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AreaBを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 3件
Further, a dummy electrode is provided from above the side surface of the interlayer dielectric 30 to above the interlayer dielectric 26, on a border AreaC between the memory cell region AreaA and the peripheral circuit region AreaB.例文帳に追加
さらに、メモリセル領域AreaAと周辺回路領域AreaBとの境界AreaCには、層間絶縁膜30の側面上から層間絶縁膜26の上に亘るダミー電極が設けられている。 - 特許庁
In the semiconductor device, a capacitor 37 is provided on an interlayer insulating film 26 in a memory cell region AreaA, and an interlayer dielectric 30 is provided on the interlayer dielectric 30 in a peripheral circuit region AreaB.例文帳に追加
本発明の半導体装置では、メモリセル領域AreaAにおける層間絶縁膜26の上にキャパシタ37が設けられ、周辺回路領域AreaBにおける層間絶縁膜30の上に層間絶縁膜30が設けられている。 - 特許庁
Thereafter, the reinforming insulating film 15a is selectively removed and the silicide films 12a, 12b are selectively formed to the silicide forming regions AreaA, by converting the insulating film 15 including carbon of the non-silicide forming region AreaB into the silicide preventing film.例文帳に追加
その後、改質絶縁膜15aを選択的に除去した後、非シリサイド形成領域AreaBの炭素含有絶縁膜15をシリサイド化防止膜にして、シリサイド形成領域AreaAにシリサイド膜12a、12bを選択的に形成する。 - 特許庁
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