二酸化けい素被膜の英語

珪弗化水素酸を含む処理液に基板を接触させて該基板表面に二酸化珪素被膜を形成する方法において、二酸化珪素被膜が形成された基板をカルシウム塩を含む水溶液と接触させる。例文帳に追加

In the method for depositing a silicon dioxide film on the surface of a substrate by bringing a substrate into contact with a treating solution containing hydrosilicofluoric acid, a substrate deposited with a silicon dioxide film is brought into contact with an aqueous solution containing calcium salt. - 特許庁

二酸化珪素被膜のピンホール欠点や粒状析出物欠点発生を著しく少なくすることができる二酸化珪素被膜の形成方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for depositing a silicon dioxide coating film by which defect of pinholes and granular deposits in the silicon dioxide film are considerably reduced. - 特許庁

正極合剤１２に含まれる添加剤３２は、表面に導電性炭素被膜３４を有する二酸化けい素（ＳｉＯ_２）の粒子３５からなる。例文帳に追加

The additive 32 contained in the cathode mixture 12 consists of particles 35 of silicon dioxide (SiO_2), having a conductive carbon film 34 on its surface. - 特許庁

シリコン基板上に光ファイバ搭載用のＶ溝を設け、二酸化珪素被膜を形成したもののＶ溝の幅を計測する方法において、レーザ反射方式のオートフォーカスにより、二酸化珪素被膜表面のＶ溝のエッジをフォーカス位置として検出し、Ｖ溝の幅を計測する方法。例文帳に追加

In the method for measuring width in the V groove that is provided on the silicon substrate, is used for mounting the optical fibers, and forms the silicon dioxide film, the edge of the V groove on the surface of the silicon dioxide film is detected as a focus position, and the width in the V groove is measured. - 特許庁

表面平滑、平坦性に優れ、樹脂ＢＭとの密着性の高い二酸化珪素被膜被覆ガラス基板を製造する。例文帳に追加

To produce a silicon dioxide-coated glass substrate excellent in surface smoothness and flatness and high in adhesion to resin BM. - 特許庁

チタン化合物を含む流体を基体に接触させ、該チタン化合物の分解温度以上で分解せしめて基体表面に二酸化チタン被膜を形成する方法において、前記流体中に有機系または無機系のフッ素化合物を添加した二酸化チタン被膜の形成法。例文帳に追加

In the method for forming a titanium dioxide coating film by which a fluid containing a titanium compound is brought into contact with a substrate and the titanium compound is decomposed at the decomposition temperature of the compound or above to form the coating on the surface of the substrate, an organic or inorganic fluorine compound is added to the fluid. - 特許庁

本反射鏡１０では、主として二酸化珪素により形成された光触媒親水性被膜１６の膜厚を約９０ｎｍに設定すると共に、光触媒親水性被膜１６に含まれる二酸化チタンで形成された光触媒粒子１８の質量比を６０％程度とした。例文帳に追加

In the reflector 10, the thickness of a photocatalytic hydrophilic film 16 mainly made of silicon dioxide is set to approximately 90 nm; and the mass ratio of a photocatalytic particle 18, made of titanium dioxide contained in the photocatalytic hydrophilic film 16, is set to approximately 60%. - 特許庁

珪素含有量の少ない磁性粉末において、その粒子の表面全体を覆う薄くて均一な二酸化珪素被膜を短時間で形成させる方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a method for forming a thin and uniform silicon dioxide film covering the whole of the surface of each grain in magnetic powder having a low silicon content in a short period of time. - 特許庁