反跳散乱の英語

低エネルギーイオン散乱分光法による弾性反跳粒子検出法によって表面処理装置（成膜装置１）内の薄膜表面の水素濃度を測定するために、真空室２内にイオンを入射するイオン源１１と該入射イオンによって反跳される反跳原子を検出する検出器１２とを、表面処理装置が備える真空室２内に連通させて設ける。例文帳に追加

An ion source 11 injecting ions into a vacuum chamber 2 and a detector 12 detecting recoil atoms made to recoil by injection ions are communicated and mounted in the vacuum chamber 2 installed to the surface treatment apparatus for measuring the hydrogen concentration of a thin-film surface in the surface treatment apparatus (a film deposition device) by an elastic recoil- particle detecting method by a low-energy ion scattering spectral method. - 特許庁

低エネルギーイオン散乱分光法による弾性反跳粒子検出法を用い、表面処理装置の真空室２内で行うことによって、試料（基板２０）を大気中に取り出すことなく表面処理装置内において、試料の表面原子層の水素濃度の測定を行う。例文帳に追加

The hydrogen concentration of the surface atomic layer of a sample (a substrate 20) is measured in the surface treatment apparatus without extracting the sample in atmospheric air, by conducting in the vacuum chamber 2 of the surface treatment apparatus by using the elastic recoil-particle detecting method by the low-energy ion scattering spectral method. - 特許庁