masking reagentとは 意味・読み方・使い方

MASKING REAGENT AND SPRAY COATING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

マスキング材および該マスキング材を用いた吹付け塗工方法 - 特許庁

TRACE ELEMENT CONCENTRATION MEASURING METHOD, TRACE ELEMENT CONCENTRATION MEASURING REAGENT, AND MASKING METHOD FOR IRON AND COPPER例文帳に追加

微量元素濃度測定方法、微量元素濃度測定試薬、及び、鉄並びに銅のマスキング方法 - 特許庁

It is preferable that a pressure sensitive adhesive layer 13 is formed on a face abutted at least to the non-coated surface 32 of the masking reagent 10.例文帳に追加

マスキング材１０の少なくとも非塗工面３２への当接面には感圧性接着剤層１３が形成されていることが好ましい。 - 特許庁

The masking reagent 10 includes a thinly long plate-like masking reagent arranged along a boundary between a coated surface 31 and an non-coated surface 32 and to the non-coated surface 32 side during spray coating, a parallelogram in cross section orthogonal to a longitudinal direction, and an acute angle of the parallelogram of 10 to 60 degree.例文帳に追加

このマスキング材１０は、吹付け塗工の際に、塗工面３１と非塗工面３２との境界に沿って、非塗工面３２側に設置する細長い板状のマスキング材であって、長手方向に対して直交する断面形状が平行四辺形であり、かつ、該平行四辺形の鋭角が１０〜６０度である。 - 特許庁

By controlling the crystal orientation of polycrystalline silicon, performing CMP (Chemical Mechanical Polishing) using a masking reagent, and providing an SiO_2 oxide film thickness on the principal plane of the substrate, a low-cost polycrystalline silicon dummy wafer with planarity and excellent in mechanical strength, thermal shock resistance, etc. is provided.例文帳に追加

多結晶シリコンの結晶方位を制御することとマスキング剤を使用したＣＭＰ研磨を行うことと基板の主面上に、ＳｉＯ_2酸化膜厚を備えることにより、平坦性を持ち機械的強度や耐熱衝撃性等に優れ、安価な多結晶シリコンダミーウェハを提供する。 - 特許庁