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To provide a manufacturing method of optical element for microlithography in which an optical element used for ultraviolet irradiation especially for microlithography is made from cubic granatite, cubic spinel, cubic perovskite, cubic M(II)-oxide and/or M(IV)-oxide.例文帳に追加
特にマイクロリトグラフィーでの紫外線照射に用いる光学素子を立方晶グラナタイト、立方晶スピネル、立方晶ペロブスカイト、立方晶Ｍ（ＩＩ）酸化物及び／またはＭ（ＩＶ）酸化物から作製する。 - 特許庁
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