Maskless lithographyとは 意味・読み方・使い方

MASKLESS LITHOGRAPHY SYSTEM FOR FORMING GRAY SCALE PATTERN ON OBJECT AND METHOD FOR FORMING GRAY SCALE PATTERN ON OBJECT BETWEEN MASKLESS LITHOGRAPHY例文帳に追加

対象上にグレースケールパターンを形成するためのマスクレスリソグラフィシステム及びマスクレスリソグラフィの間に対象上にグレースケールパターンを形成するための方法 - 特許庁

LITHOGRAPHY APPARATUS, AND APPARATUS MANUFACTURING METHOD UTILIZING DYNAMIC CORRECTION OF MAGNIFICATIONS AND POSITIONS IN MASKLESS LITHOGRAPHY例文帳に追加

リソグラフィ装置及びマスクレス・リソグラフィにおける倍率及び位置の動的修正を利用したデバイス製造方法 - 特許庁

SYSTEM AND METHOD FOR VERIFYING AND CONTROLLING PERFORMANCE OF MASKLESS LITHOGRAPHY TOOL例文帳に追加

マスクレスリソグラフィツールのパフォーマンスを検査およびコントロールするためのシステムおよび方法 - 特許庁

To provide an apparatus and method that more efficiently and effectively performs maskless lithography.例文帳に追加

マスクレス・リソグラフィをより効率的に実行する装置及び方法を提供すること。 - 特許庁

OPTICAL SYSTEM AND METHOD FOR ILLUMINATING REFLECTIVE SPATIAL LIGHT MODULATOR FOR MASKLESS LITHOGRAPHY例文帳に追加

マスクレスリソグラフィの反射型空間光変調器を照明するための光学系および方法 - 特許庁

To provide a system and a method which are used to improve maskless lithography technology.例文帳に追加

マスクレス・リソグラフィ技術を改善するために使用されるシステム及び方法を提供する。 - 特許庁

To minimize scattered light in a maskless lithography system having multiple pattern generating devices.例文帳に追加

マルチパターン生成装置をもつマスクレスリソグラフィシステムにおいて、散乱光を最小化する。 - 特許庁

To provide a lithography apparatus, and an apparatus manufacturing method utilizing dynamic correction of magnifications and positions in the maskless lithography.例文帳に追加

リソグラフィ装置及びマスクレス・リソグラフィにおける倍率及び位置の動的修正を利用したデバイス製造方法を提供すること。 - 特許庁