半乾式法の英語

乾式法により、半田ペースト金属粉中より5μｍ未満の微細粒を取り除き、従来は破棄されていた有用な5〜25μｍの微細粉を分級・回収・利用できるファインピッチ用半田粉末の製造方法。例文帳に追加

To provide a manufacturing method of solder powder for fine pitch capable of classifying, recovering and utilizing useful fine powder of 5-25 μm in size which has conventionally been disposed by removing fine powder of less than 5 μm from a solder paste metallic powder by a dry method. - 特許庁

水素吸蔵合金粉末を乾式造粒法または半乾式造粒法または湿式造粒法を用いて造粒し造粒粉を作製した後、成形加工してなる集電支持体を含有しない水素吸蔵合金成形体にバインダー溶液を含浸させた後、乾燥により溶媒を取り除き、成形体内部にバインダーを含有させることを特徴とする水素吸蔵合金成形体の製造方法を提供する。例文帳に追加

Hydrogen occlusion alloy powder is granulated by dry granulation method, semi-dry granulation method, or wet granulation method, and afterwards, a binder solvent is impregnated in the hydrogen occlusion alloy molded body formed by molding which does not contain a current collecting supporting body, and afterwards, the solvent is removed by drying, and the binder is deposited in the molded body. - 特許庁

酸化剤としてオゾンガスを用いるとともに、製造方法を半乾式とすることにより、廃液の発生を極力少なくすることができる除マンガン濾材の製造方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a method for manufacturing demanganese filter media by which generation of waste water is suppressed by using ozone gas as an oxidizing agent and applying a semi-wetting type manufacturing method. - 特許庁

半導体製造工場の排ガスなどに含まれる過弗化物（ＰＦＣ）を無害化処理するときに連続的かつ大量に発生するＨＦ含有ガスから乾式法でＨＦを除去して無害化するための方法と装置を得る。例文帳に追加

To obtain a method and an apparatus for removing HF by a dry process from an HF-containing gas generated continuously and in high volume, and for rendering it harmless, in rendering perfluorocarbon (PFC) contained in an exhaust gas or the like from a semiconductor manufacturing facility harmless. - 特許庁

光散乱加工されたプラスチックフイルムからなる基材の上に、乾式製膜法によって形成した透過率が３〜５０％で、反射率が５０〜９７％の範囲にある半透過性で半反射性の無機薄膜層を設けた半透過半反射拡散性フイルム。例文帳に追加

A translucent semi-reflective inorganic thin film layer having 3-50% transmittance and 50-97% reflectance is formed by a dry film forming method on a substrate comprising a plastic film provided with light scattering property to obtain the objective translucent semi-reflective diffusible film. - 特許庁

塩化水素や硫黄酸化物の酸性ガスを含む燃焼排ガスに消石灰を添加して集塵する燃焼排ガスの乾式又は半乾式処理法において、消石灰の必要添加量を低減して、飛灰の重金属固定化処理における薬剤添加量及び飛灰発生量を低減すると共に、最終処分場におけるスケール障害を防止する。例文帳に追加

To reduce the addition of chemical and the generation of fly ash at heavy metal fixing treatment of the fly ash and also to prevent a scale trouble at a final disposal plant by reducing a required addition of slaked lime in a dry type or a semidry type treating method of the waste combustion gas in which the slaked lime is added to the combustion gas containing the acid gas such as hydrogen chloride and sulfur oxides to collect dust. - 特許庁

半導体や液晶製造工場から排出されるＰＦＣを分解したとき等に生成するＨＦ及びＳＯｘ含有排ガスを、乾式法により無害化処理する。例文帳に追加

To make exhaust gas containing HF and SOx harmless by a dry process, the exhaust gas being formed when decomposing PFC (Perfluoro Compound) discharged from a factory for manufacturing semiconductors or liquid crystals. - 特許庁

本発明は、コーティングされたウエーハ（半導体円板）の表面の縁に近い定義された区間を乾式エッチングする装置及び方法に関する。例文帳に追加

The present invention relates to removal of coatings from the predetermined sections near the edges of at least one of the surfaces of a wafer or a semiconducto disk, by a dry etching. - 特許庁