MIS deviceとは 意味・読み方・使い方

METHOD OF FORMING MIS SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

ＭＩＳ型半導体装置の作製方法 - 特許庁

MANUFACTURING METHOD FOR MIS TYPE SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

ＭＩＳ型半導体装置の製造方法 - 特許庁

MANUFACTURE OF MIS-TYPE SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

ＭＩＳ型半導体装置の作製方法 - 特許庁

MIS-DETECTION PREVENTION DEVICE AT COIN SELECTOR, AND COIN SELECTOR PROVIDED WITH MIS-DETECTION PREVENTION DEVICE例文帳に追加

コインセレクタにおける誤検知防止装置及び誤検知防止装置を備えたコインセレクタ - 特許庁

MIS type semiconductor device, comprising first MIS element (QW11) formed on the semiconductor substrate, utilizing either the drain (3) or the source (4) of the first MIS element (QW11) and the second MIS element (QR11) formed above the first MIS element (QW11).発音を聞く 例文帳に追加

半導体基板(１)の一主面に形成された第１のMIS素子（Qｗ11）と、この第１のMIS素子（Qｗ11）のドレイン(３)及びソース(４)領域のいずれか一方の領域をゲートとして用い、かつ前記第１のMIS素子（Qｗ11）の上部に積み重ね形成された第２のMIS素子（QＲ11）とを有したことを特徴とするMIS型半導体装置。 - 特許庁

EVALUATION METHOD OF MIS SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

ＭＩＳ型半導体層装置の評価方法 - 特許庁

MIS-TYPE SEMICONDUCTOR DEVICE AND MANUFACTURE THEREOF例文帳に追加

ＭＩＳ型半導体装置とその作製方法 - 特許庁

MIS TYPE SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加

ＭＩＳ型半導体装置の製造方法 - 特許庁