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「beam blank」の部分一致の例文検索結果
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MANUFACTURING METHOD OF RETICLE BLANK FOR CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE例文帳に追加
荷電粒子線露光用レチクルブランクの製造方法 - 特許庁
ELECTRON BEAM EXPOSING RETICLE BLANK MANUFACTURING METHOD AND MASK例文帳に追加
電子線露光用レチクルブランクの作製方法及びマスク - 特許庁
RETICLE FOR ELECTRON BEAM EXPOSURE, RETICLE BLANK FOR ELECTRON BEAM EXPOSURE AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
電子線露光用レチクル、電子線露光用レチクルブランク及びその製造方法 - 特許庁
MANUFACTURE OF TRANSFER MASK-BLANK FOR EXPOSURE OF CHARGED-PARTICLE BEAM例文帳に追加
荷電粒子線露光用転写マスクブランクスの製造方法 - 特許庁
MASK BLANK FOR ELECTRON BEAM PLOTTING, MASK FOR ELECRON BEAM PLOTTING AND MANUFACTURE OF MASK FOR ELECTRON BEAM PLOTTING例文帳に追加
電子線描画用マスクブランクス、電子線描画用マスクおよび電子線描画用マスクの製造方法 - 特許庁
A load beam blank 50 and a flexure blank 60 are used in the method of manufacturing the suspension 7.例文帳に追加
サスペンション７の製造方法において、ロードビームブランク５０とフレキシャブランク６０が使用される。 - 特許庁
EUV BEAM EXPOSURE REFLECTION TYPE MASK AND EUV BEAM EXPOSURE REFLECTION TYPE MASK BLANK例文帳に追加
ＥＵＶ光露光用反射型マスクおよびＥＵＶ光露光用反射型マスクブランク - 特許庁
RETICLE FOR ELECTRON BEAM EXPOSURE AND RETICLE BLANK FOR ELECTRON BEAM REDUCTION EXPOSURE AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
電子線露光用レチクル、電子線縮小露光用レチクルブランク及びその製造方法 - 特許庁
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