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optical lithography modelとは 意味・読み方・使い方
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「optical lithography model」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 2件
METHOD AND APPARATUS FOR PERFORMING MODEL-BASED PLACEMENT OF PHASE-BALANCED SCATTERING BAR FOR SUB WAVELENGTH OPTICAL LITHOGRAPHY例文帳に追加
サブ波長の光リソグラフィのための位相平衡された散乱バーのモデル・ベースの配置を実施するための方法及び装置 - 特許庁
To provide a system and a method for analyzing layout patterns via simulation using a lithography model to characterize the patterns and generate rules to be used in rule-based optical proximity correction (OPC).例文帳に追加
パターンを特徴付け、ルールベース光学近接効果補正（ＯＰＣ）に用いるルールを生成するために、リソグラフィ・モデルを用いたシミュレーションによってレイアウト・パターンを分析するシステムおよび方法を提供する。 - 特許庁
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1
光リソグラフィモデル
日英・英日専門用語
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