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Kaufmannを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 1件
When a micromachine 100 composed of backing film 21 and coating film 24 is formed, FCVA ion source as a film forming source and Kaufmann type ion source as an etching source are used and sacrifice film 24 composed of PMMA soluble in acetone is formed as a support body for the coating film 24.例文帳に追加
下地膜２１および被覆膜２４により構成されるマイクロマシン１００を形成する際、成膜ソースとしてＦＣＶＡイオンソース，エッチングソースとしてカウフマン型イオンソースをそれぞれ用いると共に、被覆膜２４の支持体として、アセトンに可溶なＰＭＭＡにより構成された犠牲膜を形成する。 - 特許庁
| 意味 | 例文 (1件) |
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