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先駆物質の英語

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英訳・英語 precursor


JST科学技術用語日英対訳辞書での「先駆物質」の英訳

先駆物質


「先駆物質」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 45



例文

形質細胞の先駆物質例文帳に追加

the precursor of a plasma cell発音を聞く  - 日本語WordNet

メラニン細胞の先駆物質である表皮細胞例文帳に追加

an epidermal cell that is a precursor of a melanocyte発音を聞く  - 日本語WordNet

普通骨髄のみに生じる白血球の先駆物質例文帳に追加

a precursor of leukocytes that normally occurs only in bone marrow発音を聞く  - 日本語WordNet

強磁性金属粉末製造用の先駆物質例文帳に追加

PRECURSOR FOR USE IN MANUFACTURING FERROMAGNETIC METAL POWDER - 特許庁

金属及び金属含有フィルムの堆積のための揮発性先駆物質例文帳に追加

VOLATILE PRECURSOR FOR DEPOSITION OF METAL AND METAL- CONTAINING FILM - 特許庁

先駆物質のキャリヤーガスとして不活性ガスが使用される。例文帳に追加

An inert gas is used as carrier gas of the precursor. - 特許庁

例文

磁性粉製造用先駆物質およびこれから得た強磁性金属粉末例文帳に追加

PRECURSOR FOR PRODUCING MAGNETIC POWDER AND FERROMAGNERIC METAL POWDER OBTAINED FROM THE SAME - 特許庁

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ライフサイエンス辞書での「先駆物質」の英訳

先駆物質


日英・英日専門用語辞書での「先駆物質」の英訳

先駆物質


クロスランゲージ 37分野専門語辞書での「先駆物質」の英訳

先駆物質

「先駆物質」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 45



例文

ヒドロキシルイオン・先駆物質混合体を化学蒸着反応器30内へ導入する。例文帳に追加

The hydroxyl ions- precursor mixture is introduced into the chemical vapor deposition reactor 30. - 特許庁

前記塩素含有シリコン先駆物質とアンモニアの比は、約1:3から1:10が好ましい。例文帳に追加

The ratio of the precursor to the ammonia is preferably in a range of about 1:3 to 1:10. - 特許庁

前記塩素含有シリコン先駆物質は、SiH_2Cl_2(ジクロロシラン)であることが好ましい。例文帳に追加

The precursor is preferably SiH_2Cl_2 (dichlorosilane). - 特許庁

昇華容器内部の固体先駆物質の加熱を改善する装置および方法を提供すること。例文帳に追加

To provide an apparatus and a method for improving the heating of a solid precursor in a sublimation vessel. - 特許庁

球形窒化ホウ素及びその先駆物質の製造方法、製造設備、及び生成物例文帳に追加

PRODUCTION OF SPHERICAL BORON NITRIDE AND ITS PRECURSOR SUBSTANCE, PRODUCTION FACILITY AND PRODUCT - 特許庁

膜形成先駆物質の制御による窒化シリコン膜の特性及び均一性の制御例文帳に追加

CONTROL OF CHARACTERISTICS AND UNIFORMITY OF SILICON NITRIDE FILM BY CONTROLLING FILM FORMING PRECURSOR - 特許庁

有機銅の先駆物質ブレンド及び化学気相堆積による銅の堆積方法例文帳に追加

PRECURSORY SUBSTANCE BLEND OF ORGANIC COPPER AND METHOD FOR DEPOSITING COPPER BY CHEMICAL VAPOR DEPOSITION - 特許庁

例文

別に、先駆物質の約2重量%までの水蒸気がチャンバに直接加えられる。例文帳に追加

Separately, water vapor to 2 wt.% of the precursor is directly added to the chamber. - 特許庁

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