photoresist processとは 意味・読み方・使い方

CYCLIC COMPOUND, PHOTORESIST BASE, PHOTORESIST COMPOSITION, MICROFABRICATION PROCESS AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

環状化合物、フォトレジスト基材、フォトレジスト組成物、微細加工方法及び半導体装置 - 特許庁

PROCESS OF MANUFACTURING POLYMER COMPOUND FOR PHOTORESIST AND PHOTORESIST COMPOSITION例文帳に追加

フォトレジスト用高分子化合物の製造方法及びフォトレジスト組成物 - 特許庁

INSPECTION METHOD OF DEFECT IN PHOTORESIST, MENDING METHOD OF PHOTORESIST, AND MANUFACTURING PROCESS OF PRINTED CIRCUIT BOARD例文帳に追加

フォトレジストの欠陥を検査および修復する方法、並びにプリント回路基板の製造プロセス - 特許庁

The photoresist composition uses the resist resin and the process for producing the photoresist composition is also provided.例文帳に追加

該レジスト用樹脂を用いたホトレジスト組成物およびその製造方法。 - 特許庁

PHOTORESIST POLYMER, PRODUCTION PROCESS THEREFOR, PHOTORESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING PHOTORESIST PATTERN AND SEMICONDUCTOR ELEMENT例文帳に追加

フォトレジスト重合体とその製造方法、フォトレジスト組成物、フォトレジストパターン形成方法、及び半導体素子 - 特許庁

To provide a photoresist resin and a photoresist composition for a resist flow process and a method for forming a contact hole using the composition.例文帳に追加

レジストフロー工程（Resist Flow Process）用フォトレジスト樹脂、フォトレジスト組成物、及びこれを利用したコンタクトホールの形成方法を提供する。 - 特許庁

The photoresist is removed by using N_2/H_2 plasma (process 2).例文帳に追加

続いて、フォトレジストをＮ_２／Ｈ_２プラズマを用いて除去する（工程２）。 - 特許庁

HOMOADAMANTANE DERIVATIVE, PROCESS FOR PREPARING THE SAME, AND PHOTORESIST COMPOSITION例文帳に追加

ホモアダマンタン誘導体、その製造方法及びフォトレジスト組成物 - 特許庁