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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > 二酸化けい素被膜に関連した英語例文

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二酸化けい素被膜の部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 32



例文

二酸化被膜の形成方法例文帳に追加

FORMING METHOD OF SILICON DIOXIDE FILM - 特許庁

二酸化被膜の形成方法例文帳に追加

METHOD FOR DEPOSITING SILICON DIOXIDE FILM - 特許庁

二酸化被膜の形成方法例文帳に追加

METHOD FOR DEPOSITING SILICON DIOXIDE COATING FILM - 特許庁

絶縁体被膜20は二酸化被膜13と二酸化被膜13よりもエッチングレートの小さい窒化被膜14とからなる。例文帳に追加

The insulator coating 20 is made of a silicon dioxide coating 13 and a nitride coating 14 having an etching rate smaller than that of the silicon dioxide coating 13. - 特許庁

例文

被膜8は、二酸化等の高輻射率物質により構成される。例文帳に追加

The coating film 8 is constituted of a high-emissivity substance such as silicon dioxide. - 特許庁


例文

絶縁体被膜20は二酸化被膜13と二酸化被膜13よりもエッチングレートの小さい窒化被膜14とからなり、二酸化被膜13に、窒化被膜14の内周から内側に張り出すように張り出し部13aが形成されている。例文帳に追加

The insulator coating 20 is made of a silicon dioxide coating 13 and a nitride coating 14 having an etching rate smaller than that of the silicon dioxide coating 13, and a bulge 13a is formed so as to bulge to the inside from the inner circumference of the nitride coating 14 on the silicon dioxide coating 13. - 特許庁

過飽和析出法による二酸化被膜の形成に当たり、二酸化被膜の成膜速度を20〜100nm/時とすることにより該二酸化被膜中の弗含有量を調整し、屈折率1.435以下の反射防止層を形成する低反射基板の製造方法。例文帳に追加

In the method for manufacturing the low reflective substrate, by specifying film-forming rate of the silicon dioxide film to 20 to 100 nm/h in the process of forming a silicon dioxide film by the method of supersaturation precipitation, so as to control the fluorine content in the silicon dioxide film and to form an antireflection film having ≤1.435 of refractive index. - 特許庁

珪弗化水酸を含む処理液に基板を接触させて該基板表面に二酸化被膜を形成する方法において、二酸化被膜が形成された基板をカルシウム塩を含む水溶液と接触させる。例文帳に追加

In the method for depositing a silicon dioxide film on the surface of a substrate by bringing a substrate into contact with a treating solution containing hydrosilicofluoric acid, a substrate deposited with a silicon dioxide film is brought into contact with an aqueous solution containing calcium salt. - 特許庁

二酸化被膜のピンホール欠点や粒状析出物欠点発生を著しく少なくすることができる二酸化被膜の形成方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for depositing a silicon dioxide coating film by which defect of pinholes and granular deposits in the silicon dioxide film are considerably reduced. - 特許庁

例文

正極合剤12に含まれる添加剤32は、表面に導電性炭被膜34を有する二酸化けい(SiO_2)の粒子35からなる。例文帳に追加

The additive 32 contained in the cathode mixture 12 consists of particles 35 of silicon dioxide (SiO_2), having a conductive carbon film 34 on its surface. - 特許庁

例文

シリコン基板上に光ファイバ搭載用のV溝を設け、二酸化被膜を形成したもののV溝の幅を計測する方法において、レーザ反射方式のオートフォーカスにより、二酸化被膜表面のV溝のエッジをフォーカス位置として検出し、V溝の幅を計測する方法。例文帳に追加

In the method for measuring width in the V groove that is provided on the silicon substrate, is used for mounting the optical fibers, and forms the silicon dioxide film, the edge of the V groove on the surface of the silicon dioxide film is detected as a focus position, and the width in the V groove is measured. - 特許庁

表面平滑、平坦性に優れ、樹脂BMとの密着性の高い二酸化被膜被覆ガラス基板を製造する。例文帳に追加

To produce a silicon dioxide-coated glass substrate excellent in surface smoothness and flatness and high in adhesion to resin BM. - 特許庁

チタン化合物を含む流体を基体に接触させ、該チタン化合物の分解温度以上で分解せしめて基体表面に二酸化チタン被膜を形成する方法において、前記流体中に有機系または無機系のフッ化合物を添加した二酸化チタン被膜の形成法。例文帳に追加

In the method for forming a titanium dioxide coating film by which a fluid containing a titanium compound is brought into contact with a substrate and the titanium compound is decomposed at the decomposition temperature of the compound or above to form the coating on the surface of the substrate, an organic or inorganic fluorine compound is added to the fluid. - 特許庁

本反射鏡10では、主として二酸化により形成された光触媒親水性被膜16の膜厚を約90nmに設定すると共に、光触媒親水性被膜16に含まれる二酸化チタンで形成された光触媒粒子18の質量比を60%程度とした。例文帳に追加

In the reflector 10, the thickness of a photocatalytic hydrophilic film 16 mainly made of silicon dioxide is set to approximately 90 nm; and the mass ratio of a photocatalytic particle 18, made of titanium dioxide contained in the photocatalytic hydrophilic film 16, is set to approximately 60%. - 特許庁

含有量の少ない磁性粉末において、その粒子の表面全体を覆う薄くて均一な二酸化被膜を短時間で形成させる方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a method for forming a thin and uniform silicon dioxide film covering the whole of the surface of each grain in magnetic powder having a low silicon content in a short period of time. - 特許庁

被膜8は、数μm〜数十μmの厚さを有し、二酸化系又は酸化アルミニウム系の物質等を含む高輻射率物質より形成される。例文帳に追加

The film 8 has a thickness of several μm to several ten μm and is formed of a high radiation substance including silicon dioxide or aluminum oxide substance. - 特許庁

被膜8は、数μm〜数十μmの厚さを有し、二酸化系又は酸化アルミニウム系の物質等を含む高輻射物質より形成される。例文帳に追加

The coating 8 has a thickness of several micrometers to several ten micrometers, and comprises a highly radiative substance including a silicon dioxide-based or aluminum oxide-based substance or the like. - 特許庁

そして、前記ガラスバルブ13が紫外線カットガラスによって形成され、該ガラスバルブ13の内面に二酸化被膜14が形成されている。例文帳に追加

The glass bulb 13 is formed with ultraviolet cut glass, and a coating film 14 of silicon dioxide is formed on the inside surface of the glass bulb 13. - 特許庁

シリコン基板上に光ファイバ搭載用のV溝を設け、二酸化被膜を形成したもののV溝の幅を、非破壊法により計測する方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a method for measuring width in a V groove that is provided on a silicon substrate, is used for mounting optical fibers, and forms a silicon dioxide film by a nondestructive method. - 特許庁

金属側のトルク伝達面5bまたは8gに、二硫化モリブデン、グラファイト、フッ化カルシウムまたは二酸化ケイでなる固体潤滑被膜を設ける。例文帳に追加

A solid lubricant film made of a molybdenum disulfide, a graphite, calcium fluoride, or silicon dioxide is formed on the torque transmission surface 5b or 8g on a metal side. - 特許庁

本反射鏡10では、親水性被膜20を主に二酸化で構成し、且つ、親水性被膜20に含まれる光触媒粒子22の含有率を親水性被膜20全体の40%乃至65%とし、これにより、親水性被膜20の光の透過率をガラス基板12の光の透過率に略等しくした。例文帳に追加

In this reflection mirror 10, a hydrophilic film 20 is made mainly of silicon dioxides, the rate of content of photocatalyst particles 22 contained in the hydrophilic film 20 is set between 40 and 65% of the entire hydrophilic film 20 to thereby make the light transmittance of the hydrophilic film 20 to be almost equal to the light transmittance of a glass substrate 12. - 特許庁

体積平均粒子径が3〜50μmである水膨潤性合成無機層状珪酸塩、および体積平均粒子径が0.5μm以下である疎水性樹脂水性分散体を含有する組成物から形成される被膜により基材を被覆し、基材の二酸化への暴露を抑制することを特徴とする二酸化の遮蔽方法。例文帳に追加

The method for shielding carbon dioxide comprises suppressing an exposure of a substrate to carbon dioxide by coating the substrate with a film formed by a composition comprising the water expandable synthetic inorganic phyllosilicate with a volume average particulate diameter of 3-50 μm and an aqueous dispersion of a hydrophobic resin with a volume average particulate diameter of ≤0.5 μm. - 特許庁

珪弗化水酸の酸化珪飽和水溶液と基板とを接触させて基板表面に二酸化被膜を析出させる過飽和析出法により、基板表面に低屈折率の反射防止層を形成して可視光透過率の高い低反射基板を提供する。例文帳に追加

To form an antireflection layer, having a low refractive index on the surface of a substrate and to provide a low reflective substrate, having high transmittance for visible rays by the method of supersaturation precipitation that the substrate is brought into contact with a silicon oxide supersaturated aqueous solution of hydrosilicofluoric acid to precipitate a silicon dioxide film on the substrate surface. - 特許庁

体積平均粒子径が3〜50μmである水膨潤性合成無機層状珪酸塩、および体積平均粒子径が0.5μm以下である疎水性樹脂水性分散体を含有する組成物から形成される被膜を使用することを特徴とする二酸化の遮蔽方法。例文帳に追加

The method for shielding carbon dioxide in which a film formed by a composition comprising a water expandable synthetic inorganic phyllosilicate with a volume average particulate diameter of 3-50 μm and an aqueous dispersion of a hydrophobic resin with a volume average particulate diameter of ≤0.5 μm is used. - 特許庁

主成分が二酸化ケイで内部に気泡を有する軽量な石塊状固体2の全表面に、非結晶シリカ微粒子を多数有する塗料型断熱材の被膜3〜5を複数層設けたことを特徴とするセラミック被覆断熱体。例文帳に追加

The ceramic coated thermal insulation body is formed by providing the entire surface of a lightweight pebble-like solid 2 which is composed of silicon dioxide as a main component and internally has bubbles with a plurality of coating type insulating layers of coatings 3 to 5 having a number of amorphous silica particulates. - 特許庁

金属Siを含浸させたSiC焼結体から成るローラー本体31と、ローラー本体31表面を被覆する二酸化ケイを主成分とするガラス質被膜30とから、ローラーハース炉10において用いる被処理基材22を搬送するための搬送用ローラー20を構成した。例文帳に追加

A conveying roller 20 is composed of a roller main body 31 composed of a SiC sintered body impregnated with metal Si, and the glass coating 30 mainly composed of silicon dioxide and covering a surface of the roller main body 31, and conveys the treated base material 22 used in the roller hearth furnace 10. - 特許庁

含Crニッケル基合金管を二酸化ガスおよび非酸化性ガスからなる雰囲気ガス中で加熱し、含Crニッケル基合金管内面に、クロム酸化物からなる厚さ0.2〜1.5μmの酸化被膜を形成することを特徴とする含Crニッケル基合金管の製造方法。例文帳に追加

A method for manufacturing a Cr-containing nickel-based alloy pipe comprises forming an oxidized coating film composed of chromium oxide and having a thickness of 0.2-1.5 μm on the inner surface of a Cr-containing nickel-based alloy pipe by heating the Cr-containing nickel-based alloy pipe in an atmospheric gas comprising carbon dioxide gas and a non-oxidizing gas. - 特許庁

下記の工程を含む導電性繊維の製造方法:(1)超臨界又は亜臨界二酸化流体中、5〜35 MPaの圧力下、繊維を重合可能なアニリン化合物で処理する工程、及び(2)(1)で得られた繊維を酸化剤で処理して、繊維表面に導電性ポリアニリン被膜を形成する工程。例文帳に追加

The method for producing the conductive fiber comprises (1) a step for treating a fiber with a polymerizable aniline compound in a supercritical or subcritical carbon dioxide fluid under a pressure of 5-35 MPa, and (2) a step for forming the conductive polyaniline coated film on the surface of the fiber by treating the fiber obtained in the step (1) with an oxidizing agent. - 特許庁

望ましくは、前記導電性被膜を2層構造とし、前記集電体本体に直接接する第1層には導電性材料として炭材料を分散し、前記第1層上に形成されている第2層には導電性材料として二酸化錫を分散する。例文帳に追加

It is preferable if the conductive coated film has a two layer structure, a carbon material is dispersed as the conductive material on a first layer making direct contact with the collector body, and tin dioxide is dispersed as the conductive material on a second layer formed on the first layer. - 特許庁

光触媒性親水膜16は、光触媒性親水膜16の基本成分である二酸化を有する溶質を溶剤中に溶かし込むと共に、光触媒粒子18を混合した被膜原液をガラス基板12の表面上に塗布若しくは滴下した状態で、ガラス基板12を回転させることで被膜原液をガラス基板12の表面全体に薄く広げられ、更に、焼成処理することで形成される。例文帳に追加

A photocatalyst hydrophilic film 16 is formed by dissolving a solute having silicon dioxide which is the basic component of the film 16, applying or dropping a film stock solution mixed with photocatalyst particles 18 onto the surface of a glass substrate 12 and rotating the glass substrate 12 in this state to thinly spread the film stock solution over the entire part of the surface of the glass substrate 12 and further calcining the substrate. - 特許庁

Crを含むNi基合金を、二酸化ガスならびに一酸化炭ガス、窒ガスおよび炭化水ガスの中から選択される少なくとも1種のガスからなる混合ガス雰囲気下で加熱してNi基合金表面にクロム酸化物からなる酸化被膜を形成させることを特徴とするNi基合金の製造方法。例文帳に追加

The production method of the Ni-based alloy is characterized in that the Ni-based alloy containing Cr is heated in a gaseous mixture atmosphere composed of carbon dioxide and at least one kind selected from carbon monoxide, gaseous nitrogen and gaseous hydrocarbon and an oxide film composed of a chromium oxide is formed on the surface of the Ni-based alloy. - 特許庁

例文

NaOH粒子を含むガス中の、当該NaOHの粒子濃度を、光散乱式によって測定する場合に、前記NaOHの粒子濃度測定前に、被測定ガス中に二酸化(CO_2)を混入させ、強アルカリで化学的に活性な粒子であるNaOH粒子の表面に、化学的に不活性なNa_2CO_3被膜を形成する工程を付加する。例文帳に追加

When the particle concentration of NaOH in gas containing NaOH particles is to be measured by a light-scattering method, a process is added, where carbon dioxide (CO_2) is mixed into the gas to be measured, before measuring the particle concentration of NaOH and a chemical inactive Na_2CO_3 film, is formed on the surface of NaOH particles that are strong alkali and chemically active. - 特許庁

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