ceric ammonium nitrateとは 意味・読み方・使い方

The etching solution for the Ni-based thin film formed on a lath substrate comprises ceric ammonium nitrate of 8-12 wt.% and perchloric acid of 5-10 wt.% added to an aqueous medium.例文帳に追加

硝酸第２セリウムアンモニウム８〜１２重量％と、過塩素酸５〜１０重量％とを水性媒体中に含有することを特徴とする、ガラス基板上に形成されたニッケル系薄膜用エッチング液。 - 特許庁

The etching solution used for the manufacture of the BM contains: at least 15-20 mass% ceric ammonium nitrate (a); 1-8 mass% one or both of nitric acid (b) and perchloric acid (c); and 0.01-0.1 mass% compound (d) expressed by general formula (1).例文帳に追加

少なくとも硝酸第二セリウムアンモニウム（ａ）を１５〜２０質量％と、硝酸（ｂ）および過塩素酸（ｃ）のいずれか一方、または両方を１〜８質量％と、一般式（１）で表される化合物（ｄ）を０．０１〜０．１質量％とを含有することを特徴とするブラックマトリックスの製造に使用されるエッチング液。 - 特許庁

The etchant for conductive films is characterized in that it contains at least ceric ammonium nitrate; an etching agent (a) for conductive film having at least one selected from the group consisting of perchloric acid, nitric acid and acetic acid; and a compound (b) represented by general formula (1): (Rf1SO_2)(Rf2SO_2)NX.例文帳に追加

少なくとも硝酸第二セリウムアンモニウムと、過塩素酸、硝酸および酢酸から選ばれる少なくとも１種とを有する導電膜用エッチング剤（ａ）と、下記の一般式（１）で表される化合物（ｂ）とを含有することを特徴とする導電膜用エッチング液、および該エッチング液を使用した導電膜のエッチング方法。 - 特許庁