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OXIDE FILMの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 16604件
FORMATION OF OXIDE FILM-NITRIDE FILM-OXIDE FILM DIELECTRIC LAYER例文帳に追加
酸化膜/窒化膜/酸化膜誘電層の形成方法 - 特許庁
FILM DEPOSITION METHOD FOR COPPER OXIDE THIN FILM例文帳に追加
酸化銅薄膜の成膜方法 - 特許庁
FILM DEPOSITION METHOD OF MAGNESIUM OXIDE FILM例文帳に追加
酸化マグネシウム膜の成膜方法 - 特許庁
ZINC OXIDE SEMICONDUCTOR FILM例文帳に追加
酸化亜鉛半導体膜 - 特許庁
The dielectric film of the capacity element 53 includes the silicon oxide film 25 (thermal oxide film), the silicon oxide film 37 (HTO film) and the silicon oxide film 31 (thermal oxide film).例文帳に追加
容量素子53の誘電体膜は、シリコン酸化膜25(熱酸化膜)、シリコン酸化膜37(HTO膜)およびシリコン酸化膜31(熱酸化膜)を含む。 - 特許庁
OXIDE COATING FILM, MATERIAL COATED WITH OXIDE COATING FILM, AND METHOD FOR FORMING OXIDE COATING FILM例文帳に追加
酸化物皮膜、酸化物皮膜被覆材および酸化物皮膜の形成方法 - 特許庁
OXIDE FILM DEPOSITION METHOD例文帳に追加
酸化物膜成膜方法 - 特許庁
OXIDE FILM DEPOSITION METHOD AND OXIDE FILM MEMBER例文帳に追加
酸化物膜形成方法および酸化物被膜部材 - 特許庁
PRODUCTION OF TITANIUM OXIDE FILM AND THE RESULTANT TITANIUM OXIDE FILM例文帳に追加
酸化チタン膜の製造方法および酸化チタン膜 - 特許庁
FILM DEPOSITION METHOD OF METAL OXIDE FILM例文帳に追加
金属酸化物膜の成膜方法 - 特許庁
OXIDE FILM THICKNESS MEASURING METHOD例文帳に追加
酸化膜厚測定方法 - 特許庁
PROJECTION TYPE OXIDE FILM STRUCTURE例文帳に追加
凸型酸化膜構造体 - 特許庁
OXIDE FILM FORMATION METHOD, OXIDE FILM, PARTS AND ELECTRONIC EQUIPMENT例文帳に追加
酸化膜形成方法、酸化膜、部品および電子機器 - 特許庁
PRODUCTION OF OXIDE FILM例文帳に追加
酸化物膜の製造方法 - 特許庁
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