colloidal characteristicとは 意味・読み方・使い方

To provide an active control colloidal damper having a controllable damping characteristic.例文帳に追加

減衰特性を制御することが可能なアクティブ制御コロイダルダンパの提供。 - 特許庁

The polishing method is to specular-polish the sapphire wafer (substrate) reared under a Czochralski method with colloidal silica as a polishing liquid and constitutes its characteristic feature that the content of silica in the colloidal silica is adjusted to be 35 to 50 wt.%.例文帳に追加

コロイダルシリカを研磨液とし、チョクラルスキー法で育成されたサファイアウェハー（基板）を鏡面研磨する研磨方法であって、上記コロイダルシリカにおけるシリカの含有量が３５〜５０重量％に調整されていることを特徴とする。 - 特許庁

Since contents of aluminum are large, much colloidal silica of a reverse electrical characteristic adheres to the grinding wheel, and the ground object can be worked to provide the successful surface roughness.例文帳に追加

アルミニウムの含有量が多いため、反対の電気特性のコロイダルシリカが砥石に多く付着し、被研削物を良好な表面粗さに加工することができる。 - 特許庁

Thereby, according to two kinds of damping characteristics, the damping characteristic of the colloidal damper can be made appropriate, the damping characteristic suitable for relative movement of two objects is provided and, thereby, the relative movement of them can be effectively damped.例文帳に追加

そのことにより、２種類の減衰特性により当該コロイダルダンパの減衰特性の適切化を図ることが可能であり、２つの物の相対動作に適応した減衰特性とすることで、それらの相対動作を効果的に減衰させることが可能となる。 - 特許庁

To provide an abrasive composition which makes colloidal silica highly stable in polishing the surfaces, particularly, metallic surfaces of various kinds of semiconductor devices, magnetic disks, etc., and can maintain a stable polishing characteristic for a long time and with which a high-accuracy high- quality specular surface can be obtained.例文帳に追加

各種半導体デバイス表面、磁気ディスク表面等のとくに金属表面の鏡面研磨時に、コロイダルシリカの安定性が高く、研磨特性が長期に安定であり、高精度、高品質の鏡面が得られる研磨用組成物およびそれを用いた研磨方法を提供すること。 - 特許庁