A processing station S2, an interface station S3, and an aligner S4 are connected in this order to a cassette station S1, where wafer cassettes 22 are loaded or unloaded.例文帳に追加

ウエハカセット２２を搬出入するカセットステ−ションＳ１に、処理ステ−ションＳ２とインタ−フェイスステ−ションＳ３と露光装置Ｓ４とをこの順に接続する。 - 特許庁

The aligner 100 is provided with the measuring station 110 measuring alignment and a focus in a substrate P, an exposure station 120 scanning and exposing respective shot regions of the substrate P which are measured by the measuring station 110, and a main control part 141 controlling an exposure operation in the exposure station 120 based on a measured result in the measuring station 110.例文帳に追加

露光装置１００は、基板Ｐに対してアライメント計測およびフォーカス計測を行う計測ステーション１１０と、計測ステーション１１０で計測された基板Ｐの各ショット領域を走査露光する露光ステーション１２０と、計測ステーション１１０での計測結果に基づいて露光ステーション１２０での露光動作を制御する主制御部１４１と、を有する。 - 特許庁