co-sputteringとは 意味・読み方・使い方

Fe-Co-BASED ALLOY SPUTTERING TARGET MATERIAL FOR FORMING SOFT MAGNETIC FILM例文帳に追加

軟磁性膜形成用Ｆｅ−Ｃｏ系合金スパッタリングターゲット材 - 特許庁

METHOD FOR PRODUCING Fe-Co-Ni-BASED ALLOY SPUTTERING TARGET MATERIAL例文帳に追加

Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ系合金スパッタリングターゲット材の製造方法 - 特許庁

METHOD FOR PRODUCING Co-Fe-Ni-BASED ALLOY SPUTTERING TARGET MATERIAL例文帳に追加

Ｃｏ−Ｆｅ−Ｎｉ系合金スパッタリングターゲット材の製造方法 - 特許庁

Co-Fe-BASED ALLOY SPUTTERING TARGET MATERIAL AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME例文帳に追加

Ｃｏ−Ｆｅ系合金スパッタリングターゲット材およびその製造方法 - 特許庁

Fe-Co-BASED ALLOY SPUTTERING TARGET MATERIAL, AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME例文帳に追加

Ｆｅ−Ｃｏ系合金スパッタリングターゲット材およびその製造方法 - 特許庁

Co-Fe-BASED ALLOY SPUTTERING TARGET MATERIAL, AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME例文帳に追加

Ｃｏ−Ｆｅ系合金スパッタリングターゲット材およびその製造方法 - 特許庁

METHOD OF VAPOR DEPOSITION OF HEUSLER ALLOY BY CO- SPUTTERING METHOD例文帳に追加

同時スパッタリング法によるホイスラー合金の蒸着方法 - 特許庁

HIGH PURITY Co-Fe ALLOY SPUTTERING TARGET, MAGNETIC THIN FILM DEPOSITED BY USING SAME SPUTTERING TARGET AND METHOD FOR PRODUCING SAME HIGH PURITY Co-Fe ALLOY SPUTTERING TARGET例文帳に追加

高純度Ｃｏ−Ｆｅ合金スパッタリングターゲット及び同スパッタリングターゲットを用いて形成した磁性薄膜並びに高純度Ｃｏ−Ｆｅ合金スパッタリングターゲットの製造方法 - 特許庁