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半乾式排ガス処理装置の英語
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該当件数 : 1件
半導体製造工場の排ガスなどに含まれる過弗化物(PFC)を無害化処理するときに連続的かつ大量に発生するHF含有ガスから乾式法でHFを除去して無害化するための方法と装置を得る。例文帳に追加
To obtain a method and an apparatus for removing HF by a dry process from an HF-containing gas generated continuously and in high volume, and for rendering it harmless, in rendering perfluorocarbon (PFC) contained in an exhaust gas or the like from a semiconductor manufacturing facility harmless. - 特許庁
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