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Laser Integration Lineの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 1件
To provide a laser aligner for lithography that makes possible a lithography exposure of sub-micron units such as a pattern line width of 0.3 μm corresponding to a 64-bit DRAM having high integration density.例文帳に追加
高集積密度の高い６４ビットＤＲＡＭに対応するパターン線巾０．３μｍというサブミクロン単位の描画露光が可能となるリソグラフィ用レーザ露光装置を提供する事を目的とする。 - 特許庁
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