「temperature processing」を含む例文一覧(2995)
＜前へ 1 2 .... 38 39 40 41 42 43 44 45 46 .... 59 60 次へ＞- Since the gain clip processing can prevent excess correction of the object color and carry out white balance correction to a degree within a range until clipping is made, a failure such as the occurrence of a low color temperature scene can be avoided.
ゲインのクリップ処理により物体色の過補正を防止でき、クリップされるまでの範囲である程度のホワイトバランス補正も行われるので、低色温度シーンなどの破綻を回避できる。 - 特許庁 - To provide an occupant position detection device capable of detecting surely existence or the position of an occupant by discriminating the occupant from a seat by a comparatively small operation processing even when the temperature difference between the occupant and the seat is small.
乗員と座席との温度差が小さい場合でも、比較的少ない演算処理で両者を識別し、確実に乗員の存否や位置を検出できる乗員位置検出装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a negative photosensitive polyimide resin composition which enables processing of a fine pattern, which forms a film whose coefficient of linear expansion is close to that of a substrate, and which does not require imidization at high temperature.
微細パターンの加工ができ、得られた被膜の耐熱性と基材との線膨張係数が近接し、かつ高温でのイミド化を必要としない、ネガ型感光性ポリイミド組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a paper substrate moldable at <60°C processing temperature without requiring preheating during pressurized air molding or vacuum molding, easily carrying out disposal treatment or recycling and utilization and having environmentally excellent properties.
圧空成型または真空成型の際に予熱を必要とせず、60℃未満の加工温度で成型可能であり、廃棄処理や再生利用が容易で、環境上優れた性質を有する紙基材を提供する。 - 特許庁 - To provide a polypropylene composition superior in any evaluation on a stability against heat oxidation, a hue, a thermal deformation temperature, a flexural modulus, the resistance to NOx, a processing stability and a surface smoothness.
熱酸化に対する安定性、色相、熱変形温度、曲げ弾性率、耐ＮＯｘ性、加工安定性及び表面平滑性のいずれの評価についても優れるポリプロピレン組成物を提供する。 - 特許庁 - The semiconductor exhaust gas processing scrubber that discharges the exhaust gas to the atmosphere after the exhaust gas produced at the time of manufacturing a semiconductor is combusted with a high-temperature flame and the combusted gas is filtered out with water and particles are collected.
本発明は、半導体製造時に発生される廃ガスを高温の炎で燃焼した後、水で濾過及び捕集した後、大気中に排出する半導体廃ガス処理用スクラバが開示される。 - 特許庁 - To provide a new forming method of a high-temperature superconducting Josephson junction wherein the formation of the Josephson junction having a highly excellent characteristic is realized simply and rapidly without requiring an expensive fine-processing apparatus.
高価な微細加工装置を必要とせず、簡便かつ迅速に高い特性を持つジョセフソン接合の形成を実現する新たな高温超伝導ジョセフソン接合形成方法を提供する。 - 特許庁 - To reduce or compensate thermal stresses in a semiconductor element, which arise as a result of temperature changes during processing and during operation and on account of different expansion coefficients of a semiconductor and a carrier substrate.
プロセシング中及び作動中の温度変化によって、及び、半導体及び支持体基板の種々異なる膨張係数に基づいて生じる構成素子内の熱応力を低減乃至補償する。 - 特許庁 - To provide a substrate processing apparatus capable of controlling temperatures with high precision and high controllability without being restricted by temperature zone when performing a plurality of kinds of deposition processings.
１つの基板処理装置において、複数種類の成膜処理を行う場合に、温度帯によらず、高精度で且つ制御性能の高い温度制御を行うことができる基板処理装置を得る。 - 特許庁 - An electric signal corresponding to the quantity of infrared rays radiated from the bar 3 for temperature detection is outputted by an infrared sensor 8, and the electric signal is inputted to the signal processing circuit 9.
また、温度検知用バー３から放射される赤外線の量に応じた電気信号が赤外線センサ８によって出力され、その電気信号も信号処理回路９に入力される。 - 特許庁 - The road surface state discriminating device 1 performs discrimination processing by adding even information outputted from a visible camera 4, a temperature sensor 5 or a far infrared radiation camera in addition to the road surface friction coefficient μ.
路面状況判別装置１は、路面摩擦係数μに加え、可視カメラ４及び温度センサ５、又は遠赤外線カメラから出力される情報をも加味して判別処理を行なう。 - 特許庁 - To provide an ethylene/vinyl ester-based resin composition having an enlarged temperature range suitable for processing into a molded product, and therefore excellent in roll processability and calendering processability with improved productivity of a molded product.
成形体への加工適合範囲が拡大され、その結果、ロール加工性及びカレンダー加工性に優れ、成形体の生産性が向上したエチレン−ビニルエステル系樹脂組成物を提供するにある。 - 特許庁 - To obtain an easily releasable film that is readily made into a film by an inflation processing, has low-temperature sealability and easy releasability excellently useful as a lid material for a container made of a polyester-based resin.
インフレーション加工でのフィルム製膜が容易であって、ポリエステル系樹脂からなる容器用蓋材として用いるのに良好な低温シール性と易剥離性を有する易剥離性フィルムを提供する。 - 特許庁 - To provide a real-time monitoring fluorescence detector for fluorescence signals satisfying requirements such as highly precise temperature adjusting, quick processing of a lot of samples, high sensitivity, high reliability, low cost, and miniaturization.
（ａ）高精度な温度調節、（ｂ）多数試料の迅速処理、（ｃ）高感度、（ｄ）高信頼性、（ｅ）低コスト、（ｆ）小型化等の要求を満たす、蛍光信号のリアルタイムモニタリング用蛍光検出装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a substrate processing apparatus that accurately measures the temperature of a wafer in non-contact manner regardless of plane condition and emissivity of a wafer when an electromagnetic wave method is used to heat a wafer.
ウエハの加熱に電磁波加熱方法を使用する際に、ウエハの面状態や放射率によらずウエハの温度を非接触かつ正確に測定することができる基板処理装置を提供する。 - 特許庁 - When fixing processing is carried out by a high temperature fixing part, only the elastic transparent toner images CT11 and CT12 are swollen, and low glossy toner images are formed as shown in Fig.(b).
一方、高温定着部によって定着処理が行われると、図（ｂ）に示したように、弾性透明トナー像ＣＴ１１およびＣＴ１２のみが隆起し、低光沢となったトナー像が形成される。 - 特許庁 - To provide a heater device capable of uniformly heating a semiconductor wafer and of shortening the time until reaching the optimum processing temperature as compared with a conventional one and to provide its manufacturing method.
半導体ウエハーの加熱を均一に行なうことができ、しかも最適処理温度に到達するまでの時間を従来のものに比して短縮することのできるヒータ装置とその製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a surface melting furnace capable of unifying and increasing a surface temperature by generating swirl flow of a combustion gas in a combustion chamber, increasing processing efficiency and preventing blockage of a slag port.
燃焼室内で燃焼ガスの旋回流を発生させて炉内温度の均一化および高温化を図り、処理効率を高め、併せてスラグポートの閉塞を防止できる表面溶融炉を提供する。 - 特許庁 - A high temperature and short time (HTST) heat processing step is performed to remove undesired dimeric form of hemoglobin, uncross-linked tetrameric hemoglobin, and plasma protein impurities effectively.
望ましくない二量体形態のヘモグロビン、非架橋四量体ヘモグロビン、および血漿タンパク質不純物を効果的に除去するために、高温短時間（ＨＴＳＴ）熱処理工程が行われる。 - 特許庁 - The torque limit section 56 sets a reduction rate of a torque command value T^*48 according to an element temperature of each switching element in the rotary electric machine 20 to perform processing for reducing the torque command value T^*48.
そして、トルク制限部５６は、回転電機２０のスイッチング素子の素子温度に応じてトルク指令値Ｔ^*４８の低減レートを設定してトルク指令値Ｔ^*４８を低減させる処理を行う。 - 特許庁 - The method for forming the semiconductor structure includes reacting a silicon precursor and an atomic oxygen precursor at a processing temperature of about 150°C or less to form a silicon oxide layer over a substrate.
半導体構造を形成する方法は、基板上にシリコン酸化被膜を形成するために、シリコン前駆体と原子酸素前駆体を約１５０℃以下の処理温度において反応させることを含む。 - 特許庁 - To perform signal transmission in an accurate timing by performing timing adjusting processing depending on a fluctuation in condition such as an ambient operating temperature or a power supply voltage in a signal transmission system.
信号伝送システムにおいて、動作周囲温度または電源電圧などの条件の変動に対してタイミング調整処理を行い、正確なタイミングで信号伝送を行なうことを可能とする。 - 特許庁 - A rapid thermal processing (RTP) system 110 includes a transmission pyrometer 12 for monitoring the temperature dependent absorption of a silicon wafer 32 for radiation from a RTP lamp 46 at a reduced power level.
急速熱処理（ＲＴＰ）システム１１０は、減じた電力レベルでのＲＴＰランプ４６からの放射線に対するシリコンウエハ３２の温度依存性吸収を監視する透過型パイロメータ１２を含む。 - 特許庁 - To provide an image forming apparatus which prevents a delay caused by processing for detecting toner concentration when operation control is performed according to fixing temperature.
本発明は、定着温度により動作制御を行う場合においてトナー濃度の検出処理に伴う遅れが生じることのない画像形成装置を提供することを目的とするものである。 - 特許庁 - To provide a waveguide type optical modulating element which has a stable optical characteristic and a fast response characteristic by using an organic nonlinear optical material which does not require a high temperature for alignment processing.
配向処理に高温を必要としない有機非線系光学材料を用い、安定な光学特性及び高速の応答性能を有する導波路型光変調素子を提供することである。 - 特許庁 - To provide a gas barrier film which utilizes natural resources effectively and has excellent gas barrier properties, of which the deterioration due to moisture and the dependence on temperature are reduced and which is excellent also in suitability for processing and storage.
天然資源を有効利用し、且つ、優れたガスバリア性を有し、湿度劣化や温度依存性が抑制され、また加工適性や保存適性にも優れたガスバリアフィルムを提供することを目的とする。 - 特許庁 - The pre-processing equipment is provided with a thermostat oven 3 to house LEDs 4 and control the ambient temperature thereof and a current control unit 1 to supply specified forward current to the LEDs 4.
前処理装置は、ＬＥＤ４を収容してＬＥＤ４の周囲温度を制御する恒温槽３と、ＬＥＤ４に所定の順方向電流を供給する電流制御部１とを備える。 - 特許庁 - To provide an image forming apparatus, capable of suppressing temperature rise in the apparatus in double-sided printing processing in a compact apparatus, such as a printer, a copying machine, using an electrophotographic system.
本発明は、電子写真方式を用いたプリンタ、複写機等の小型装置の両面印刷処理において、装置内の温度上昇を抑えることが可能な画像形成装置を提供する。 - 特許庁 - To provide an image display which suppresses the increase of fan noise, promotes cooling of a high-temperature part on the upper side of a display panel module, various kinds of substrates and electronic parts for image processing, and has high luminance, high definition and high reliability.
ファン騒音の増加を抑え、表示パネルモジュール上側の高温部や各種基板、画像処理用電子部品の冷却を促進し、高輝度・高精細で信頼性の高いものとする。 - 特許庁 - To provide a low-temperature air processing equipment allowing to feed to a demand side as product oxygen gas boosted up to a middle pressure of 0.02-0.08 MPa(G) by facilitating a structure of the equipment.
装置構成を簡素化して、０．０２〜０．０８ＭＰａ（Ｇ）程度の中圧に昇圧した製品酸素ガスとして需要側に取り合うことのできる深冷空気分離装置を提供することにある。 - 特許庁 - This fiber structure is characterized by composing at least ≥40 wt.% of a fabric of polylactic acid fibers and subjecting the fabric to three-dimensional molding processing after producing the fabric at 150-180°C dry heating temperature.
布帛の少なくとも４０重量％以上がポリ乳酸繊維で構成され、布帛を製布後に乾熱温度１５０〜１８０℃で立体成型加工されていることを特徴とする繊維構造物。 - 特許庁 - A printing apparatus for printing images processed by an image processing means on a printing medium having the image processing means for processing images and a plurality of printing heads capable of moving has the image processing means for each printing head group when a plurality of the printing heads is divided into at least two groups of printing head groups, and a temperature detecting means is provided at each of the printing head groups.
画像を処理するための画像処理手段と、移動可能な複数の印刷ヘッドを有し、該印刷ヘッドからインクを吐出して、前記画像処理手段により処理された画像を被印刷体に印刷する印刷装置において、前記複数の印刷ヘッドを二以上の印刷ヘッド群にグループ分けした際の該印刷ヘッド群毎の前記画像処理手段を有し、かつ、前記印刷ヘッド群毎に温度検出手段を設けたことを特徴とする。 - 特許庁 - A plasma processing device, which performs surface treatment for a workpiece sample by ionizing the raw gas inside a vacuum container with an evacuation means, a raw gas supply means, a processing sample installation means and a high frequency power application means to a workpiece sample, is constituted to control the temperature of a workpiece substrate to a temperature pattern which is preset according to proceeding of treatment.
排気手段と、原料ガス供給手段と、被加工試料設置手段と、被加工試料への高周波電力印加手段を有する真空容器内で、前記原料ガスをプラズマ化し、被加工試料の表面処理を行うプラズマ処理装置において、被処理基板の温度を処理の進行に従って予め設定された温度パターンに制御するよう構成したことを特徴とするプラズマ処理装置。 - 特許庁 - A processing apparatus for the ion exchange resin to be used for reactor water purification at a nuclear power plant, includes a reaction vessel which accumulates a mixture of the ion exchange resin and water as ion exchange resin slurry and heats the ion exchange resin slurry at a processing temperature of 100°C or more and under a processing pressure equal to or higher than a saturated steam pressure.
本発明では、原子力発電所の炉水浄化に用いられるイオン交換樹脂の処理装置において、イオン交換樹脂と水の混合物をイオン交換樹脂スラリーとして貯留し、このイオン交換樹脂スラリーを１００℃以上の処理温度で且つ水の飽和水蒸気圧以上の処理圧力の下で加熱可能に構成される反応容器を備えるようにした。 - 特許庁 - To provide a multilayer container which is excellent in gas barrier properties and oxygen absorbing properties, and can keep oxygen concentration in a low level under retort processing or after long-term preservation under bad conditions such as high-temperature and humidity or the like after the retort processing and restrain the contents over long periods from being deteriorated and changed in quality without causing its whitening and deformation through even the retort processing.
ガスバリア性、および酸素吸収性に優れ、レトルト処理下にあっても、あるいはレトルト処理後に高温・多湿等の悪条件下に長期間保存した後においても内部の酸素濃度を低い水準に保つことができ、内容物の劣化や変質を長期間にわたり抑制することができ、レトルト処理によっても白化や変形が生じにくい多層容器の提供。 - 特許庁 - This method for caustically reducing and dyeing the cellulose- blended polyester fiber product, comprising subjecting the cellulose fiber- containing polyester fiber product to a caustic reducing processing using an alkali and then dyeing the treated fiber product, characterized by heating a caustic reducing processing liquid to a temperature region of 80 to 140°C and then adding the alkali to the processing liquid in an amount of <40 g/l.
本発明のセルロース混用ポリエステル繊維製品の減量染色方法は、セルロース系繊維を含むポリエステル繊維製品をアルカリで減量加工するに際し、減量処理加工液を８０℃〜１４０℃の温度領域に昇温した後、該加工液に、４０ｇ／ｌ未満の範囲でアルカリを添加し、加工を行った後、染色を行うことを特徴とするものである。 - 特許庁 - In the slag processing method, processing of simultaneously performing a step of making molten slag a in a slag ladle 2 stand still for a predetermined time, and heating the molten slag (a) thereafter and a step of stirring the molten slag 2, or processing of alternately performing these steps one time or a plurality of times before the temperature exceeds the melting point of iron grains 20 contained in the molten slag (a).
スラグ鍋２に入れられた溶融スラグａを所定時間静置し，その後，溶融ａスラグを加熱する工程と溶融スラグａを攪拌する工程とを同時に行う処理，または，それらの工程を交互に一回ずつもしくは複数回ずつ行う処理を，溶融スラグａに含有される粒鉄２０の溶融温度以上になるまで行うことを特徴とする，スラグの処理方法である。 - 特許庁 - The plasma processing system comprising a vacuum processing chamber 101, a means for supplying gas into the vacuum processing chamber 101, a plasma generating means 107, and an electrode 103 for mounting a wafer 104 is further provided with a supporting shaft 121 having a structure for making the electrode 103 movable, a structure for supplying a bias power to the electrode, and a structure for transporting a temperature conditioning medium of the electrode.
真空処理室１０１と、真空処理室１０１内にガスを供給する手段と、プラズマ生成手段１０７と、ウエハ１０４を載置する電極１０３とを備えるプラズマ処理装置において、電極１０３の移動を可能とする構造と、該電極にバイアス電力を供給する構造と、電極を温調する媒体を輸送する構造とを有する支持軸１２１を備える。 - 特許庁 - To provide a device capable of improving the uniformity of processing quality on the whole main surface of a substrate by uniforming the temperature of processing liquid in a storage tank within the tank, and reducing the unevenness of processing speed within the substrate surface, even if a film formed on the substrate has an uneven thickness or is differed in film quality from site to site on the substrate.
貯留槽内の処理液の温度を槽内で一様にし、また、基板上に形成された膜の厚みが不均一であったり基板上の部位によって膜質の違いがあったりしても、基板面内における処理速度の不均一を緩和することでき、基板の主面全体における処理品質の均一性を向上させることができる装置を提供する。 - 特許庁 - To provide an apparatus manufacturing inorganic spheroidized particles, which can efficiently obtain excellent inorganic spheroidized particles by keeping the ambient temperature in a flame formation region of a melting chamber within a prescribed temperature range, and cope with various processing conditions such as the type and particle size of inorganic raw material powder, and retention time.
溶融室の火炎形成域における雰囲気温度を所定温度範囲内に維持して良好な無機質球状化粒子を効率よく得るとともに、無機質原料粉体の種類や粒径、滞留時間等の種々の処理条件に対応できる無機質球状化粒子製造装置を提供する。 - 特許庁 - The blower housing of the hydrogen recycle device is provided with cooling fins formed in an outer circumferential portion of a housing body provided inside a fuel processing system (FPS) and the cooling fins are horizontally arranged in parallel with a direction of an air flow, and a temperature difference deviation is decreased to lower a maximum temperature point.
本発明による水素再循環装置のブロワーハウジングは、水素供給モジュール（ＦＰＳ）の内部に設置されるハウジング体の外周部に冷却フィンを形成し、該冷却フィンは、空気の流動方向と平行となるように水平配列され、温度偏差を減少させて最高温度点を下げる構成とした。 - 特許庁 - While the surface of the semiconductor wafer W is held at a nearly constant processing temperature T2, even a position a little deeper than the surface is raised in temperature to some extent, so the activation of implanted ions and the recovery of an introduced defect are both achieved without thermally damaging the semiconductor wafer W.
半導体ウェハーＷの表面温度を概ね一定の処理温度Ｔ２に維持しつつも、表面よりやや深い位置をもある程度昇温することができるため、半導体ウェハーＷに熱的なダメージを与えることなく、注入されたイオンの活性化および導入された欠陥の回復の双方を行うことができる。 - 特許庁 - To provide an exhaust gas cleaning apparatus capable of using oxygen in a gas phase as an oxidant, sufficiently oxidizing components like PM, HC, CO or NO in a further lower temperature region, and sufficiently regenerating the apparatus by regeneration processing at a relatively low temperature even if PM has accumulated.
気相中の酸素を酸化剤とすることができ、より低温の温度領域で十分にＰＭ、ＨＣ、ＣＯ又はＮＯ等の成分を酸化することができ、ＰＭが堆積した場合においても比較的低温の再生処理で十分に再生させることが可能な排ガス浄化装置を提供すること。 - 特許庁 - The air conditioning control device 60 includes a specifying unit which specifies an external air temperature value and an external air absolute humidity value; and an air conditioning control unit which automatically controls an outside air-processing air conditioner 30 and an air conditioner 20 such that indoor space environment is led to within a target temperature/humidity range determined on the basis of setting made by a user.
空調制御装置６０は、外気温度値および外気絶対湿度値を特定する特定部と、ユーザの設定から決定される目標温湿度範囲内に室内空間の環境が導かれるように、外調機３０及び空調機２０の自動制御を行う空調制御部と、を備えている。 - 特許庁 - To obtain long life by making a furnace opening section of non-metal to prevent metal contamination of a substrate under processing the substrate, by suppressing temperature rise of a sealing member provided to a seal section, especially suppressing temperature rise of the sealing member at the time of wafer charging, and by preventing deterioration and burning of the sealing member.
炉口部を非金属製とし、基板処理中の基板の金属汚染を防止すると共に、シール部に設けられる密閉部材の温度上昇を抑制、特にウェーハチャージ時に於ける前記密閉部材の温度上昇を抑制し、又該密閉部材の劣化、焼損を防止し、長寿命化を図る。 - 特許庁 - To provide an air conditioner which precisely adjusts return air to a set temperature by quickly reacting with the load fluctuation of a refrigerant evaporation coil of a heat exchanger due to temperature change of the return air from the chamber in which various precise processing devices are installed, and returning the air into the chamber as feed air.
各種の精密加工装置が設置されているチャンバー内からの還り空気の温度変化による熱交換器の冷媒蒸発コイルの負荷変動に迅速に反応して、還り空気を設定温度に精密に調整し、送り空気としてチャンバー内に戻すことができる空調機を提供する。 - 特許庁 - To provide a heat-shrinkable laminated film which excels in heat shrinkage characteristics, transparency, and interlayer adhesion at an ordinary temperature, is hard to peel even if treated at a high temperature, is restrained from whitening that occurs when bending the film during processing or the like, and is suitably used for a shrink package, shrink binding package, a shrink label, or the like.
熱収縮特性、透明性、常温における層間接着に優れ、高温で処理しても剥離しにくく、かつ、加工時等にフィルムを折り曲げた際に生じる白化を抑制した、収縮包装、収縮結束包装や収縮ラベル等の用途に適した熱収縮性積層フィルムの提供。 - 特許庁 - The method for preliminary processing the gas sensor containing a metal oxide in the sensing section has a step of, in an atmosphere of higher humidity than in a measuring atmosphere, keeping beforehand the temperature of the sensing section higher than the temperature at which the measurement is performed in the measuring atmosphere.
本発明では、感応部に金属酸化物を含むガスセンサを予備処理する方法であって、予め、測定雰囲気よりも高湿度の雰囲気において、前記感応部の温度を、前記測定雰囲気で測定するときよりも高い温度に保持するステップを有することを特徴とする方法が提供される。 - 特許庁 - To provide favorable low foam cereal and low foam miscellaneous cereal products by installing a processing chamber of cereals and miscellaneous cereals, for passing the raw material cereals and raw material miscellaneous cereals in a 200-320°C temperature zone of high temperature humidified hot wind from a hot wind generator, and heating for 20-200 s.
この発明は、原料穀物・原料雑穀を熱風発生機からの高温加湿熱風２００℃〜３２０℃の温度帯で通過させる穀物類・雑穀類の処理室を設け、２０秒〜２００秒間加熱することによって好適な低発泡穀物類及び低発泡雑穀類製品を得ようとするものである。 - 特許庁 - To provide an incineration processing device carrying out very low pollution incineration by detecting factors such as an internal pressure, a smoke and soot concentration, or an exhaust gas temperature in addition to a conventional CO/O2 or a temperature, carrying out control such that reactions can be accelerated and all factors become optimum states, and achieving fine combustion control.
従来のＣＯ・Ｏ２または温度に加え、炉内圧力、煤煙濃度、また排ガス温度等の要因を検知し制御することにより、反応を極めて高速化でき全ての要因が最適な状態となるよう、きめ細かな燃焼制御が達成でき極めて低公害で焼却する焼却処理装置を提供する。 - 特許庁
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