simultaneous diffractionとは 意味・読み方・使い方

X-RAY DIFFRACTION AND THERMAL ANALYSIS SIMULTANEOUS MEASUREMENT DEVICE例文帳に追加

Ｘ線回折・熱分析同時測定装置 - 特許庁

At this time, the laser beam is divided by using a diffraction optical element and simultaneous multipatterning may be performed.例文帳に追加

このとき、回折光学素子を用いてレーザビームを分割し、かつ、同時マルチパターニング加工を行ってもよい。 - 特許庁

The present invention relates to the simultaneous measurement for four separately polarized beams upon diffraction from a substrate in order to determine properties of the substrate.例文帳に追加

本発明は、基板の特性を求めるために、基板から回折したら、別個に偏光した４つのビームを同時に測定することに関する。 - 特許庁

Simultaneous measurement of two orthogonally polarized beams after subjection to diffraction from a substrate W to determine the characteristics of the substrate W.例文帳に追加

基板Ｗの特性を求めるために、基板Ｗから回折した後、２本の直交的に偏光したビームの同時測定を実行する。 - 特許庁

In the phase cotrast X-ray imaging device using an X-ray interferometer, a simultaneous reflection type X-ray interferometer is used wherein a signal wave is coupled to a reference wave by the simultaneous reflection of a coplanar or nonplanar Bragg case instead of coupling the signal wave to the reference wave by the diffraction of a Laue case as in the past.例文帳に追加

Ｘ線干渉計を利用した位相コントラスト型Ｘ線撮像装置において、従来のラウエケースの回折による信号波と参照波の結合の代わりに、coplanarあるいはnonplanarのブラッグケースの同時反射により信号波と参照波を結合する同時反射型Ｘ線干渉計を用いる。 - 特許庁

An X-ray diffraction and thermal analysis simultaneous measurement device includes functions for executing X-ray diffraction measurement by irradiating a sample for measurement with X-rays and simultaneously executing thermal analysis measurement by heating the sample for measurement and the standard sample, and includes a furnace heating which heats the sample for measurement and the standard sample.例文帳に追加

被測定試料に対しＸ線を照射してＸ線回折測定を実施するとともに、当該被測定試料および標準試料を加熱して熱分析測定を同時に実施する機能を備えたＸ線回折・熱分析同時測定装置であり、被測定試料および標準試料を加熱する加熱炉を備えている。 - 特許庁

In the manufacturing method of a diffraction grating structure for coupling light into or out of the high refractive index dielectric film on a substrate, a high refractive index dielectric film and/or a substrate is irradiated with UV laser beams that are subjected to simultaneous, spatially periodic intensity modulation and, moreover, the period of intensity modulation is selected in accordance with a desired grating period.例文帳に追加

基板上の高屈折率の誘電皮膜に光を結合及び解離するための回折格子構造を製造する方法において、高屈折率の誘電皮膜及び／又は基板に、同時空間的に周期的に強度変調した紫外レーザー光を照射し、しかも強度変調の周期を所望の格子周期に対応して選択する。 - 特許庁