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mask layoutとは 意味・読み方・使い方
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「mask layout」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 194件
MASK LAYOUT EDITOR DEVICE AND MASK LAYOUT EDITOR PROGRAM例文帳に追加
マスクレイアウトエディタ装置及びマスクレイアウトエディタプログラム - 特許庁
MASK LAYOUT PATTERN VERIFICATION DEVICE AND ITS METHOD例文帳に追加
マスクレイアウトパターン検証装置及び方法 - 特許庁
SEMICONDUCTOR MASK LAYOUT PATTERN CORRECTION/ VERIFICATION DEVICE例文帳に追加
半導体マスクレイアウトパターン補正・検証装置 - 特許庁
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「mask layout」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 194件
VERIFICATION METHOD FOR MASK LAYOUT FIGURE AND OPTICAL IMAGE例文帳に追加
マスクレイアウト図形と光学像の検証方法 - 特許庁
MASK LAYOUT DATA CREATION METHOD, MASK LAYOUT DATA CREATION APPARATUS AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
マスクレイアウトデータ作成方法、マスクレイアウトデータ作成装置及び半導体装置の製造方法 - 特許庁
METHOD FOR PRODUCING MASK, STORAGE MEDIUM STORED WITH MASK PATTERN LAYOUT PROGRAM, AND APPARATUS FOR PRODUCING MASK例文帳に追加
マスク製造方法、マスクパターンレイアウトプログラムを記憶した記憶媒体、及びマスク製造装置 - 特許庁
DESIGN AND LAYOUT OF PHASE SHIFTING PHOTOLITHOGRAPHIC MASK例文帳に追加
位相シフト・ホトリソグラフイック・マスクのレイアウト及び設計 - 特許庁
SEMICONDUCTOR DEVICE AND SEMICONDUCTOR MASK LAYOUT METHOD例文帳に追加
半導体装置および半導体マスクレイアウト方法 - 特許庁
LOGIC CELL, MASK LAYOUT METHOD AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
論理セル、マスクレイアウト方法および半導体装置 - 特許庁
A mask is manufactured in accordance with a post-OPC mask layout (process 210).例文帳に追加
ポストOPCマスクレイアウトに従ってマスクが製造される(工程210)。 - 特許庁
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マスクレイアウト
日英・英日専門用語
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