「temperature processing」を含む例文一覧(2995)
＜前へ 1 2 .... 37 38 39 40 41 42 43 44 45 .... 59 60 次へ＞- To provide an alkaline storage battery having excellent temperature characteristics at low temperatures by heightening the concentration of alkaline electrolyte injected into a battery without causing leakage even if a decompression processing device is not used.
減圧処理装置を用いなくても漏液を生じることなく、電池内に注液されたアルカリ電解液の濃度を高濃度にして低温温度特性に優れたアルカリ蓄電池を提供する。 - 特許庁 - To enhance processing efficiency by lessening the useless gap between each of a plurality of streamer discharge regions (S), in a plasma reactor which performs gas treatment by the streamer discharge to produce low temperature plasma.
ストリーマ放電により低温プラズマを生成してガス処理などを行うプラズマ反応器において、複数のストリーマ放電領域(S) 同士の間の無駄な隙間を小さくして処理効率を高める。 - 特許庁 - An AWB 5 applies white balance adjustment processing to image data S0 utilizing the estimated color temperature to obtain processed image data S1, which is outputted by an output means 6.
推定された色温度に基づいてＡＷＢ５において、画像データＳ０に対してホワイトバランス調整処理を行い処理済み画像データＳ１を得、これを出力手段６において出力する。 - 特許庁 - The air conditioning control unit determines control contents of the outside air-processing air conditioner 30 and the air conditioner 20 merely on the basis of the external air temperature value and the external air absolute humidity value specified by the specifying unit.
空調制御部は、自動制御において、特定部によって特定される外気温度値及び外気絶対湿度値のみに基づいて、外調機３０及び空調機２０の制御内容を決定する。 - 特許庁 - The problem of the phase separation of polymer aqueous solution is solved by adding a suitable amount of polyvinyl alcohol, and the problem of uneven volumetric change of polymer hydrogel is solved by adding polyvinyl alcohol and by processing of taking off water at a high temperature.
ポリマー水溶液の相分離問題は適当量のポリビニルアルコール類添加により、また、ポリマーハイドロゲルの体積変化問題はポリビニルアルコール類添加と高温離水処理により解決した。 - 特許庁 - To suppress occurrence of a state that an inlet heat medium temperature of a loading apparatus is largely fluctuated to a capacity reduction side of the loading apparatus in an increase processing for increasing the number of operation units in a heat source unit.
熱源ユニットの運転ユニット数を増加させる増段処理の際に負荷機器の入口熱媒温度が負荷機器能力の低減側に大きく変動した状態になるのを抑止する。 - 特許庁 - To provide a superior color image forming device unit by which an unvenness in density or a fogging is not caused even in an environment of high temperature and high humidity and even after printing many sheets, and to provide a processing unit to be used therefor.
高温高湿環境下においても、また、多数枚印字後においても、濃度むらやカブリの発生しない優れたカラー画像形成装置及びこれに用いるプロセスユニットを提供する。 - 特許庁 - To provide a heat developable photosensitive material excellent in sensitivity, fogging and maximum density, excellent in image preservability when irradiated with light and suppressed in desensitization due to storage at a high temperature before processing.
感度、カブリ、最大濃度がいずれも優れており、光照射したときの画像保存性に優れ、かつ、処理前の高温保存による減感が抑えられている熱現像感光材料を提供すること。 - 特許庁 - To prevent, in a signal processing circuit connected to a coil as a sensor head of a displacement sensor, the temperature difference between a pair of coils in mutually opposing distant positions from affecting the detection of any displacement.
変位センサのセンサヘッドとしてのコイルに接続される信号処理回路において、互いに対向して離れた位置にある一対のコイルの温度差が、変位検出に与える影響を排除する。 - 特許庁 - To provide a paper cup with excellent water resistance and sealing properties, particularly, the paper cup with such a water resistance that is capable of performing a retort sterilization processing under a high temperature and high pressure, and to provide a method for manufacturing the same.
耐水性と密封性が優れた紙カップ、特に高温高圧下でもレトルト殺菌処理可能な耐水性を有する紙カップとその製造方法を提供することを課題とする。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method for a semiconductor and a processing apparatus for a substrate that uniformly film a plurality of substrates in silicon carbide epitaxial film growth carried out under a high-temperature condition.
高温条件下で行われる炭化珪素エピタキシャル膜成長において複数枚の基板を均一に成膜することができる半導体製造方法及び基板処理装置を提供する。 - 特許庁 - For this regulation, prebake temperature and conditions in development processing after pattern exposure are set so that undercut parts having a proper depth and length are formed in a thin film material layer before post-bake.
この調節のために、ポストベーク前の薄膜材料層に適切な奥行き長さをもったアンダーカット部分が形成されるように、プリベーク温度及び、パターン露光後の現像処理の条件を設定する。 - 特許庁 - By using decompression, a coolant and a dry atmosphere and by complementing mutual demerits, only water is separated from an object containing moisture, and disposed as water, and the temperature of a processing object itself is not raised beyond necessity.
減圧、冷媒、乾燥雰囲気を用いお互いのデメリットを補完することで、水分を含んだ物体から水のみを分離し水として廃棄、処理物自身の温度も必要以上に上げない。 - 特許庁 - To provide a method and an apparatus for forming a silicon nitride film having a composition of substantially stoichiometric ratio at a low temperature and an enhanced processing rate.
ほぼ化学量論比の組成を有するシリコン窒化膜を低温で形成することができるとともに、その処理速度を向上させることができるシリコン窒化膜の形成方法及び形成装置を提供する。 - 特許庁 - Thereby, the fluctuations in the zero point level, caused by negative drifts by the leakage of electric charges and positive drifts by the variation in temperature, can be prevented, and the operation load needed for signal processing can be lessened.
これにより、電荷の漏洩による負のドリフトや温度変化による正のドリフトに起因する零点レベルの変動を防止することができ、信号処理に要する演算負荷を軽減することができる。 - 特許庁 - This manufacturing method of the styrenic elastomer molding is characterized in that the formation of a styrene monomer is suppressed by regulating the temperature of the resin at the time of molding processing due to an extruder or the like to 250°C or below.
押し出し機などによる成形加工時の樹脂温度を２５０℃以下に調節することにより、スチレンモノマー生成を抑制する事を特徴とする、スチレン系エラストマー成形体の製造方法。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method that prevents scratches from being generated in CMP processing and short circuit with an adjacent plug from being generated when forming a contact plug in a semiconductor element using a low temperature silicide film.
低温シリサイド膜を使用する半導体素子において、コンタクトプラグ形成時に、ＣＭＰ処理でスクラッチが発生し、隣接のプラグとの短絡が生じるのを防止する製造方法を提供する。 - 特許庁 - As a result, the temperature of the etching liquid is substantially the same in the whole area of the front and back surfaces of the wafer, and therefore, the rate of the processing, namely, the etching rate of the etching liquid is made uniform.
その結果、ウエハの表面および裏面の全域において、エッチング液の温度をほぼ同じ温度にすることができるので、エッチング液による処理のレート、つまりエッチングレートを均一にすることができる。 - 特許庁 - To provide a method for producing packaged mushrooms by which browning caused on mushrooms during processing can be prevented, and mushrooms contained in a packaged product can maintain their original taste and resistance to the teeth in a normal temperature.
加工中の褐変を防止するとともに、容器詰め製品においてキノコ類が本来有する旨みと歯ごたえを常温保存することができる容器詰めキノコの製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a substrate processing apparatus and method capable of efficiently removing resist residues on the surface of a substrate by using a sulphuric acid while using a hydrogen peroxide solution which is unstable at a high temperature.
高温で不安定な過酸化水素水を使用しながら、硫酸を用いて基板表面のレジスト残渣を効率よく除去することができる基板処理装置及び基板処理方法を提供する。 - 特許庁 - To provide an infrared imaging apparatus which can reduce fixed pattern noise to a video caused by a temperature variation and also decrease a frequency of NUC processing, and an output value calculating method for an imaging element.
温度変化による映像への固定パターンノイズを低減するとともに、ＮＵＣ処理の頻度を少なくすることができる赤外撮像装置及び撮像素子の出力値算出方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a substrate processing apparatus and method capable of efficiently removing resist residues on the surface of a substrate by using a sulphuric acid without using a hydrogen peroxide solution which is unstable at a high temperature.
高温で不安定な過酸化水素水を使用せずに、硫酸を用いて基板表面のレジスト残渣を効率よく除去することができる基板処理装置及び基板処理方法を提供する。 - 特許庁 - Since the temperature of the catalytic metal is raised during it to increase the transfer ratio, the processing efficiency in the desorption of HC is improved, and the transfer efficiency of the three-way catalyst on the upstream side is also improved.
この間に触媒金属の温度が上昇して転化率が高くなるので、ＨＣ脱離時の処理効率が向上すると共に、上流側三元触媒の転化効率も向上する。 - 特許庁 - The manufacturing method of the MOSFET100 further includes an annealing step of heating the silicon carbide substrate 1 to a temperature of 50°C or higher after the step of processing the conductor film.
そして、ＭＯＳＦＥＴ１００の製造方法は、導電体膜を加工する工程よりも後に、炭化珪素基板１を５０℃以上の温度に加熱するアニールを実施する工程をさらに備える。 - 特許庁 - To provide a method of forming a conductive pattern with high conductivity which uses an etching liquid with less environmental load, the reduced number of steps and low-temperature processing that is applicable even for a plastic substrate.
環境負荷の少ないエッチング液で、工程数が少なく、プラスチック基板に対しても適用可能な低温処理で、高伝導率の導電性パターンを形成することができる方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a photosensitive composition having high storage stability even at high temperature, with respect to a photosensitive composition useful as a dry film resist for processing a printed wiring board, a photosensitive lithographic printing plate or the like.
プリント配線基板加工用ドライフィルムレジスト、感光性平版印刷版等として有用な感光性組成物に関して、高温下においても保存安定性の高い感光性組成物を提供すること。 - 特許庁 - This temperature controller 24 is composed of a vessel containing PFC 42 for a heat exchange, a circulating path 28 of PFC 42 passing through the electrode 20 of a plasma processing device 10, and a pump 30.
温度調整装置２４は、熱交換用のＰＦＣ４２を収容する容器２６と、プラズマ処理装置１０の電極２０を通過するＰＦＣ４２の循環経路２８と、ポンプ３０とから構成される。 - 特許庁 - To provide a plasma processing device capable of improving in-plane uniformity of plasma treatment by suppressing a temperature rise in the periphery of a substrate to be processed, thereby capable of uniform plasma treatment.
被処理基板の周縁部の温度上昇を抑制することによってプラズマ処理の面内均一性を向上させることができ、均一なプラズマ処理を行うことのできるプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁 - To maintain high processing accuracy without transmitting it, even when the outer housing is deformed by heat, to a main spindle while suitably suppressing temperature increase in a bearing by bringing the supply path of cooling liquid close to the bearing.
冷却液の供給経路を軸受に近づけて軸受の温度上昇を好適に抑制しつつ、外側ハウジングに熱変形が発生しても主軸へ伝えることなく高い加工精度を維持する。 - 特許庁 - Since a temperature value recognized by the processing circuit 14a is thereby calibrated with respect to the result of detection by the fixing thermistor 13, an element whose accuracy is low is used to realize the reduction of cost of the fixing device.
したがって、定着サーミスタ１３の検知結果に対して、処理回路１４ａが認識する温度値を校正させるので、精度の低い素子を使用して、低コスト化を図ることができる。 - 特許庁 - To provide a dielectric layer of good performance which is shorten in processing time by transferring to a substrate a green sheet which is good in step coverage, and tolerant of high temperature and high pressure to form the dielectric layer.
ステップカバレッジが良く、高温、高圧に耐えられるグリーンシートを基板に転写して誘電体層を形成することによって工程時間を短縮し、且つ性能に優れた誘電体層を提供する。 - 特許庁 - To provide an image forming device capable of shortening image forming processing time and saving power consumption by making the number of switching times of the fixing temperature of a fixing means as few as possible.
定着手段の定着温度の切り換え回数を極力少なくし、画像形成処理時間の短縮及び消費電力の節約を図ることができる画像形成装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a heat-peelable type adhesive sheet for cutting a laminated ceramic sheet which displays an adequate adhesion in cut processing under atmosphere of a normal or high temperature and is easily peelable by heating in peeling.
常温や高温雰囲気下での切断加工時で十分な粘着性を発揮でき、剥離時には加熱によって容易に剥離可能な積層セラミックシート切断用熱剥離型粘着シートを提供する。 - 特許庁 - To provide a plasma processing apparatus where a test piece can be heated to a high temperature without breaking a test piece stand, and heating efficiency is excellent by eliminating contamination to the test piece due to the abnormal electric discharge of the test piece.
試料台の異常放電による試料への汚染がなく、試料台を破損せずに、試料を高温まで加熱することができ、しかも加熱効率の優れたプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁 - Even if an AlF-based material produced during the cleaning processing is scattered as particles during the temperature increase of the mounting table 62, the inert gas prevents the AlF-based material from adhering to the shower head section arranged opposite to the mounting table.
これにより、クリーニング処理時に生成してしまったＡｌＦ系物質が載置台６２の昇温時にパーティクルとなって飛散してもこれが対向するシャワーヘッド部に付着しないようにする。 - 特許庁 - To provide a full-flat type gas range capable of performing the processing to prevent the excess temperature rise of a glass top panel while inhibiting the reduction of a time of endurance of an opening and closing valve for opening and closing a gas supply passage.
ガラス天板の過剰な温度上昇を防止する処理を、ガス供給路を開閉する開閉弁の耐用時間の減少を抑制して行うようにしたフルフラット式のガスコンロを提供する。 - 特許庁 - To improve a transcribing accuracy by regulating the temperature of a mask efficiently, and by preventing the mask from the distortion caused by its thermal expansion, in an exposure apparatus so interrupted from the outside air as to perform its exposure processing under the condition of a fixed atmospheric pressure.
外気と遮断され一定の気圧条件下で露光処理を行う露光装置において、効率よくマスクを温度調節してマスクの熱膨張による歪を防ぎ、転写精度を高めるる。 - 特許庁 - The thin-film transistor formed on a substrate is composed of only a P type and the highest processing temperature in the manufacturing process for the thin-film transistor is ≤450°.
基板上に形成された薄膜トランジスタがＰ型のみで構成され、かつ、前記薄膜トランジスタの製造工程における最高処理温度が４５０度以下であることを特徴とする薄膜トランジスタとする。 - 特許庁 - Namely, at every time when the on-vehicle machine 1 is passed through a communication area of the road side machine 4, the on-vehicle machine 1 side and the own office 80 side are communication-connected and an essential processing regarding a record of temperature is carried out automatically.
すなわち、路側機４の通信領域を通過毎に、車載機１側と自社事務所８０側が通信接続され、自動的に温度記録に関わる不可欠な処理が行われる。 - 特許庁 - A working machine executes the regeneration processing of the DPF4 by raising the exhaust temperature through the increase in the output of an engine 1 when a fore-and-aft pressure difference ΔPg of the DPF4 exceeds a predetermined pressure difference ΔPh.
ＤＰＦ４の前後差圧△Ｐｇが所定差圧△Ｐｈを超えた際に、エンジン１の出力を増加させて排気温度を上昇させることでＤＰＦ４の再生処理を行うように構成した。 - 特許庁 - The white-balance processing section 109 computes the color-temperature information of a light source in the case of a photographing on the basis of the color evaluating value of the picture elements decided as a white by the picture-element decision section 108, and computes a white-balance coefficient.
ホワイトバランス処理部１０９は、画素判定部１０８で白と判定された画素の色評価値に基づき撮影時の光源の色温度情報を算出し、ホワイトバランス係数を算出する。 - 特許庁 - To provide a shape measurement method and a shape measuring apparatus that can correct the large part of an error by temperature drift by data processing, and settles the error without accompanying an increase in costs, such as the remodeling of the apparatus and the extension of measurement time.
温度ドリフトによる誤差の大部分をデータ処理によって補正することができ、装置の改造や測定時間が延びる等大きなコストアップを伴わず、かかる誤差を解消する。 - 特許庁 - To provide a low-temperature baked laminated ceramics substrate capable of providing a high-density and low-resistance-loss wiring pattern with a simple manufacturing process, and small in time required for processing; and its manufacturing method.
簡単な製造工程で、処理に要する時間が短く、高密度且つ低抵抗損失の配線パターンが実現できる低温焼成積層セラミックス基板およびその製造方法を提供する。 - 特許庁 - Then, the matching processing of the bumper fish crop patterns whose time and fishing divisions are compatible is executed with respect to the latest sea surface temperature distribution map so that much more speedy and accurate fishing grounds can be forecast according to the fishing site information.
次に、最新の海面温度分布図に対して時期、漁業区画の合った豊漁パターンをマッチング処理することにより、漁業現場情報と合せ、よりスピーディで正確な漁場を予想する。 - 特許庁 - This operation processing means 8 determines an adjusting value of the air-conditioning temperature for changing the calculated comfortable value to the target comfortable value and determines the energy reduction ratio corresponding to the adjusting value.
また、この演算処理手段８は、算出された快適値を目標快適値に変化させるための空調温度の調整値を求め、この調整値に対応するエネルギー削減率を求める。 - 特許庁 - To obtain a concentrated milk for processing capable of providing a white sauce, a cream stew or a gratin rich in flavor and a rich taste of milk without causing browning due to the Maillard reaction even when carrying out high-temperature sterilization such as retort sterilization.
レトルト処理の如き高温殺菌をおこなっても、メイラード反応による褐変が起こらず、かつ乳の風味、こく味に富んだホワイトソース、クリームシチュー、グラタンが得られる加工用濃縮乳を提供する。 - 特許庁 - To provide a thermosetting adhesive composition superior in solder crack resistance even by the high temperature solder reflow processing of about 260°C used for lead-free solder, and to provide a semiconductor package using the same.
鉛フリー半田に用いられるような２６０℃程度の高温半田リフロー処理によっても耐半田クラック性に優れた熱硬化性接着剤組成物およびそれを用いた半導体パッケージを提供する。 - 特許庁 - To provide an infrared sensor with high temperature detection sensitivity by facilitating signal reading and facilitating the composition of a signal processing circuit in the infrared sensor using an electric field effect transistor for a heat sensitive body.
電界効果トランジスタを感熱体に用いた赤外線センサにおいて、信号読み出しが容易で、信号処理回路の構成を容易にし、温度検出感度が高い赤外線センサを提供する。 - 特許庁 - A control device 25 performs regeneration processing for raising the temperature of the filter 32 and burning the particulate matter by controlling injection timing of a fuel injection valve 4 and performing post-injection.
制御装置２５は、燃料噴射弁４の噴射時期を制御してポスト噴射を行うことによりフィルタ３２の温度を上昇させて粒子状物質を燃焼させる再生処理を行う。 - 特許庁 - To provide a semiconductor substrate heat treating device allowing control of a temperature distribution on a susceptor horizontal plane even when giving a horizontal magnetic flux to the susceptor, and allowing heat treatment by batch processing.
サセプタに対して水平磁束を与える場合であってもサセプタ水平面の温度分布制御を可能とし、かつバッチ処理による熱処理を可能とする半導体基板熱処理装置を提供する。 - 特許庁
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