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あたけがわの英語
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該当件数 : 2件
本発明では、半導体製造装置用部材のプラズマに曝される面側に形成する層状構造物において、その層状構造物を構成するイットリア多結晶体はガラス質からなる粒界層が実質的に存在しないことにより、プラズマ雰囲気に曝されても粒界層を起点にした腐食が進行することなく、また、それに伴う脱粒を抑制・低減できることを可能とした。例文帳に追加
In a layer structure formed on the side of a member for a semiconductor production system being exposed to plasma, corrosion does not progress starting from a grain boundary layer even if it is exposed to a plasma atmosphere because a vitreous grain boundary layer does not exist substantially in polycrystalline yttria constituting the layer structure, and detachment of particles incident thereto can be suppressed/reduced. - 特許庁
本発明では、半導体製造装置用部材のプラズマに曝される面側に形成するイットリア多結晶体から成る層状構造物において、その層状構造物表面のポア占有率を0.1面積%未満にすることにより、プラズマ雰囲気に曝されてもポアを起点にした腐食が進行することなく、また、それに伴う脱粒を抑制・低減できることを可能とした。例文帳に追加
In a layer structure of polycrystalline yttria formed on the side of a member for a semiconductor production system being exposed to plasma, corrosion does not progress starting from a pore even if it is exposed to a plasma atmosphere because the porosity on the surface of the layer structure is set lower than 0.1 area%, and detachment of particles incident thereto can be suppressed/reduced. - 特許庁
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