未加工アクリル樹脂の英語

基材面に設けた感光性樹脂組成物層にパターンマスクを介して露光を行った後、未露光部分又は未露光部分と該未露光部分の下部の基材面をサンドブラスト加工して凹凸模様を形成させるにあたり、カルボキシル基を含有しないウレタンアクリル系樹脂を、ベースポリマーとして含む感光性樹脂組成物層を使用する。例文帳に追加

When a photosensitive resin composition layer disposed on the surface of a substrate is exposed through a pattern mask and either the unexposed regions or the unexposed regions and the surface of the substrate under the unexposed regions are sandblasted to form a rugged pattern, a photosensitive resin composition layer containing a urethane-acrylic resin having no carboxyl group as a base polymer is used. - 特許庁