discharged steam is reduced.
    処理槽8と凝縮手段11との間に配設された蒸気排出管15の温度は、乾燥処理を開始すると定常状態まで上昇したのち、処理物Wの乾燥度の低下、即ち蒸気排出量の減少に伴って降下し始める。 - 特許庁
  • This method for processing the purple sweet potatoes comprises a preliminary treatment for soaking the purple sweet potatoes in an ascorbic acid treating solution at a temperature at the vicinity of the gelatinization temperature of starch contained in the purple sweet potatoes, a steaming process for steaming the purple sweet potatoes after going through the preliminary treatment, and a dry process for drying the steamed purple sweet potatoes.
    紫いもに含まれる澱粉の糊化温度近傍で、紫いもをアスコルビン酸処理液に浸漬処理する前処理行程を行った後、前処理行程を経た紫いもを、蒸煮する蒸煮工程を行い、その蒸煮された紫いもを乾燥する乾燥工程を行う。 - 特許庁
  • The sense current optimizing processing of a magnetic disk device includes steps for measuring the environmental temperature (S101, S102); and steps for searching a sense current Is which indicates the most excellent error rate (BER) at the temperature by defining a sense current value set from the viewpoint of reliability in the magnetic head 23 as an upper limit (S103-S108).
    磁気ディスク装置のセンス電流最適化処理は、環境温度を測定する段階(S101,S102)と、磁気ヘッド23の信頼性の観点から設定されたセンス電流値を上限として、その温度にて最も良好なエラーレート(BER)を示すセンス電流Isを探索する段階(S103〜S108)とを含む。 - 特許庁
  • To provide a temperature sensor and thermocouple, where an element is not broken even if an extra-fine thermocouple element wire is used for the temperature sensor of the processing unit of a semiconductor, and also raveling of an end part of a fiber insulator of a thermocouple element wire.
    半導体処理装置の温度センサーに極細熱電対素線を用いても素線が折損しない温度センサー及び熱電対を提供すること、及び熱電対素線の繊維質絶縁体の端部のほつれが発生しない温度センサー及び熱電対を提供する。 - 特許庁
  • To reuse a carbon material and a cured resin by providing a method of processing, which is excellent in safety and sanitation and in cost efficiency, and with which a carbon material/acid anhydride cured epoxy resin composite material is efficiently processed at a temperature equal to or lower than the temperature usually required for pyrolysis.
    安全衛生上および経済性に優れ、なおかつ通常熱分解に必要とされる温度以下で効率的に炭素材料/酸無水物硬化エポキシ樹脂複合材料を処理することのできる処理方法を提供することで、炭素材料と樹脂硬化物を再利用する。 - 特許庁
  • When detected temperature by a temperature sensor 36 is equal to or under a specified reference value (YES in the step S3), the warm-up operation is started by the control part 326 (step S4) and also processing for the color slurring correction is performed again by a color slurring correction control part 327.
    そして、温度センサ36の検出温度が上記所定の基準値以下のとき(ステップS3でYES)には、ウォームアップ制御部326によりウォームアップが開始される(ステップS4)とともに、色ずれ補正制御部327により色ずれ補正処理が再実行されるようにした。 - 特許庁
  • The cooker includes a heating part 11 for heating the cooked object, and a control part 10 for executing a cooking mode to make the heating part 11 continue a low-temperature heating processing for heating the cooked object at heating temperature in the range of 100-130 °C for at least one hour.
    被調理物を加熱する加熱部11と、加熱部11に対して、摂氏100度〜摂氏130度の範囲内の加熱温度で被調理物を加熱させる低温加熱処理を少なくとも1時間継続させる調理モードを実行する制御部10と、を備える。 - 特許庁
  • This PM burning system is provided with a PM combustion catalyst 10, a CPU 20 as an example of an arithmetic processing means, a temperature sensor 30, a temperature varying means 40, an oxygen concentration sensor 50, and an oxygen concentration varying means 60, and is mounted in an exhaust gas channel of an internal combustion engine (not shown in drawings).
    PM燃焼システムは、PM燃焼触媒10と、演算処理手段の一例であるCPU20と、温度センサ30と、温度可変手段40と、酸素濃度センサ50と、酸素濃度可変手段60とを備えており、図示しない内燃機関の排気流路に装着されている。 - 特許庁
  • The tractor is also characterized by automatically shifting to the recommended travel shift stage 158a and the recommended PTO shift stage 158b suitable for the automatic regeneration processing of the DPF 163 when the exhaust gas temperature detected by the exhaust gas sensor 157 is the predetermined temperature or less.
    また、排気ガスセンサ157で検出する排気ガス温度が所定温度以下では、自動的にDPF163の自動再生処理に適した推奨走行変速段158aと推奨PTO変速段158bに変速すべくしたことを特徴とするトラクタとする。 - 特許庁
  • An infrared signal is input and analyzed in the infrared image signal processing part 22 to find a temperature distribution of the inspection object 20, and the presence of the defect in the inspection object 20 and a size thereof are detected based on the temperature distribution.
    さらにこの赤外線映像信号処理部22において赤外線の信号を入力して解析することにより検査対象物20の温度分布を求め、この温度分布に基づいて検査対象物20の欠陥の有無並びに大きさを検出するように構成される。 - 特許庁
  • This vapor processing system is constituted of a water discharging plug 2 for hot water of high temperatures installed on a sink 1; a ventilation fan 7 for discharging out of a house the vapor generated from the hot water of high temperature discharged from the water plug 2; and a controller 9 for starting the ventilation fan 7 when the water plug 2 discharges the hot water of high temperature.
    流し1に設ける高温水の吐水用水栓2と、この水栓2が吐水する高温水から発生する蒸気を屋外に排気させる換気扇7と、この換気扇7を上記の水栓2が高温水を吐水すると始動させるコントローラ9とを備えて形成する。 - 特許庁
  • The heat transferred from the processing container 1 is reflected by an aluminum layer 33 toward the processing container 1 and when the heat of the processing container 1 cannot be fully reflected and the temperature of the aluminum layer 33 is raised, the dissipation of heat to the outside can be suppressed by laminating the aluminum layer 33 and a resin layer 34 in a heat insulation block 30 from the processing container 1 side in this order.
    また、断熱ブロック30の内部にアルミニウム層33と樹脂層34とを処理容器1側からこの順番で積層することによって、アルミニウム層33により処理容器1から伝熱される熱を当該処理容器1に向けて反射すると共に、処理容器1の熱を反射しきれずにアルミニウム層33が昇温した場合には樹脂層34により外部への放熱を抑えることができる。 - 特許庁
  • In this removal method for removing a silicon oxide film formed on a surface of a processing object W in a processing vessel 4 capable of being vacuumed, a removal process of removing the silicon oxide film by using HF gas and NH_3 gas and setting a set range of processing temperature to 150-200°C is executed.
    真空引き可能になされた処理容器4内にて、被処理体Wの表面に形成されているシリコン酸化膜を除去するための除去方法において、HFガスとNH_3 ガスとを用いると共に、処理温度の設定範囲として150〜200℃の範囲内に設定することによりシリコン酸化膜を除去する除去工程を行うようにした。 - 特許庁
  • To provide an air conditioner for tea-manufacturing factory that can simply exhaust the high-temperature and high-humidity air drifting near the tea-processing machine and causes no noise toward the inhabitants in the vicinity of the tea-manufacturing factory in order to improve the health and hygiene of the tea-processing workers and to increase the tea-processing efficiency and improve the quality of the processed tea leaves.
    本発明は、製茶加工作業者の健康と衛生、及び製茶加工能率と製品茶葉の品質向上の為、構造が簡単で、低価格で、製茶加工装置の近くに漂った高温多湿の空気を簡単に排気出来き、製茶工場の周りの住民の騒音とならない製茶工場空調装置を提供する事を課題としている。 - 特許庁
  • To provide a heat treatment apparatus which can reduce the installation floor area thereof, can heat chemical substances and processing substances under optimum temperature conditions, respectively, even when the processing substance is batch-processed by using the chemical substance having toxicity, and is superior in maintenance and safety for increasing the manufacturing yield of the processing substance.
    装置の設置床面積を小さくすることができるとともに、毒性を有する化学物質を用いて被処理物をバッチ処理する場合でもそれらの化学物質及び被処理物をそれぞれに最適な温度条件で加熱することができ、かつ被処理物の歩留まりを高めることができるメンテナンス性及び安全性に優れた熱処理装置を提供する。 - 特許庁
  • To provide a liquid processing agent composition having such satisfactory solubility as to cause no turbidity or precipitation during storage of the processing agent, such vessel coloration resistance as not to stain a vessel even in the case of a concentrated liquid formulation and such suitability to rapid development that color balance is not lost even when high temperature rapid development is carried out and to provide a development processing method using the composition.
    処理剤の保管中に濁りや沈殿が生じない十分な溶解度、濃厚な液剤であっても容器が汚れない容器着色耐性、高温・迅速現像を行なってもカラーバランスがくずれない迅速現像適性を併せ有する液体処理剤組成物、及びその組成物を用いた現像処理方法を提供すること。 - 特許庁
  • In this facility for processing exhaust gas of the ash melting furnace, the exhaust gas exhausted from the ash melting furnace 2 is introduced into a temperature reducing tower 3 having a tower wall heat-exchanged by cooling water, is cooled and simultaneously volume-reduced by a radiation cooling means, and the gas is performed with combustion processing by a combustion means 34 after dust removal processing.
    灰溶融炉の排ガスを処理する設備において、その灰溶融炉2から排出される排ガスを、冷却水により熱交換される塔壁を備える減温塔3内に導入して輻射冷却手段によって冷却すると同時に減容して、除じん処理後に、燃焼手段34によりガスを燃焼処理する。 - 特許庁
  • In an imaging apparatus including an imaging device, a video signal processing circuit, a means for detecting a flesh color, a means for varying a color tone of the detected flesh color and a means for detecting a color temperature of incident light, when incident light of a color temperature lower than an optical color temperature set to the imaging apparatus is detected, the detected flesh color is corrected into blue.
    撮像素子と映像信号処理回路と肌色を検出する手段と検出した前記肌色の色調を可変する手段と入射光の色温度を検出する手段とを有する撮像装置において、撮像装置に設定された光学色温度より低い色温度の入射光を検出した場合は、検出した前記肌色を青く補正する。 - 特許庁
  • A video processing apparatus includes an external light detection unit 1 which detects the ambient light, an illuminance calculation unit 2 which calculates the illuminance E from the output of the external light detection unit 1, an environmental color temperature calculation unit 3 which calculates the environmental color temperature, a video brightness detection unit 4 which detects the brightness information L of video, and a video color temperature correction unit 8.
    本発明に係る映像処理装置は、周囲光を検出する外光検出部1と、外光検出部1の出力から照度Eを算出する照度算出部2と、環境色温度を算出する環境色温度算出部3と、映像の明るさ情報Lを検出する映像明るさ検出部4と、映像色温度補正部8を有する。 - 特許庁
  • A CPU 301 obtains temperature information related to the desired cured state of an outer surface of ink in a step S320, and in the arithmetic processing of dose adjusting% in a step S700, dose of ultraviolet ray is determined for obtaining the desired cured state at the temperature corresponding to the acquired temperature information, based on the correlation.
    そして、CPU301が、ステップS320において、インクの外表面の所望の硬化状態に関連した温度情報を取得し、ステップS700の照射量調整%演算処理において、上記相関に基づき、当該取得した温度情報に対応した温度において上記所望の硬化状態を得るための、紫外線の照射量を決定する。 - 特許庁
  • This monitoring system includes: a thermography camera 41; a processing part 42 for calculating at least the area of a prescribed temperature region from temperature distribution image data generated by the thermography camera 41; and a determination part 43 for determining the presence/absence of a person to be monitored in a monitoring object region by the thermography camera 41 based on the area of the prescribed temperature region.
    本発明による監視システムは、サーモグラフィカメラ41と、サーモグラフィカメラ41により生成される温度分布画像データから少なくとも所定温度領域の面積を求める処理部42と、この所定温度領域の面積を基にサーモグラフィカメラ41による監視対象領域内の被監視者の有無を判定する判定部43とを含むことを特徴とする。 - 特許庁
  • A temperature sensitive ink layer 3 is formed on at least part of a design of a protrusion and recess processed part E executed by a stereoscopic expression by protrusion and recess processing tuned with the design, and the layer 3 is reversibly changed to have a density concealing a rough sketch at the ambient temperature or to be colorless and transparent at a body temperature or reversibly changed to different colors at the ambient and body temperatures.
    絵柄に同調した凹凸加工により立体的表現が施された凹凸加工部Eの前記絵柄の少なくとも一部に感温インキ層3を形成し、前記感温インキ層3を、常温では下絵を隠蔽する濃度を有するが、体温では、無色透明に可逆的に変化させるか、また常温と体温とでそれぞれ異なる色に可逆的に変化させる。 - 特許庁
  • A device for detecting failure of a thermostat is provided with a radiator water temperature sensor provided in a radiator side in relation to the thermostat and a control unit executing thermostat failure detection processing for detecting failure of the thermostat according to whether temperature detected by the radiator water temperature sensor changes by a predetermined amount or more when the engine reaches a predetermined warm up condition.
    サーモスタットの故障を検出する装置は、サーモスタットに対してラジエータ側に設けられたラジエータ水温センサと、エンジンが所定の暖機状態に達したならば、ラジエータ水温センサによって検出される温度が所定量以上変化したかどうかどうかに従ってサーモスタットの故障を検出するサーモスタット故障検出処理を実施する制御ユニットを備える。 - 特許庁
  • When engine oil is in a high temperature state (T1 or higher) and a high gear is set (a shift position is the third gear or higher), the ignition delay processing and the decrease processing of a fuel injection quantity are performed to reduce engine speed to be lower than N1.
    エンジンオイルの油温が高い(T1以上)状態であり、かつ、高いギアがセットされている(シフトポジションが3速以上)状態であるときには、点火遅角処理及び燃料噴射量を減量する処理を行うことによりエンジンの回転数をN1未満に低減させる。 - 特許庁
  • To relieve incurring of an energy loss due to cooling by a refrigerating machine and heating by a heater by providing an individual chamber, where a precision measuring apparatus or a precision processing machine, etc., is installed, in a room air-conditioned in a specified temperature range when precise measurement or precision processing is carried out.
    精密測定あるいは精密加工などをおこなう際、一定の温度範囲内に空調された部屋の中に、精密測定器あるいは精密加工機などを設置する個別の部屋(チャンバ)を設け、冷凍機で冷却し、ヒータで加熱することで生ずるエネルギーロスを軽減する。 - 特許庁
  • Since processing temperature is relatively low (about 150°C or less), even if a substrate K composed of plastics is used, the substrate K is not deformed or broken during processing and the micromachine 100 can be easily formed on a surface of the substrate K.
    処理温度が比較的低くなるため(約150°C以下)、プラスチックにより構成された基板Kを用いた場合においても、処理時における基板Kの変形や破損等の不具合の発生を招くことなく、基板Kの表面にマイクロマシン100を容易に形成することが可能となる。 - 特許庁
  • To obtain a spinning oil composition for a synthetic fiber, which has fiber and metal abrasion resistance and fiber and fiber abrasion resistance, a high yarn bundling property and proper heat resistance to deal with a rise in yarn processing temperature in a spinning and a drawing and processing processes and the prolonged cleaning period of a hot plate heater.
    耐糸−金属摩耗性、耐糸−糸摩耗性、高度の糸条集束性を有し、製糸および延伸加工工程における糸加工温度の上昇、熱板ヒーターの清掃周期の長期化に対応できる適度な耐熱性を有する合成繊維用紡糸油剤組成物提供する。 - 特許庁
  • A cup CP is revolved, and a resist application processing is carried out through a production line method, so that a resist nozzle 36, a pump used for feeding resist to the resist nozzle 36, a temperature controller, and piping are provided in singles to deal with processing substrates, the number of necessary parts can be diminished, and the substrate can be processed at a lower cost.
    カップCPを公転させ、流れ作業でレジスト塗布処理等を行っているので、レジストノズル36及びこのノズル36へレジストを供給するためのポンプや温調装置、配管等がそれぞれ1つだけで足り、必要なパーツを削減することができ、コストを削減できる。 - 特許庁
  • To provide an image signal processing device, an imaging device, an image signal processing method, and a program capable of correcting color mixture different according to addresses, capable of correcting effects of color mixture occurring when layout shape differs between pixels in color filters having the same color, and capable of correcting color mixture not depending on color temperature.
    アドレス毎に異なる混色補正ができ、同色カラーフィルタの画素間のレイアウト形状が異なるときに発生する混色の影響を補正でき、色温度の依存しない混色補正が可能な画像信号処理装置、撮像装置、画像信号処理方法、およびプログラムを提供する。 - 特許庁
  • The exhaust gas temperature adjusting means 33 stops the performance of the post-injection by the injector 7 in a stage where a fuel amount of the PM burnt by the filter regenerating processing is less by the predetermined amount than a deposit amount X of the PM when starting the filter regenerating processing.
    上記排ガス温度調整手段(33)は、上記フィルタ再生処理によって燃やされたPMの燃料量が、フィルタ再生処理を開始した時点でのPMの堆積量Xよりも所定量少ない段階で、上記インジェクタ7によるポスト噴射の実行を停止させる。 - 特許庁
  • To provide a single-part color developing concentrated composition improved in generation of a tarry deposition in a kit even when stored at high temperature and improved also in uneven development even when used in processing of a photosensitive material, and to provide a processing method using the same.
    高温で保存された場合でもキット内でのタール状析出の発生が改良され、かつ感光材料の処理に使用した場合にも現像ムラの発生が改良される、シングルパートの発色現像濃縮組成物及びこれを用いた処理方法を提供する。 - 特許庁
  • In a sixth processing step, a high-pressure liquid jet 33 is made to act on the initial surface pattern at a predetermined processing temperature, whereby at least partial parts of the coatings 29 covering the sacrificial layer regions 25 are mechanically removed or at least broken off in order to provide the final surface pattern.
    第6処理ステップにて、初期表面パターンに予め定められた処理温度にて高圧液体ジェット33を作用させ、それにて犠牲層領域25を覆うコーティング29の少なくとも一部を最終表面パターンを得るために機械的に除去、又は少なくともこじ開ける。 - 特許庁
  • Accordingly, the preparation processing for temperature control in the auxiliary unit has been completed by the time when a phosphoric acid is used in the chemical processor 19b, and thus, schedule delay due to standby of preparation processing of the chemical processor 23b can be prevented as an auxiliary unit, and the operation rate of the apparatus can be improved.
    したがって、薬液処理部19bにおいて燐酸を使用する際には、予備ユニットにおける温調の準備処理が終わっており、予備ユニットである薬液処理部23bの準備処理待ちによるスケジュールの遅れを防止することができ、装置の稼働率を向上できる。 - 特許庁
  • The manufacturing method and the manufacturing apparatus of a semiconductor device are provided, wherein for forming a silicon oxide film uniform and conformal at a low processing temperature of ≤500°C triethoxysilane and active oxygen such as ozone are alternately supplied into a processing chamber to form the silicon oxide film on the substrate.
    500℃以下の低温の処理温度で均質かつコンフォーマルなシリコン酸化膜を形成するために、トリエトキシシランと、オゾンなどの活性な酸素を交互に処理室に供給して、基板にシリコン酸化膜を成膜する半導体装置の製造方法と製造装置を提供する。 - 特許庁
  • In a vehicle stop condition immediately after the processing for stopping the electric pump 34, processing for operating the electric pump 34 is performed so that the cooling water in the intercooler 18 is replaced by low-temperature cooling water prepared in the LT radiator 32 during the stop period of the electric pump 34.
    そして、電動ポンプ34を停止させる処理の直後の停車状態において、電動ポンプ34が停止される期間にLTラジエータ32内に準備された低温の冷却水によってインタークーラ18内の冷却水を入れ替えるべく電動ポンプ34を操作する処理を行う。 - 特許庁
  • To provide a laminate type filter material capable of easily performing heat lamination processing of a fine porous membrane made of a fluororesin excellent in a fusion property and reducing processing cost in the filter material for filtering dust contained in an exhaust gas of high temperature at a high capturing efficiency, and a production method therefor.
    高温の排ガス中に含まれるダストを高い捕集効率にて濾過するためのフィルター材において、融着性に優れたフッ素樹脂製微多孔膜の熱ラミネート加工が容易で、その加工コストが低減できるラミネート型フィルター材およびその製造方法の提供。 - 特許庁
  • By performing the subsequent secondary air-based activation processing at a low temperature of 350-430 °C, air permeates deeply the inside of the carbide raw material by using as inlets the meso-holes produced in the primary air-based activation processing to produce fine micro-holes even in the inside of the carbide raw material.
    続く第2次空気賦活処理を350〜430℃の低温度で行うことにより、第1次空気賦活処理にて生成されたメソ孔を入口にして、空気が炭素化物原料の内部に深く浸透してゆくようになって炭素化物原料の内部にまで細かいミクロ孔を生成する。 - 特許庁
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