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novel patternとは 意味・読み方・使い方
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「novel pattern」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 144件
ARTIFICIAL LEATHER HAVING NOVEL PATTERN AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME例文帳に追加
新規模様を有する人工皮革およびその製造方法 - 特許庁
To sort a novel time series pattern.例文帳に追加
新たな時系列パターンを分類できるようにする。 - 特許庁
To provide a pattern forming method by which freedom of a formed pattern is high and a novel pattern face can be obtained.例文帳に追加
形成される模様の自由度が高く、斬新な模様面が得られる模様形成方法を提供する。 - 特許庁
To provide a cylindrical fabric with a novel shape or pattern and to provide a method for knitting the same capable of designing the novel shape or pattern.例文帳に追加
新規な形状や柄を表現することなどが可能な、筒状編地およびその編成方法を提供する。 - 特許庁
NOVEL ELECTRODE PATTERN FOR PIEZOELECTRIC INK JET PRINTER例文帳に追加
圧電式インクジェットプリンタのための新規な電極パターン - 特許庁
VENEER FOR DECORATIVE SHEET OF NOVEL PATTERN AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
新規模様の化粧シート用単板およびその製造方法 - 特許庁
RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, AND NOVEL COMPOUND例文帳に追加
レジスト組成物、レジストパターン形成方法、および新規な化合物 - 特許庁
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「novel pattern」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 144件
RESIST COMPOSITION, RESIST PATTERN FORMING METHOD, AND NOVEL COMPOUND例文帳に追加
レジスト組成物、レジストパターン形成方法および新規な化合物 - 特許庁
RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, NOVEL COMPOUND AND ACID GENERATOR例文帳に追加
レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物、酸発生剤 - 特許庁
RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, NOVEL COMPOUND, AND ACID GENERATOR例文帳に追加
レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物、酸発生剤 - 特許庁
NOVEL METHOD FOR FORMING METAL PATTERN AND FLAT PANEL DISPLAY DEVICE USING THE METAL PATTERN例文帳に追加
新規の金属パターンの製造方法及びこれを用いた平板表示素子 - 特許庁
To easily form not only a grain pattern but also a novel pattern such as a yarn-like or spidery pattern in a short time by a small amt. of a material.例文帳に追加
石目柄はもちろん、糸状、蜘蛛の巣状等の新しいパターンを、短時間に且つ少量の材料で容易に形成する方法を提供する。 - 特許庁
NOVEL EPOXY COMPOUND HAVING ALICYCLIC STRUCTURE, POLYMERIC COMPOUND, RESIST MATERIAL, AND PATTERN-FORMING METHOD例文帳に追加
脂環構造を有する新規エポキシ化合物、高分子化合物、レジスト材料、及びパターン形成方法 - 特許庁
NOVEL POLYIMIDE SILICONE, PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION CONTAINING THE SAME, AND METHOD FOR PATTERN FORMATION例文帳に追加
新規ポリイミドシリコーン及びこれを含有する感光性樹脂組成物並びにパターン形成方法 - 特許庁
RESIST MATERIAL CONTAINING NOVEL PHOTOACID GENERATOR AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加
新規光酸発生剤を含有するレジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁
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