「レジスト現像」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

レジストの現像装置例文帳に追加

DEVELOPMENT APPARATUS FOR RESIST - 特許庁

レジスト現像液および現像方法例文帳に追加

RESIST DEVELOPER AND DEVELOPING METHOD - 特許庁

フォトレジスト現像ノズルおよびフォトレジスト現像装置例文帳に追加

PHOTORESIST DEVELOPMENT NOZZLE AND PHOTORESIST DEVELOPMENT APPARATUS - 特許庁

フォトレジスト現像液及びフォトレジストの現像方法例文帳に追加

PHOTORESIST DEVELOPER AND METHOD FOR DEVELOPING PHOTORESIST - 特許庁

レジスト現像方法及びレジスト現像装置例文帳に追加

RESIST DEVELOPMENT METHOD AND APPARATUS THEREOF - 特許庁

レジスト現像方法およびレジスト現像装置例文帳に追加

METHOD AND APPARATUS FOR RESIST DEVELOPMENT - 特許庁

レジスト現像方法及びレジスト現像装置例文帳に追加

RESIST-DEVELOPING METHOD AND RESIST DEVELOPMENT APPARATUS - 特許庁

レジスト現像方法およびレジスト現像装置例文帳に追加

METHOD AND DEVICE FOR DEVELOPING RESIST - 特許庁

レジスト現像方法及びレジスト現像装置例文帳に追加

RESIST DEVELOPING METHOD AND DEVELOPING DEVICE - 特許庁

レジスト現像方法およびレジスト現像装置例文帳に追加

METHOD OF DEVELOPING RESIST AND APPARATUS FOR DEVELOPING RESIST - 特許庁

フォトレジスト現像ノズル、フォトレジスト現像装置、およびフォトレジスト現像方法例文帳に追加

PHOTORESIST DEVELOPMENT NOZZLE, PHOTORESIST DEVELOPMENT APPARATUS AND METHOD THEREFOR - 特許庁

レジスト処理装置、レジスト塗布現像装置、およびレジスト処理方法例文帳に追加

RESIST PROCESSING APPARATUS, RESIST APPLYING AND DEVELOPING APPARATUS, AND RESIST PROCESSING METHOD - 特許庁

フォトレジスト現像用のノズル座例文帳に追加

NOZZLE SEAT FOR DEVELOPING PHOTORESIST - 特許庁

フォトレジストの現像方法例文帳に追加

METHOD FOR DEVELOPING PHOTORESIST - 特許庁

フォトレジスト層の現像方法例文帳に追加

DEVELOPING METHOD FOR PHOTORESIST LAYER - 特許庁

フォトレジスト膜の現像方法例文帳に追加

METHOD FOR DEVELOPING PHOTORESIST FILM - 特許庁

ホトレジスト用アルカリ性現像液例文帳に追加

ALKALINE DEVELOPING SOLUTION FOR PHOTORESIST - 特許庁

第１のレジスト層が現像される。例文帳に追加

The first resist layer is developed. - 特許庁

レジスト塗布現像処理装置例文帳に追加

RESIST COATING, DEVELOPING, AND PROCESSING APPARATUS - 特許庁

レジスト用現像液組成物例文帳に追加

DEVELOPER LIQUID COMPOSITION FOR RESIST - 特許庁

レジスト塗布現像処理システム例文帳に追加

PROCESSING SYSTEM FOR RESIST APPLICATION/DEVELOPMENT - 特許庁

レジストスピン現像装置例文帳に追加

RESIST SPIN DEVELOPMENT APPARATUS - 特許庁

レジスト膜の現像処理方法例文帳に追加

DEVELOPMENT PROCESSING METHOD FOR RESIST FILM - 特許庁

レジスト現像方法および装置例文帳に追加

RESIST DEVELOPMENT METHOD AND DEVICE - 特許庁

レジスト用現像液組成物例文帳に追加

DEVELOPER COMPOSITION FOR RESIST - 特許庁

露光されたレジスト膜を現像する。例文帳に追加

The exposed resist film is developed. - 特許庁

ネガ型フォトレジスト用現像液例文帳に追加

DEVELOPING SOLUTION FOR NEGATIVE PHOTORESIST - 特許庁

フォトレジスト用現像液及びフォトレジストの現像方法例文帳に追加

DEVELOPING SOLUTION FOR PHOTORESIST AND METHOD FOR DEVELOPING PHOTORESIST - 特許庁

レジスト塗布現像方法、並びにレジスト膜処理装置およびこれを含むレジスト塗布現像装置例文帳に追加

RESIST APPLYING AND DEVELOPING METHOD, RESIST FILM PROCESSING UNIT, AND RESIST APPLYING AND DEVELOPING APPARATUS COMPRISING THE SAME - 特許庁

フォトレジストの現像方法及び現像装置例文帳に追加

METHOD AND APPARATUS FOR DEVELOPING PHOTORESIST - 特許庁

フォトレジスト用現像液及び現像処理装置例文帳に追加

DEVELOPING SOLUTION FOR PHOTORESIST, AND DEVELOPING DEVICE - 特許庁

レジストの現像装置及び現像方法例文帳に追加

RESIST DEVELOPING APPARATUS AND RESIST DEVELOPING METHOD - 特許庁

さらに、現像液を用いてフォトレジスト膜を現像する。例文帳に追加

Further, the photoresist film is developed using a developer. - 特許庁

レジスト現像装置における現像液吐出ノズル例文帳に追加

DEVELOPING SOLUTION DISCHARGE NOZZLE OF RESIST DEVELOPING DEVICE - 特許庁

レジスト現像装置における現像液吐出ノズル例文帳に追加

DEVELOPING SOLUTION DISCHARGE NOZZLE FOR RESIST DEVELOPING APPARATUS - 特許庁

レジスト現像装置における現像液吐出ノズル例文帳に追加

DEVELOPER DISCHARGE NOZZLE IN RESIST DEVELOPING APPARATUS - 特許庁

レジスト塗布現像装置およびレジスト塗布現像方法、並びにレジスト膜処理装置およびレジスト膜処理方法例文帳に追加

RESIST COATING AND DEVELOPING APPARATUS, RESIST COATING AND DEVELOPING METHOD, RESIST-FILM PROCESSING APPARATUS, AND RESIST-FILM PROCESSING METHOD - 特許庁

露光されたフォトレジスト膜を現像してレジストパターンを形成する。例文帳に追加

The exposed photoresist film is developed to form a resist pattern. - 特許庁

そしてフォトレジスト層を現像してレジストパターンを形成する。例文帳に追加

The photoresist layer is developed to form a resist pattern. - 特許庁

レジスト用現像液及びそれを用いたレジストパターン形成方法例文帳に追加

DEVELOPER FOR RESIST AND METHOD FOR FORMING PATTERN BY USING THE SAME - 特許庁

厚膜レジスト用現像液及びレジストパターン形成方法例文帳に追加

LIQUID DEVELOPER FOR THICK FILM RESIST AND RESIST PATTERN FORMING METHOD - 特許庁

レジストパターン形成方法、ネガ型現像用レジスト組成物例文帳に追加

RESIST PATTERN FORMING METHOD, AND RESIST COMPOSITION FOR NEGATIVE DEVELOPMENT - 特許庁

レジストパターンの形成方法およびレジスト塗布現像装置例文帳に追加

RESIST PATTERN FORMING METHOD AND RESIST APPLYING DEVELOPING APPARATUS - 特許庁

レジスト膜を露光、現像して、レジストパターンを形成する。例文帳に追加

The resist film is exposed and developed to form a resist pattern. - 特許庁

レジストパターン形成方法、及びネガ型現像用レジスト組成物例文帳に追加

METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, AND RESIST COMPOSITION FOR NEGATIVE DEVELOPMENT - 特許庁