二酸化けい素膜の英語

二酸化ケイ素転化膜及びパタ−ン状二酸化ケイ素転化膜の形成方法例文帳に追加

SILICON DIOXIDE CONVERSION FILM AND METHOD OF FORMING PATTERNED SILICON DIOXIDE CONVERSION FILM - 特許庁

低膜応力二酸化ケイ素膜の製造方法例文帳に追加

PRODUCTION OF LOW FILM STRESS SILICON DIOXIDE FILM - 特許庁

二酸化ケイ素薄膜とその製造法例文帳に追加

SILICON DIOXIDE THIN FILM, AND ITS PRODUCTION METHOD - 特許庁

二酸化珪素膜５１の形成後、ＣＶＤ法により、二酸化珪素膜５１上に酸窒化珪素膜６１を形成する。例文帳に追加

After the silicon dioxide film 51 is formed, a silicon oxynitride film 61 is formed on the silicon dioxide film 51 by a CVD (Chemical Vapor Deposition) method. - 特許庁

絶縁体被膜２０は二酸化珪素被膜１３と二酸化珪素被膜１３よりもエッチングレートの小さい窒化被膜１４とからなる。例文帳に追加

The insulator coating 20 is made of a silicon dioxide coating 13 and a nitride coating 14 having an etching rate smaller than that of the silicon dioxide coating 13. - 特許庁

反射層１１は、二酸化珪素／金属／二酸化珪素、又は二酸化チタン／金属／二酸化チタン等の多層膜からなり、好ましくは１５％から６０％の透過率を有する。例文帳に追加

The reflection layer 11 is composed of a multilayer film made of silicon dioxide/metal/silicon dioxide or titanium dioxide/metal/titanium dioxide and, preferably, has transmissivity of 15 to 60%. - 特許庁

陽極酸化膜３４は、二酸化ケイ素膜２６によって覆われている。例文帳に追加

An anode oxidation film 34 is covered with a silicon dioxide film 26. - 特許庁

陽極酸化膜３２は、二酸化ケイ素膜２６によって覆われている。例文帳に追加

The anodic oxidation film 32 is covered with a silicon dioxide film 26. - 特許庁